根據(jù)IC Insights的最新研究報告顯示,目前IC公司提供的面向邏輯芯片工藝技術(shù)比以往任何時候都多,邏輯IC工藝技術(shù)已經(jīng)取得重大進(jìn)步。盡管開發(fā)成本不斷增加,但IC制造商仍在繼續(xù)取得巨大進(jìn)步
2019-02-24 15:15:07
5427 全球電子設(shè)計創(chuàng)新企業(yè)Cadence設(shè)計系統(tǒng)公司日前宣布其與TSMC在3D IC設(shè)計基礎(chǔ)架構(gòu)開發(fā)方面的合作。
2012-06-11 09:47:43
1071 化,既無法重復(fù)進(jìn)行光刻、刻蝕、薄膜和摻雜等關(guān)鍵工藝,也無法將制程節(jié)點縮小至納米級的先進(jìn)領(lǐng)域,因此隨著超大規(guī)模集成電路制造的線寬不斷細(xì)小化而產(chǎn)生對平坦化的更高要求和需求,CMP在先進(jìn)工藝制程中具有不可替代且越來越重要的作用。
2023-02-03 10:27:05
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應(yīng)用材料公司推出了一種全新的先進(jìn)邏輯芯片布線工藝技術(shù),可微縮到3納米及以下技術(shù)節(jié)點。
2021-06-18 10:21:42
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基于10nm++開發(fā)7nm工藝、基于7nm設(shè)計開發(fā)5nm工藝,基于5nm工藝來開發(fā)3nm工藝,毫無疑問,每一個“+”或者“++”所擁有的技術(shù)更新都將有可能進(jìn)入下一代節(jié)點的設(shè)計之中。 在7nm節(jié)點之后
2020-07-07 11:38:14
241.3 中國開源發(fā)展簡史271.4 開源軟件與知識產(chǎn)權(quán)31第二章 開發(fā)者發(fā)展現(xiàn)狀392.1 中國開發(fā)者的規(guī)模位居全球第二392.2 開發(fā)者不斷沉淀和積累,技術(shù)管理占比越來越高402.3 開發(fā)者對開
2022-12-08 09:47:47
BiCMOS為重點發(fā)展方向,為公司開發(fā)的IC產(chǎn)品提供了有力的技術(shù)保障,相比其他fabless公司有獨特的優(yōu)勢。 <p>貝嶺在九十年代初(1992)成功開發(fā)電表芯片,2000年推出
2008-05-28 12:58:36
對產(chǎn)量的要求,而是這些IC設(shè)計公司開發(fā)出來的產(chǎn)品很難找到用戶,這種情況從每年在深圳舉辦的各種IC技術(shù)交流會上都可以看到。這說明,中國的IC產(chǎn)業(yè)發(fā)展的瓶頸并不是在IC加工能力上,而是IC設(shè)計公司沒有開發(fā)
2011-04-28 09:56:32
摘 要:先進(jìn)封裝技術(shù)不斷發(fā)展變化以適應(yīng)各種半導(dǎo)體新工藝和材料的要求和挑戰(zhàn)。在半導(dǎo)體封裝外部形式變遷的基礎(chǔ)上,著重闡述了半導(dǎo)體后端工序的關(guān)鍵一封裝內(nèi)部連接方式的發(fā)展趨勢。分析了半導(dǎo)體前端制造工藝的發(fā)展
2018-11-23 17:03:35
工藝庫TSMC0.18um和TSMC0.18umrf有什么區(qū)別呢?求大神解答
2021-06-23 07:33:12
工藝節(jié)點中設(shè)計,但是 FD-SOI 技術(shù)提供最低的功率,同時可以承受輻射效應(yīng)。與體 CMOS 工藝相比,28 納米 FD-SOI 芯片的功耗將降低 70%。射頻數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器需要同時具有高帶寬和低功耗,以
2023-02-07 14:11:25
COMS工藝制程技術(shù)主要包括了:1.典型工藝技術(shù):①雙極型工藝技術(shù)② PMOS工藝技術(shù)③NMOS工藝技術(shù)④ CMOS工藝技術(shù)2.特殊工藝技術(shù)。BiCOMS工藝技術(shù),BCD工藝技術(shù),HV-CMOSI藝
2019-03-15 18:09:22
EMC設(shè)計、工藝技術(shù)基本要點和問題處理流程推薦給大家參考。。
2015-08-25 12:05:04
水平,購買或者開發(fā)EUV光刻機是否必要?中國應(yīng)如何切實推進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)的發(fā)展?EUV面向7nm和5nm節(jié)點所謂極紫外光刻,是一種應(yīng)用于現(xiàn)代集成電路制造的光刻技術(shù),它采用波長為10~14納米的極紫外光作為
2017-11-14 16:24:44
<br/>? 九. 檢驗工藝<br/>? 十. SMT生產(chǎn)中的靜電防護技術(shù)<br/><
2008-09-12 12:43:03
。 SMT有關(guān)的技術(shù)組成 1、電子元件、集成電路的設(shè)計制造技術(shù) 2、電子產(chǎn)品的電路設(shè)計技術(shù) 3、電路板的制造技術(shù) 4、自動貼裝設(shè)備的設(shè)計制造技術(shù) 5、電路裝配制造工藝技術(shù) 6、裝配制造中使用的輔助材料的開發(fā)生產(chǎn)技術(shù)
2010-03-09 16:20:06
Sic mesfet工藝技術(shù)研究與器件研究針對SiC 襯底缺陷密度相對較高的問題,研究了消除或減弱其影響的工藝技術(shù)并進(jìn)行了器件研制。通過優(yōu)化刻蝕條件獲得了粗糙度為2?07 nm的刻蝕表面;犧牲氧化
2009-10-06 09:48:48
;nbsp; &nbsp;<br/>薛競成----無鉛工藝技術(shù)應(yīng)用和可靠性&nbsp;<br/>主辦單位&
2009-07-27 09:02:35
區(qū)別在于Xilinx選擇28nm節(jié)點的硅工藝技術(shù)。Xilinx并沒有選擇***積體電路公司(TSMC)針對PC上的顯卡芯片量身定制的28nm高性能工藝或針對移動電話ASSP的28nm低功耗工藝,而是與TSMC
2016-12-21 10:56:25
哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一指定應(yīng)用?對此,業(yè)界存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用,但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP
2019-08-02 08:23:59
的發(fā)展。尖端集成電路(Integrated circuit,簡稱IC)可能會成為未來數(shù)位應(yīng)用發(fā)展的主動力,因此,發(fā)展半導(dǎo)體技術(shù)對中國實現(xiàn)科技強國的目標(biāo)至關(guān)重要。盡管中國持續(xù)為本土芯片制造投入巨額資金
2022-09-07 15:40:45
和日趨完善。 全自動貼裝工藝是表面貼裝技術(shù)中對設(shè)備依賴性最強的一個工序,整個SNIT生產(chǎn)線的產(chǎn)能、效率和產(chǎn)品適應(yīng)性,主要取決于貼裝工序,在全自動貼裝中貼片機設(shè)備起決定性作用。但是這絕不意味著設(shè)備決定一切
2018-11-22 11:08:10
PCB部件使用PI膜作為柔性芯板,并覆蓋聚酰亞胺或丙烯酸膜。粘合劑使用低流動性預(yù)浸料,最后將這些基材層壓在一起以制成剛撓性PCB。剛?cè)嵝訮CB制造工藝技術(shù)的發(fā)展趨勢:未來,剛?cè)峤Y(jié)合PCB將朝著超薄,高密度
2019-08-20 16:25:23
業(yè)界對哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用,但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP
2019-07-05 08:13:58
業(yè)界對哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用,但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP
2019-08-20 08:01:20
中國石化加油IC卡工程是一個跨平臺、范圍廣、涉及面寬的全國性系統(tǒng)建設(shè)工程。中國石化股份有限公司應(yīng)對不斷提高的服務(wù)需求、順應(yīng)信息化帶動產(chǎn)業(yè)化的技術(shù)發(fā)展趨勢,利用先進(jìn)的電子信息技術(shù),以IC卡為載體,實現(xiàn)
2019-09-24 07:45:08
如何提高多層板層壓品質(zhì)在工藝技術(shù)
2021-04-25 09:08:11
的工藝技術(shù)可用于晶圓凸起,每種技術(shù)有各自的優(yōu)缺點。其中金線柱焊接凸點和電解或化學(xué)鍍金焊接凸點主要用于引腳數(shù)較少的封裝應(yīng)用領(lǐng)域包括玻璃覆晶封裝、軟膜覆晶封裝和RF模塊。由于這類技術(shù)材料成本高、工序
2011-12-01 14:33:02
求TSMC90nm的工藝庫,請問可以分享一下嗎?
2021-06-22 06:21:52
半導(dǎo)體工藝和RF封裝技術(shù)的不斷創(chuàng)新完全改變了工程師設(shè)計RF、微波和毫米波應(yīng)用的方式。RF設(shè)計人員需要比以往任何時候都更具體、更先進(jìn)的技術(shù)和設(shè)計支持。設(shè)計技術(shù)持續(xù)發(fā)展,RF和微波器件的性質(zhì)在不久的未來
2019-07-31 06:34:51
近日,羅姆憑借超低功耗降壓型電源IC“BD70522GUL”榮獲中國IoT杰出技術(shù)創(chuàng)新獎!新產(chǎn)品“BD70522GUL”是以IoT市場的關(guān)鍵詞“紐扣電池10年驅(qū)動”為目標(biāo)開發(fā)而成的超低功耗降壓型電源
2019-07-11 04:20:24
一條,制衡中國芯片發(fā)展,限制阿斯麥光刻機賣中國,禁止先進(jìn)EDA工具賣給中國企業(yè)和高校,把TSMC忽悠到亞利桑那建3納米fab。當(dāng)然,TSMC也在擔(dān)心美國人偷fab管理體系。 全球爭奪芯片F(xiàn)ab資源
2022-12-05 15:44:07
的先進(jìn)技術(shù)和工藝,研制、開發(fā)出一系列涵蓋存儲系列、輸送系列、搬運系列、工位器具及集裝單元系列等上百種標(biāo)準(zhǔn)或非標(biāo)物流設(shè)備,并可根據(jù)客戶要求規(guī)劃、設(shè)計和制造,完全能滿足眾多企業(yè)的個性化需求。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用
2009-11-11 10:39:17
的先進(jìn)技術(shù)和工藝,研制、開發(fā)出一系列涵蓋存儲系列、輸送系列、搬運系列、工位器具及集裝單元系列等上百種標(biāo)準(zhǔn)或非標(biāo)物流設(shè)備,并可根據(jù)客戶要求規(guī)劃、設(shè)計和制造,完全能滿足眾多企業(yè)的個性化需求。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用
2009-11-12 10:23:26
的先進(jìn)技術(shù)和工藝,研制、開發(fā)出一系列涵蓋存儲系列、輸送系列、搬運系列、工位器具及集裝單元系列等上百種標(biāo)準(zhǔn)或非標(biāo)物流設(shè)備,并可根據(jù)客戶要求規(guī)劃、設(shè)計和制造,完全能滿足眾多企業(yè)的個性化需求。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用
2009-11-13 10:20:08
請詳細(xì)敘述腐蝕工藝工段的工藝流程以及整個前道的工藝技術(shù)
2011-04-13 18:34:13
請問技術(shù)創(chuàng)新是如何推動設(shè)計工藝發(fā)展的?
2021-04-21 06:46:39
功能由配合DSP工作的MCU完成,則通常可實現(xiàn)更低的功耗。功耗更低的工作模式可降低電源管理IC本身的損耗,而借助這種工作模式和改進(jìn)后的工藝技術(shù),電源管理IC及相關(guān)組件的效率可獲得進(jìn)一步提升。
2011-03-10 12:15:55
再流焊工藝技術(shù)研究(SMT工藝):隨著表面貼裝技術(shù)的發(fā)展,再流焊越來越受到人們的重視。本文介紹了再流焊接的一般技術(shù)要求,并給出了典型溫度曲線以及溫度曲線上主要控制點
2009-03-25 14:44:33
30 和艦科技自主創(chuàng)新研發(fā)的0.16 微米硅片制造工藝技術(shù)在原有比較成熟的0.18 微米工藝技術(shù)基礎(chǔ)上,將半導(dǎo)體器件及相關(guān)繞線尺寸進(jìn)行10%微縮(實際尺寸為0.162 微米),大大降低了芯
2009-12-14 11:23:36
25 高壓0.18um 先進(jìn)工藝技術(shù)上海華虹 NEC 電子有限公司工程一部1、簡介項目名稱:高壓0.18μm 先進(jìn)工藝技術(shù),該項目產(chǎn)品屬于30V 高工作電壓的關(guān)鍵尺寸為0.18μm 的邏輯器件。
2009-12-14 11:37:32
9 常用PCB工藝技術(shù)參數(shù).
2010-07-15 16:03:17
66 無鉛波峰焊接工藝技術(shù)與設(shè)備1.無鉛焊接技術(shù)的發(fā)展趨勢
2006-04-16 21:37:53
669 IC工藝技術(shù)問題 集成電路芯片偏置和驅(qū)動的電源電壓Vcc是選擇IC時要注意的重要問題。從IC電源管腳吸納的電流主要取決于該電壓值以及該IC芯片輸出級
2009-08-27 23:13:38
780 提高多層板層壓品質(zhì)工藝技術(shù)技巧 由于電子技術(shù)的飛速發(fā)展,促使了印制電路技術(shù)的不斷發(fā)展。PCB板經(jīng)由單面-雙面一多層發(fā)展,并
2009-11-18 14:13:12
967 TSMC向中國客戶介紹車用電子工藝驗證規(guī)格及套裝服務(wù)
TSMC今(27)日宣布,將于十二月二日在中國廈門所舉行的中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會集成電路設(shè)計分會年會上,向中國客
2009-11-28 16:24:42
1144 高通攜手TSMC,繼續(xù)28納米工藝上合作
高通公司(Qualcomm Incorporated)與其專業(yè)集成電路制造服務(wù)伙伴-TSMC前不久日共同宣布,雙方正在28納米工藝技術(shù)進(jìn)行密切合作。此
2010-01-13 08:59:23
910 中聯(lián)科偉達(dá)實現(xiàn)中國晶硅太陽能電池裝備、工藝技術(shù)國產(chǎn)化
核心提示:2009年,中國太陽能電池和組件的實際出貨量占到世界的一半左
2010-01-22 08:57:57
799 什么是CPU的生產(chǎn)工藝技術(shù)/向下兼容?
CPU的生產(chǎn)工藝技術(shù) 我們常可以在CPU性能列表上看到“工藝技術(shù)”一項,其中有“
2010-02-04 10:41:53
742 采用SiGe:C BiCMOS工藝技術(shù)的射頻/微波產(chǎn)品
恩智浦將在2010年底前推出超過50種采用SiGe:C技術(shù)的產(chǎn)品,其QUBiC4 SiGe:C工藝技術(shù)可提供高功率增益和優(yōu)
2010-05-24 11:06:35
1367 Achronix半導(dǎo)體公司宣布:該公司已經(jīng)戰(zhàn)略性地獲得了英特爾公司22納米工藝技術(shù)的使用權(quán),并計劃開發(fā)最先進(jìn)的現(xiàn)場可編程門陣列(FPGA)
2010-11-15 09:06:29
553 日前,記者從有關(guān)方面獲悉,昆山工研院新型平板顯示技術(shù)中心(簡稱昆山平板顯示中心)和維信諾公司在中國本土率先全線打通了LTPS-TFT背板和OLED顯示屏制造工藝技術(shù),并于201
2010-12-29 09:29:35
534 中國頂尖IC設(shè)計公司已經(jīng)采用了28納米尖端技術(shù)開發(fā)芯片,而9.2% 本地?zé)o晶圓廠半導(dǎo)體公司亦采用先進(jìn)的45納米或以下的工藝技術(shù)進(jìn)行設(shè)計及大規(guī)模量產(chǎn)。
2011-09-07 11:23:50
1556 中國頂尖設(shè)計公司已經(jīng)采用28納米尖端技術(shù)開發(fā)芯片,而本地9.2%無晶圓廠半導(dǎo)體公司亦采用先進(jìn)的45納米或以下的工藝技術(shù)進(jìn)行設(shè)計及大規(guī)模量產(chǎn)
2011-09-13 09:00:40
3212 對3D封裝技術(shù)結(jié)構(gòu)特點、主流多層基板技術(shù)分類及其常見鍵合技術(shù)的發(fā)展作了論述,對過去幾年國際上硅通孔( TSV)技術(shù)發(fā)展動態(tài)給與了重點的關(guān)注。尤其就硅通孔關(guān)鍵工藝技術(shù)如硅片減薄
2011-12-07 11:00:52
149 本文重點描述運用MEMS微機械加工工藝技術(shù)設(shè)計、加工、生產(chǎn)胎壓傳感器IC芯片,希望對大家學(xué)習(xí)MEMS有所幫助
2012-12-11 14:17:26
7238 日前,聯(lián)華電子與SuVolta公司宣布聯(lián)合開發(fā)28納米工藝技術(shù),該工藝將SuVolta的SuVolta的Deeply Depleted Channel晶體管技術(shù)集成到聯(lián)華電子的28納米High-K/Metal Gate高效能移動工藝。
2013-07-25 10:10:52
1049 ? Analog FastSPICE? 電路驗證平臺已完成了電路級和器件級認(rèn)證,Olympus-SoC? 數(shù)字設(shè)計平臺正在進(jìn)行提升,以幫助設(shè)計工程師利用 TSMC 10nm FinFET 技術(shù)更有效地驗證和優(yōu)化其設(shè)計。10nm V1.0 工藝的認(rèn)證預(yù)計在 2015 年第 4 季度完成。
2015-09-21 15:37:10
1300 TSMC已經(jīng)按照Synopsys的IC Compiler? II布局及 布線解決方案,完成了在其最先進(jìn)的10-納米(nm)級FinFET v1.0技術(shù)節(jié)點上運行Synopsys數(shù)字、驗收及自定義實施工具的認(rèn)證。
2016-03-23 09:12:01
1731 半導(dǎo)體的制造流程以及各工位的詳細(xì)工藝技術(shù)。
2016-05-26 11:46:34
0 PCB測試工藝技術(shù),很詳細(xì)的
2016-12-16 21:54:48
0 撓性電路板化學(xué)鎳鈀金工藝技術(shù)研究
2017-01-22 20:56:13
0 確保連續(xù)四代全可編程技術(shù)及多節(jié)點擴展的領(lǐng)先優(yōu)勢四代先進(jìn)工藝技術(shù)和3D IC以及第四代FinFET技術(shù)合作 2015年5月28日, 中國北京 - All Programmable 技術(shù)和器件的全球領(lǐng)先
2017-02-09 03:48:04
198 2017年4月18日,中國上海 – 楷登電子(美國Cadence公司,NASDAQ: CDNS)今日正式發(fā)布針對7nm工藝的全新Virtuoso? 先進(jìn)工藝節(jié)點平臺。通過與采用7nm FinFET
2017-04-18 11:09:49
1165 已經(jīng)浮出水面。人們都認(rèn)為市場上最新的半導(dǎo)體技術(shù)也是您下一設(shè)計最好的工藝技術(shù),這種想法促進(jìn)了 IoT 的雪崩式發(fā)展。 最近在硅谷舉行的 TSMC 輔助支持系統(tǒng)論壇上清楚的闡述了這種發(fā)展。隨著 20、16 和 10 nm 工藝的發(fā)展,最大的代工線負(fù)責(zé)人宣稱,在老工藝尺
2017-09-14 19:52:44
5 Technology (12FFC) 和最新版本 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證。Nitro-SoCTM 布局和布線系統(tǒng)也通過了認(rèn)證,可以支持 TSMC 的 12FFC 工藝技術(shù)。
2017-10-11 11:13:42
2372 業(yè)界對哪種 半導(dǎo)體 工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用,但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像 CMOS 、B iC MOS、砷化鎵(GaAs)、磷化
2017-11-25 02:35:02
456 業(yè)界對哪種半導(dǎo)體工藝最適合某一給定應(yīng)用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術(shù)能更好地服務(wù)一些應(yīng)用,但其它工藝技術(shù)也有很大的應(yīng)用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP
2019-03-15 11:06:13
447 在未來數(shù)年內(nèi),仍有數(shù)不清的機遇推動5G射頻技術(shù)創(chuàng)新,而半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展無疑將扮演重要角色。從整個行業(yè)來看,從工藝和材料開發(fā)到設(shè)計技巧和建模,再到高頻測試和制造,仍有很多工作需要完成。在實現(xiàn)5G目標(biāo)的道路上所有學(xué)科都將參與其中,而半導(dǎo)體工程材料技術(shù)是重中之重。
2018-05-28 14:43:00
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。Mentor 的工具和 TSMC 的新工藝將協(xié)助雙方共同客戶更快地為高增長市場提供芯片創(chuàng)新。 TSMC 設(shè)計基礎(chǔ)架構(gòu)營銷部資深總監(jiān) Suk Lee 表示:“Mentor 通過提供更多功能和解決方案來支持我們最先進(jìn)的工藝,持續(xù)為TSMC 生態(tài)系統(tǒng)帶來了了更高的價值。
2018-05-17 15:19:00
3391 Synopsys設(shè)計平臺用于高性能、高密度芯片設(shè)計 重點: Synopsys設(shè)計平臺獲得TSMC工藝認(rèn)證,支持高性能7-nm FinFET Plus工藝技術(shù),已成功用于客戶的多個設(shè)計項目。 針對
2018-05-17 06:59:00
4461 Synopsys Synopsys近日宣布, Synopsys 設(shè)計平臺獲得TSMC最新版且最先進(jìn)的5nm工藝技術(shù)認(rèn)證,可用于客戶先期設(shè)計。通過與TSMC的早期密切協(xié)作,IC CompilerII
2018-06-01 09:35:00
3784 基于7nm工藝技術(shù)的控制器和PHY IP具有豐富的產(chǎn)品組合,包括LPDDR4X、MIPI CSI-2、D-PHY、PCI Express 4.0以及安全I(xiàn)P。
IP解決方案支持TSMC 7nm工藝技術(shù)所需的先進(jìn)汽車設(shè)計規(guī)則,滿足可靠性和15年汽車運行要求。
2018-10-18 14:57:21
6541 、D-PHY、PCI Express 4.0以及安全I(xiàn)P在TSMC 7nm工藝技術(shù)實現(xiàn)了先進(jìn)的汽車設(shè)計規(guī)則,以滿足ADAS和自動駕駛芯片的可靠性及運行要求。推出此項支持TSMC 7nm工藝技術(shù)的汽車
2018-11-13 16:20:23
1517 關(guān)鍵詞:5nm , Compiler , PrimeTime 新思科技(Synopsys)宣布其數(shù)字和定制設(shè)計平臺通過了TSMC最先進(jìn)的5nm EUV工藝技術(shù)認(rèn)證。該認(rèn)證是多年廣泛合作的結(jié)果,旨在
2018-10-27 22:16:01
255 MPS是一家1997年創(chuàng)立于美國硅谷的模擬IC設(shè)計公司。當(dāng)時,半導(dǎo)體業(yè)界還沒有專門用于電源管理的工藝技術(shù),為此,MPS公司的創(chuàng)始人邢正人開發(fā)了這種工藝技術(shù),它使電源管理芯片的速度更高、面積更小。
2019-01-16 14:58:58
682 IC產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步取決于IC制造商繼續(xù)提供更多性能和功能的能力。隨著主流CMOS工藝在理論,實踐和經(jīng)濟方面的限制
2019-02-25 09:24:51
2768 4月16日,三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿,宣布已經(jīng)完成5納米FinFET工藝技術(shù)開發(fā),現(xiàn)已準(zhǔn)備好向客戶提供樣品。
2019-04-16 17:27:23
3008 PCB板上的線路圖形就是PCB線路板廠家采用曝光成像與顯影蝕刻工藝技術(shù)來完成的,無論是PCB多層線路板還是柔性線路板在制作線路圖形時都要用到曝光成像與顯影工藝技術(shù)。下面來詳細(xì)介紹這兩種工藝的加工特點及加工原理。
2019-04-28 15:10:52
31336 在14版本中,SONNET新引入了一種名為工藝技術(shù)層的屬性定義層,以實現(xiàn)EDA框架和設(shè)計流程的平滑過渡。該工藝技術(shù)層實際上是用戶創(chuàng)建的EM工程中 的多個屬性對象的集合體,其中包括了很多基本屬性設(shè)置,比如層的命名、物理位置、金屬屬性、網(wǎng)格控制選項等等。
2019-10-08 15:17:41
2021 
作為中國大陸技術(shù)最先進(jìn)、規(guī)模最大的晶圓代工企業(yè),中芯國際的制程工藝發(fā)展一直備受關(guān)注。歷經(jīng)20年,其制程工藝從0.18微米技術(shù)節(jié)點發(fā)展至如今的N+1工藝。
2020-10-20 16:50:10
5947 最大的RISC-V架構(gòu)廠商SiFive近日宣布,其OpenFive部門已成功采用臺積電(TSMC)的N5工藝技術(shù)流片公司首個SoC,采用2.5D封裝HBM3存儲單元,帶寬7.2Gbps。在半導(dǎo)體行業(yè)中,流片意味著芯片設(shè)計大功告成,一般會在一年內(nèi)投入商用。
2021-05-01 09:33:00
2960 
多絞屏蔽線處理及焊接工藝技術(shù)綜述
2021-07-12 09:45:59
3 )宣布,其數(shù)字和定制/模擬流程已獲得 TSMC N3 和 N4 工藝技術(shù)認(rèn)證,支持最新的設(shè)計規(guī)則手冊(DRM)。通過持續(xù)合作,Cadence 和 TSMC 發(fā)布了 TSMC N3 和 N
2021-10-26 15:10:58
1928 Siemens Digital Industries Software宣布,其用于模擬、數(shù)字和混合信號集成電路 (IC) 設(shè)計的電源完整性分析的全新 mPower? 解決方案現(xiàn)已通過 Tower Semiconductor 的 SBC13 和 SBC18 工藝技術(shù)的認(rèn)證。
2022-03-16 14:56:57
1762 全面解讀電子封裝工藝技術(shù)
2022-10-10 11:00:51
876 ,包括最新的 N3E 和 N2 工藝技術(shù)。這一新的生成式設(shè)計遷移流程由 Cadence 和臺積電共同開發(fā),旨在實現(xiàn)定制和模擬 IC 設(shè)計在臺積電工藝技術(shù)之間的自動遷移。與人工遷移相比,已使用該流程的客戶成功地將遷移時間縮短了 2.5 倍。
2023-05-06 15:02:15
801 楷登電子(美國 Cadence 公司,NASDAQ:CDNS)近日宣布,Cadence 數(shù)字和定制/模擬設(shè)計流程已通過 TSMC N3E 和 N2 先進(jìn)工藝的設(shè)計規(guī)則手冊(DRM)認(rèn)證。兩家公司還發(fā)
2023-05-09 10:09:23
708 在代工行業(yè),采用先進(jìn)的工藝節(jié)點更能帶來明顯的成本競爭優(yōu)勢。2020年,臺積電(TSMC)是業(yè)界唯一同時使用7nm和5nm工藝節(jié)點用于IC制造的企業(yè),此舉也使得TSMC每片晶圓的總收入大幅增加,達(dá)到1634美元。這一數(shù)字比GlobalFoundries高66%,是UMC和中芯國際的兩倍多。
2023-05-20 14:58:50
629 來源:ACT半導(dǎo)體芯科技 隨著我國集成電路國產(chǎn)化進(jìn)程的加深、下游應(yīng)用領(lǐng)域的蓬勃發(fā)展以及國內(nèi)先進(jìn)封測龍頭企業(yè)工藝技術(shù)的不斷進(jìn)步,先進(jìn)封測行業(yè)市場空間將進(jìn)一步擴大。而能否實現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈的協(xié)同發(fā)展,是先進(jìn)
2023-07-17 20:04:55
320 
2006電子元器件搪錫工藝技術(shù)要求
2023-08-23 16:48:03
3 流程,能兼容所有的 TSMC(臺積電)先進(jìn)節(jié)點,包括最新的 N3E 和 N2 工藝技術(shù)。 這款生成式設(shè)計遷移流程由 Cadence 和 TSMC 共同開發(fā),旨在實現(xiàn)定制和模擬 IC 設(shè)計在 TSMC
2023-09-27 10:10:04
301 電子產(chǎn)品裝聯(lián)工藝技術(shù)詳解
2023-10-27 15:28:22
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密性等。本文介紹了五種用于MEMS封裝的封帽工藝技術(shù),即平行縫焊、釬焊、激光焊接、超聲焊接和膠粘封帽。總結(jié)了不同封帽工藝的特點以及不同MEMS器件對封帽工藝的選擇。本文還介紹了幾種常用的吸附劑類型,針對吸附劑易于飽和問題,給出了封帽工藝解決方案,探
2024-02-25 08:39:28
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