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euv

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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。

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特別是,韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術上與外國公司的差距。2019年,韓國本土提出的專利申請數量為40件,超過了國外企業的10件。這是韓國提交的...

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