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標(biāo)簽 > 氮化鎵
氮化鎵,分子式GaN,英文名稱Gallium nitride,是氮和鎵的化合物,是一種直接能隙(direct bandgap)的半導(dǎo)體,自1990年起常用在發(fā)光二極管中。
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電信和國防市場推動射頻氮化鎵(RF GaN)應(yīng)用
自從20年前第一批商用產(chǎn)品問世,GaN在射頻功率應(yīng)用領(lǐng)域已成為LDMOS和GaAs的重要競爭對手,并且,正在以更低的成本不斷提高性能和可靠性。首批GaN...
德州儀器的默認(rèn)過流保護(hù)方法被歸類為“電流鎖存”保護(hù);這意味著,若在器件中檢測到任何過流故障,F(xiàn)ET將安全關(guān)斷,并在故障復(fù)位前保持關(guān)斷狀態(tài)。在我們的70m...
觀看Gary Lerude (Microwave Journal)和Bryan Goldstein(ADI航空航天與國防業(yè)務(wù)部門總經(jīng)理)的訪談,了解氮化...
FLOSFIA公司開發(fā)出了一種廉價制造氧化鎵晶體的方法
FLOSFIA公司的厲害之處,恰恰是克服了這一阻礙新技術(shù)發(fā)展的、高成本這一問題。碳化硅和氮化鎵成本高的原因在于其從密度較小的氣體通過結(jié)晶的方法獲得。密度...
而GaN技術(shù)可以做到,因為它是目前全球最快的功率開關(guān)器件,并且可以在高速開關(guān)的情況下仍保持高效率水平,能夠應(yīng)用于更小的元件,應(yīng)用于充電器時可以有效縮小產(chǎn)...
2019-01-24 標(biāo)簽:充電器氮化鎵半導(dǎo)體器件 5545 0
在氮化鎵外延結(jié)構(gòu)中首次實現(xiàn)了垂直溝道結(jié)型場效應(yīng)晶體管
雖然晶體管沒有夾斷,但柵極電位確實調(diào)制了漏極電流(高達(dá)1.8倍,柵極為-10V,圖2)。根據(jù)模擬,夾斷發(fā)生在-112V左右。將其放在一位數(shù)范圍內(nèi)需要縮小...
華南師范大學(xué)和北京大學(xué)在(100)硅上開發(fā)了基于氮化鎵(GaN)微絲陣列的紫外(UV)金屬 - 半導(dǎo)體 - 金屬(MSM)探測器。
5G發(fā)展帶動硅基氮化鎵產(chǎn)業(yè),硅基氮化鎵應(yīng)用發(fā)展廣泛
與傳統(tǒng)的金屬氧化物(LDMOS)半導(dǎo)體相比,硅基氮化鎵的性能優(yōu)勢十分明顯——提供的有效功率可超過70%,每個單位面積的功率提升了4~6倍數(shù),從而降低整體...
基于GaN的開關(guān)器件驅(qū)動是關(guān)鍵要素
輸入電壓兼容TTL電平,并且最大輸入電壓可以高達(dá)14V,而不考慮VDD軌電壓。同時,在高側(cè)/低側(cè)的應(yīng)用中,低傳播延遲和軌到軌的時鐘傾斜對效率也是至關(guān)重要...
移動通信標(biāo)準(zhǔn)5G開發(fā)基于氮化鎵(GaN)的經(jīng)濟(jì)高效的高性能技術(shù)
基站是蜂窩網(wǎng)絡(luò)的連接點。它們記錄無線電小區(qū)的傳輸數(shù)據(jù)并將其傳遞。為了確保未來毫米波頻段內(nèi)的數(shù)據(jù)泛濫,基站技術(shù)需要滿足兩個標(biāo)準(zhǔn):輸出功率需要提高,同時保持...
氮化鎵技術(shù)研究新進(jìn)展,如何作為“電力電子應(yīng)用中敏感探針”使用?
美國康奈爾大學(xué),IQE RF LLC和Qorvo公司一直在研究如何更好地將埋入式p型GaN層活化 [Wenshen Li et al, Appl. Ph...
隨著碳化硅、氮化鎵等高開關(guān)頻率器件的逐漸引入,工程師在調(diào)試過程中的測試需求越來越高,此時的高頻信號經(jīng)常會導(dǎo)致使用不同的儀器測試結(jié)果都不一樣情況,到底是哪...
采用碳化硅和氮化鎵材料器件的應(yīng)用及優(yōu)勢介紹
1.1 碳化硅和氮化鎵器件的介紹, 應(yīng)用及優(yōu)勢
歐盟制定了一個雄心勃勃的目標(biāo),即到2050年將其總體溫室氣體排放量降低至少80%。要實現(xiàn)該目標(biāo),汽車行業(yè)的貢獻(xiàn)將非常重要。美國企業(yè)平均燃油經(jīng)濟(jì)性(CAF...
3.4GHz-3.8GHz寬帶基站功放解決方案詳細(xì)過程
中國首家商用氮化鎵(GaN)電子器件生產(chǎn)企業(yè)蘇州能訊高能半導(dǎo)體有限公司 (Dynax Semiconductor, Inc.),發(fā)布適合5G移動通信的寬...
GaN功率電子分立器件產(chǎn)品類型的簡介以及其特點和優(yōu)勢分析
氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)并稱為第三代半導(dǎo)體材料的雙雄。氮化鎵具有寬的直接帶隙、強(qiáng)的原子鍵、高的熱導(dǎo)率、化學(xué)穩(wěn)定性好(幾乎不被任何酸腐蝕)等性質(zhì)...
在氮化鎵技術(shù)中,熱設(shè)計與電氣設(shè)計同等重要
為管理今天的熱設(shè)計,電路設(shè)計人員讓熱量在半導(dǎo)體表面擴(kuò)散,增加器件單元之間的距離或縮小器件單元。但是,熱設(shè)計不僅僅是芯片層面。封裝工程人員也必須幫忙,因為...
最近,麻省理工學(xué)院(MIT)、半導(dǎo)體公司IQE、哥倫比亞大學(xué)、IBM以及新加坡MIT研究與技術(shù)聯(lián)盟的科研人員展示出一項新型設(shè)計,讓氮化鎵功率器件處理的電...
2018-01-04 標(biāo)簽:功率轉(zhuǎn)換晶體管氮化鎵 1.2萬 0
基于GaN固態(tài)放大器可實現(xiàn)的應(yīng)用設(shè)計
以前,GaN還是反射頻電子戰(zhàn)(CREW)應(yīng)用的首選技術(shù); 現(xiàn)在,GaN已被部署到機(jī)載電子戰(zhàn)領(lǐng)域; 未來,GaN將會越來越多的用于工作在毫米波頻率的系統(tǒng)。
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