EUV光刻光源核心部件研究獲新進(jìn)展
國(guó)內(nèi)權(quán)威期刊《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》日前發(fā)表由中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所團(tuán)隊(duì)提交的《100 kHz重復(fù)頻率錫液滴靶研究》一文。
據(jù)本文介紹，錫液滴發(fā)生器是激光等離子型極紫外線（lpp-euv）光刻光源中最重要的核心部件之一。錫液滴目標(biāo)具有高反復(fù)頻率，小直徑和穩(wěn)定性好的特性。這篇論文顯示了上海光儀器euv光源組最近對(duì)水滴發(fā)生器的研究發(fā)展，包括水滴的直徑、重復(fù)頻率、間隔、位置及穩(wěn)定性等。
目前，該研究所小組研制的錫珠發(fā)生器實(shí)驗(yàn)裝置是100 khz頻率噴射的錫珠直徑40米，間隔230米，工作時(shí)間約5h。在10s的短時(shí)間內(nèi)，豎直和水平方向的位置分別為2米和1米左右不穩(wěn)定。
但是現(xiàn)在商用產(chǎn)品相比，上述的指標(biāo)仍有很大的差距，例如，2015年asml產(chǎn)品中使用液體滴桿、晚，液滴的直徑27米左右、頻率50 khz、液滴間隔大于1 mm，最大3 mm，液滴30 s的位置不穩(wěn)定性~ 1 m，短時(shí)間內(nèi)能夠?qū)崿F(xiàn)。液滴直徑在20分鐘以?xún)?nèi)的不穩(wěn)定性為0.5米。
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