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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>InAs/GaSb II類(lèi)超晶格長(zhǎng)波焦平面陣列臺(tái)面ICP刻蝕技術(shù)研究

InAs/GaSb II類(lèi)超晶格長(zhǎng)波焦平面陣列臺(tái)面ICP刻蝕技術(shù)研究

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2010-01-13 10:39:491115

非制冷紅外焦平面陣列器件的驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì)

非制冷紅外探測(cè)器以及由多個(gè)敏感單元構(gòu)成的紅外焦平面陣列在軍事及民用領(lǐng)域受到越來(lái)越廣泛的關(guān)注。非制冷紅外探測(cè)器工作于室溫下,所以又稱(chēng)之為室溫紅外探測(cè)器。 UF
2010-07-01 10:05:472278

基于多層壓敏電阻陣列的濾波連接器設(shè)計(jì)

近來(lái)的革新出現(xiàn)了多層平面陣列的濾波式電容器,現(xiàn)在可實(shí)現(xiàn)如瞬態(tài)保護(hù)的功能。采用多層壓敏電阻平面陣列起瞬態(tài)保護(hù)的濾波連接器為產(chǎn)品設(shè)計(jì)提供了一個(gè)可選方案。
2011-06-28 09:31:541285

陣列信號(hào)處理中的DOA估計(jì)技術(shù)研究

陣列信號(hào)處理中的DOA估計(jì)技術(shù)研究,穩(wěn)健的參數(shù)估計(jì)技術(shù)是現(xiàn)代信號(hào)處理的重要研究領(lǐng)域。采用陣列信號(hào)處高分辨新體制電子衛(wèi)星的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。
2012-01-18 15:30:0846

高速太赫茲陣列成像芯片研制成功

高速成像技術(shù)是太赫茲(THz)技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域的重要研究方向之一,它在材料分析、高能物理過(guò)程分析、生物醫(yī)學(xué)成像、人體安檢等方面具有重要的應(yīng)用價(jià)值。然而低溫匹配讀出電路的缺乏,使得快速響應(yīng)光子型焦平面陣列探測(cè)器的設(shè)計(jì)十分困難,進(jìn)而造成THz高速與實(shí)時(shí)成像技術(shù)研究進(jìn)展緩慢。
2016-12-28 09:29:07956

用于非制冷紅外焦平面陣列的高速緩沖器_楊亞楠

用于非制冷紅外焦平面陣列的高速緩沖器_楊亞楠
2017-01-08 10:18:572

基于ANSYS的平面電容傳感器陣列三維仿真研究_劉澤良

基于ANSYS的平面電容傳感器陣列三維仿真研究_劉澤良
2017-03-19 19:07:042

X波段的串饋頻掃平面陣列天線

為了實(shí)現(xiàn)一維頻率掃描,設(shè)計(jì)了一個(gè)X波段的串饋頻掃平面陣列天線。單個(gè)功分器采用四分支定向耦合器,并且引入低通濾波結(jié)構(gòu),在實(shí)現(xiàn)大功分比設(shè)計(jì)的同時(shí)還解決了兩輸出口間的相位偏移問(wèn)題。采用低損耗空氣帶狀線作為
2017-11-13 17:31:3223

時(shí)域高通濾波非均勻性校正算法研究

時(shí)域高通濾波非均勻性校正是一種典型的基于場(chǎng)景的紅外焦平面陣列非均勻性校正算法,但其易產(chǎn)生“鬼影”現(xiàn)象,影響校正效果 實(shí)現(xiàn)紅外焦平面陣列非均勻性自適應(yīng)校正是紅外探測(cè)系統(tǒng)研究中追求的重要目標(biāo),對(duì)提高紅外探測(cè)系統(tǒng)的空間分辨率、溫度分辨率、探測(cè)距離以及輻射量的正確度量具有重要意義。
2017-11-23 13:36:154671

基于平面陣列電磁傳感器的金屬缺陷檢測(cè)新方法

針對(duì)傳統(tǒng)金屬缺陷檢測(cè)方法中存在的缺陷位置、形狀和尺寸測(cè)量失真問(wèn)題,設(shè)計(jì)了新型平面陣列電磁傳感器,該傳感器能有效克服中心區(qū)域檢測(cè)不敏感問(wèn)題,提高檢測(cè)精度,通用性更強(qiáng)。分別采用傳統(tǒng)掃描式檢測(cè)方法
2018-02-09 13:56:230

如何利用神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)消除遙感圖像條帶

紅外焦平面探測(cè)是一種兼具輻射敏感和信號(hào)處理功能的新一代紅外探測(cè)技術(shù),但是由于制造過(guò)程和工作環(huán)境的影響, 使得焦平面陣列(FPA ) 各個(gè)陣列元即使在相同的輻射通量照射下,也會(huì)輸出不相同的響應(yīng)電壓。
2018-10-31 08:30:001962

深度分析無(wú)掃描激光三維成像雷達(dá)研究進(jìn)展及趨勢(shì)

本文結(jié)合無(wú)掃描激光雷達(dá)領(lǐng)域發(fā)展情況,闡述需要提高國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)水平,積極開(kāi)展APD焦平面陣列等先進(jìn)3D傳感器的研制工作,縮小與國(guó)外的差距。
2019-02-15 16:48:4016307

SCD關(guān)于InAsSb nBn中波高溫器件和InAs/GaSb二類(lèi)超晶格pBp長(zhǎng)波器件的研發(fā)歷程

SCD的優(yōu)勢(shì)及主流產(chǎn)品主要是III-V族紅外探測(cè)器。20世紀(jì)90年代開(kāi)始,SCD的研發(fā)重心就放在InSb上,早期主要研究離子注入型平面結(jié)工藝,工藝成熟后開(kāi)始發(fā)展大面陣、小像元焦平面,目的在于減小整機(jī)的尺寸,功耗,重量與成本。
2019-02-25 16:12:4813003

行業(yè) | 非制冷“納米線”中短波紅外光電二極管

磷化銦襯底上的InAs和InAsSb納米線可形成適用于焦平面陣列的室溫SWIR或MWIR光電二極管。
2019-08-05 16:23:203396

基于InAs/GaSbII類(lèi)超晶格長(zhǎng)波紅外探測(cè)器

武漢高芯科技有限公司從2014年開(kāi)始制備基于InAs/GaSbII 類(lèi)超晶格長(zhǎng)波紅外探測(cè)器。在本文中,報(bào)道了像元規(guī)模為640 × 512,像元間距為15 μm的長(zhǎng)波紅外焦平面探測(cè)器。在77
2020-09-15 10:04:513926

慶祝!北方華創(chuàng)ICP刻蝕機(jī)交付已突破1000腔

北方華創(chuàng)(Naura)官方宣布,ICP等離子刻蝕機(jī)第1000腔交付儀式近日在北京亦莊基地舉行,NAURA刻蝕機(jī)研發(fā)團(tuán)隊(duì)見(jiàn)證了這一歷史性時(shí)刻。
2020-12-11 15:30:092176

北方華創(chuàng)ICP刻蝕機(jī)交付突破1000腔

國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)在歷經(jīng)了20年自主創(chuàng)新后得到客戶(hù)廣泛認(rèn)可的重要標(biāo)志,未來(lái)會(huì)持續(xù)在等離子刻蝕ICP技術(shù)領(lǐng)域?qū)で蟾嗤黄啤?北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司成立于2001年,由北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司、北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司戰(zhàn)略重
2020-12-11 15:37:382657

基于ICP的金屬鈦深刻蝕,它的實(shí)驗(yàn)流程是怎樣的

兼容性好.采用電感耦合等離子體源(inductivelycoupledpla蛐,I凹)技術(shù)對(duì)金屬鈦進(jìn)行三雛深刻蝕,采用不同刻蝕掩模、氯基刻蝕氣體,研究了線圈功率、平板功率和娼流量對(duì)刻蝕速率和選擇比等工藝參數(shù)的影響,并對(duì)砸深刻蝕參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化,得到0.
2020-12-29 14:47:002366

高性能銻化物超晶格中紅外探測(cè)器研究進(jìn)展

InAs/GaSb晶格中存在著嚴(yán)重的SRH復(fù)合,研究發(fā)現(xiàn),與Ga有關(guān)的本征缺陷在禁帶中心附近引入了缺陷能級(jí)形成的復(fù)合中心是導(dǎo)致SRH機(jī)制主要原因,因此,無(wú)Ga型的InAs/InAsSb超晶格結(jié)構(gòu)被提出。
2022-04-19 14:35:471483

基于銻化物Ⅱ類(lèi)超晶格InAs/InAsSb的研究進(jìn)展

在半導(dǎo)體超晶格材料體系中,基于Ⅲ-V族半導(dǎo)體的超晶格材料是人們的研究熱點(diǎn),其帶隙在0.1~1.7eV之間,可作為紅外波段光電子器件的材料,也可應(yīng)用在工業(yè)檢測(cè)、監(jiān)控、測(cè)溫、醫(yī)學(xué)以及光電搜索、偵探、氣象衛(wèi)星和氣候監(jiān)測(cè)等方面。
2022-08-13 10:21:201881

II類(lèi)超晶格紅外探測(cè)器原理

二類(lèi)超晶格的概念由IBM研究院的Sai-Halasz和Esaki 等科學(xué)家于1977年提出隨后他們對(duì)InAs/GaSb二類(lèi)超晶格的能帶結(jié)構(gòu)進(jìn)行了理論計(jì)算,根據(jù)計(jì)算結(jié)果:InAs/GaSb晶格根據(jù)其周期結(jié)構(gòu)厚度的不同,表現(xiàn)出半導(dǎo)體特性或半金屬特性。
2022-11-24 09:57:133432

昆明物理研究所在長(zhǎng)波p-on-n碲鎘汞紅外焦平面器件方面的研究進(jìn)展

針對(duì)p-on-n長(zhǎng)波碲鎘汞紅外焦平面探測(cè)器展開(kāi)研究,器件采用原位摻In的LPE 技術(shù)在CdZnTe襯底上生長(zhǎng)N型碲鎘汞薄膜,通過(guò)As離子注入及退火激活實(shí)現(xiàn)P摻雜,進(jìn)而制備得到像元間距25μm,640×512陣列的p-on-n長(zhǎng)波平面探測(cè)器
2022-12-05 15:00:11947

華北光電技術(shù)研究所研制中/長(zhǎng)波雙色二類(lèi)超晶格紅外探測(cè)器

二類(lèi)超晶格材料主要通過(guò)調(diào)節(jié)InAsGaSb、AlSb、InSb等層厚來(lái)實(shí)現(xiàn)能帶結(jié)構(gòu)裁剪,實(shí)現(xiàn)響應(yīng)波段、暗電流等其他光電性能調(diào)控,通過(guò)經(jīng)驗(yàn)緊束縛理論和8帶k.p微擾能帶理論等超晶格能帶計(jì)算模型進(jìn)行理論計(jì)算,得到相應(yīng)的材料參數(shù)。
2023-01-13 11:02:551161

InAs/GaSb Ⅱ類(lèi)超晶格長(zhǎng)波紅外探測(cè)器的表面處理研究

InAs/GaSb Ⅱ類(lèi)超晶格近年來(lái)得到迅速的發(fā)展,是最有前景的紅外光電探測(cè)材料之一。隨著探測(cè)器像元中心距不斷減小,對(duì)于臺(tái)面結(jié)器件,其側(cè)壁漏電將占據(jù)主導(dǎo)地位,這對(duì)超晶格探測(cè)器的臺(tái)面制備和鈍化工藝都提出了很高的要求。
2023-01-31 09:30:22907

ICP刻蝕氮化鎵基LED結(jié)構(gòu)的研究

氮化鎵作為一種寬帶隙半導(dǎo)體,已被用于制造發(fā)光二極管和激光二極管等光電器件。最近已經(jīng)開(kāi)發(fā)了幾種用于氮化鎵基材料的 不同干蝕刻技術(shù)。電感耦合等離子體刻蝕因其優(yōu)越的等離子體均勻性和強(qiáng)可控性而備受關(guān)注
2023-02-22 15:45:410

基于雙層微測(cè)輻射熱計(jì)堆疊結(jié)構(gòu)的非制冷長(zhǎng)波紅外探測(cè)器介紹

通過(guò)利用單個(gè)焦平面陣列(FPA)結(jié)合濾光輪來(lái)選擇合適的光譜窗口,使用兩個(gè)FPA及其電子器件分別在兩個(gè)光譜窗口工作,研究人員已實(shí)現(xiàn)了探測(cè)器的光譜選擇性。
2023-03-08 09:54:26662

Ⅱ類(lèi)超晶格紅外探測(cè)器多層膜背增透研究

本文通過(guò)FDTD Solutions建立Ⅱ類(lèi)超晶格紅外焦平面陣列器件仿真模型,通過(guò)改變多層膜中的膜系厚度得到透射和反射光譜,經(jīng)由仿真結(jié)果選擇合適的膜系及厚度,最終實(shí)現(xiàn)探測(cè)器的性能提升與響應(yīng)波長(zhǎng)的調(diào)控。
2023-04-06 10:26:57658

二類(lèi)超晶格制冷紅外焦平面探測(cè)器

?二類(lèi)超晶格制冷紅外探測(cè)器簡(jiǎn)介二類(lèi)超晶格制冷紅外焦平面探測(cè)器的材料名稱(chēng)是基于Ⅲ-Ⅴ族生長(zhǎng)的半導(dǎo)體材料,英文名稱(chēng)T2SL,是紅外熱成像行業(yè)當(dāng)下最前沿的制冷紅外探測(cè)器技術(shù)之一,在制備長(zhǎng)波制冷紅外焦平面
2022-10-31 14:18:321144

非制冷紅外焦平面探測(cè)器是什么?

由于集成電路技術(shù)和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)的迅猛進(jìn)步,非制冷紅外焦平面陣列探測(cè)器技術(shù)已經(jīng)日臻成熟,并且相關(guān)產(chǎn)品也開(kāi)始逐漸實(shí)現(xiàn)系列化。在學(xué)術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界的共同推動(dòng)下,非制冷紅外焦平面探測(cè)器技術(shù)
2023-08-02 15:09:25704

長(zhǎng)/長(zhǎng)波雙色InAs/GaSb晶格平面探測(cè)器芯片研究

雙色紅外探測(cè)器可以同時(shí)獲取目標(biāo)和環(huán)境在兩個(gè)波段的輻射特征,從而有效抑制復(fù)雜的背景噪聲,實(shí)現(xiàn)不受環(huán)境制約的紅外探測(cè),提升目標(biāo)的探測(cè)效果,在預(yù)警、搜索和跟蹤系統(tǒng)中能明顯地降低虛警率,顯著地提高系統(tǒng)性能。
2023-08-11 09:25:06875

大規(guī)模紅外焦平面陣列探測(cè)器的效像元率指標(biāo)

隨著大規(guī)模紅外焦平面陣列探測(cè)器應(yīng)用的日益廣泛,用戶(hù)對(duì)其有效像元率指標(biāo)提出了越來(lái)越高的要求。
2023-08-14 09:52:52433

基于干法刻蝕工藝路線和濕法腐蝕工藝路線研究

識(shí)別,從而顯著提高系統(tǒng)性能。碲鎘汞材料、量子阱材料和銻化物Ⅱ類(lèi)超晶格材料均可用于制備雙色紅外探測(cè)器。其中,InAs/GaSb Ⅱ類(lèi)超晶格材料因其帶隙靈活可調(diào)、電子有效質(zhì)量更大、大面積均勻性高等特點(diǎn)以及成本優(yōu)勢(shì),成為制備雙色
2023-08-25 09:16:42886

什么是紅外焦平面探測(cè)器 紅外焦平面陣列原理

紅外焦平面陣列是紅外系統(tǒng)及熱成像器件的關(guān)鍵部件,是置于紅外光學(xué)系統(tǒng)焦平面上,可使整個(gè)視場(chǎng)內(nèi)景物的每一個(gè)像元與一個(gè)敏感元相對(duì)應(yīng)的多元平面陣列紅外探測(cè)器件,在軍事領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,擁有巨大的市場(chǎng)潛力和應(yīng)用前景。
2023-08-28 10:26:361201

InAs/GaSb Ⅱ類(lèi)超晶格長(zhǎng)波紅外探測(cè)器研究進(jìn)展

隨著材料技術(shù)的發(fā)展,InAs/GaSbⅡ類(lèi)超晶格(T2SLs)的優(yōu)越性日益凸顯,特別適用于中長(zhǎng)波紅外(MLWIR)和甚長(zhǎng)波紅外(VLWIR)探測(cè)。基于InAs/GaSb T2SLs的光電探測(cè)器因具有
2023-09-09 11:34:36602

基于Ⅱ類(lèi)超晶格的中波紅外帶間級(jí)聯(lián)探測(cè)器設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)

基于InAs/GaSb Ⅱ類(lèi)超晶格(T2SL),科研人員成功實(shí)現(xiàn)了短波、中波、長(zhǎng)波和甚長(zhǎng)波的紅外探測(cè)。
2023-10-10 09:09:02424

InAs/GaSb Ⅱ類(lèi)超晶格紅外探測(cè)器背減薄技術(shù)工作研究

InAs/GaSb晶格光敏芯片與讀出電路采用倒裝互連的形式構(gòu)成紅外探測(cè)器芯片。
2023-11-09 11:38:27424

InAs/GaSb晶格臺(tái)面刻蝕工藝研究

在紅外探測(cè)器的制造技術(shù)中,臺(tái)面刻蝕是完成器件電學(xué)隔離的必要環(huán)節(jié)。
2024-01-08 10:11:01206

研究人員開(kāi)發(fā)出一種新型太赫茲成像系統(tǒng)

系統(tǒng)使用的輻射探測(cè)器。 由加州大學(xué)洛杉磯分校Samueli工程學(xué)院電氣和計(jì)算機(jī)工程教授Mona Jarrahi和Aydogan Ozcan領(lǐng)導(dǎo)的研究團(tuán)隊(duì)發(fā)明了一種新的太赫茲焦平面陣列來(lái)解決這個(gè)問(wèn)題。 帶PSR的等離子體光電導(dǎo)THz-FPA 通過(guò)消除逐點(diǎn)捕獲和顯示圖像
2024-01-19 10:05:21277

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