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標(biāo)簽 > 離子源
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KRi 射頻離子源應(yīng)用于國產(chǎn)離子束濺射鍍膜機(jī) IBSD
上海伯東客戶某高校使用國產(chǎn)品牌離子束濺射鍍膜機(jī)用于金屬薄膜制備, 工藝過程中, 國產(chǎn)離子源鎢絲僅使用 18個小時就會燒斷, 必須中斷鍍膜工藝更換鎢絲, ...
上海伯東大口徑射頻離子源成功應(yīng)用于12英寸IBE 離子束蝕刻機(jī)
上海伯東美國?KRi?考夫曼公司大口徑射頻離子源?RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸?IBE 離子束蝕刻機(jī), 實現(xiàn)...
美國KRi 離子源光通信應(yīng)用, 助力5G技術(shù)發(fā)展
光通信的信息載體是光波,?為了進(jìn)一步提高光通信系統(tǒng)中光信號的傳輸質(zhì)量,?滿足光通信系統(tǒng)的使用要求,??上海伯東美國 KRi 離子源通過離子束濺射, 輔助...
美國 KRi 考夫曼離子源應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng)
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng), 實現(xiàn)小規(guī)模試驗中 2-4 英寸硅片等半導(dǎo)體襯底表面的清潔, ...
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