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日本Rapidus決定2024年底引入EUV*** 員工赴ASML學(xué)習(xí)

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-12-06 14:47 ? 次閱讀
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日本半導(dǎo)體公司rafidus以2027年批量生產(chǎn)2nm工程半導(dǎo)體為目標(biāo),正在北海道建設(shè)半導(dǎo)體工廠。該公司5日表示,決定到2024年末為止引進(jìn)euv***,并向荷蘭asml派遣職員,學(xué)習(xí)euv紫外線光刻技術(shù)。

Rapidus從2023年開始與ibm、asml、imec等合作。三星電子今年的目標(biāo)是向ibm和asml派遣100名職員,讓他們學(xué)習(xí)先進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù)。該公司目前已雇用了約300名員工。

此前,世界最大也是唯一的euv制造公司asml也決定在日本北海道千歲市設(shè)立技術(shù)支援部門,在Rapidus芯片工廠附近支援工廠。拉菲德斯的第一家工廠iim-1將于2023年9月動工,2025年4月啟動試制品,2027年投入量產(chǎn)。該公司表示,在正式批量生產(chǎn)之前,將確保1000名新人力。

此前,rafidus和東京大學(xué)表示,將與法國半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)leti合作,開發(fā)出1納米級芯片設(shè)計基礎(chǔ)技術(shù),并到2024年為止,推進(jìn)人力交流及技術(shù)共享。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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