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CMOS工藝技術的概念、發(fā)展歷程、優(yōu)點以及應用場景介紹
CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor, 互補金屬氧化物半導體)工藝技術是當今集成電路制造的主流技術,...
科普一下先進工藝22nm FDSOI和FinFET的基礎知識
泄漏功率仍然是HKMG(High-K Metal Gate)一個主要問題。從下圖看出,在28nm的High-K Metal Gate Stack中,le...
CMOS 成像傳感器采用全球快門技術,令成像器可捕捉到在快速動態(tài)場景中的圖像,不致令圖像模糊或彎曲。
在GaAs射頻市場獲得成功之后,GaAs光電子正成為一顆冉冉升起的新星 據(jù)麥姆斯咨詢介紹,作為最成熟的化合物半導體之一,GaAs無處不在,儼然成為每部智...
cmos動態(tài)功耗公式,cmos動態(tài)功耗和哪些電路參數(shù)有關
CMOS器件是一種采用CMOS技術制造的電子器件,具有低功耗、耐電磁干擾、高噪聲免疫性等優(yōu)點,被廣泛應用于現(xiàn)代電子領域。本文將介紹cmos動態(tài)功耗公式以...
CMOS技術的圖像傳感器,對高性能、高分辨率成像的要求有哪些?
如今,成像推動了工業(yè)應用的生產(chǎn)力效益,從交通監(jiān)控、車牌識別,到條形碼掃描、機器人引導、機器視覺等等。盡管每種應用都有其獨特的需求(一些需要高幀速率,另一...
當前行業(yè)內(nèi)CMOS寄存器電路設計往往采用主從鎖存器設計的結構,這與傳統(tǒng)“數(shù)字電路設計”課程上學到的D觸發(fā)器電路結構基本一致,而鎖存器部分,則采用了傳輸門...
碳化硅CMOS技術在深紫外或高溫環(huán)境中應用的潛力
紫外(UV)光譜可分為UV-A(315~400?nm)、UV-B(280~315?nm)和UV-C(200~280?nm)頻段。由于敏感光譜帶寬很寬,因...
微流控芯片+光學時域拉伸成像系統(tǒng)實現(xiàn)高通量細胞成像
成像流式細胞儀(IFC)是一種極為強大的工具,可應用于微生物學、免疫學、病毒學、癌癥生物學、干細胞生物學和代謝工程等多個領域。
光纖集成光學和離散光學有望成為光子學集成的一個新分支。這種集成技術可以通過離散的方法方便地在一根光纖中控制和操縱光波,也為集成光學與離散光學的研究提供了...
摘要 在光通信發(fā)展的推動下,硅光子技術已發(fā)展成為主流技術。目前的技術已經(jīng)使得集成光子器件從數(shù)千個激增到數(shù)百萬個,它們主要以數(shù)據(jù)中心通信收發(fā)器的形式出現(xiàn),...
Nanusens在它的CMOS芯片層中制造納米級的傳感器,CMOS芯片也有控制電子。金屬間介電介質(zhì)(IMD)通過鈍化層中的襯墊開口被蝕刻,使用蒸氣高頻 ...
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