掃描電子顯微鏡是金屬科研工作中應用最廣泛的“神器”。可以說，幾乎每一個研究生都把自己最重要的科研經歷花在了身上。今天的我們就來介紹一下掃描電鏡的原理和應用。

電子顯微鏡利用電子產生圖像，類似于光學顯微鏡利用可見光成像。因為電子的波長比光的波長小得多，所以電子顯微鏡的分辨率比光學顯微鏡高。

掃描電子顯微鏡（SEM），簡稱掃描電子顯微鏡，已成為一種功能強大、用途廣泛的材料表征工具，廣泛應用于材料、冶金、礦產、生物等領域。

掃描電鏡的主要組成部分有：電子光學系統(tǒng)、信號采集與處理系統(tǒng)、圖像顯示與記錄系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、電源及控制系統(tǒng)等。

它用細聚焦電子束轟擊樣品表面，通過產生二次電子、背散射電子等對樣品表面或斷口形貌進行觀察和分析。通過電子和樣品之間的相互作用。

在掃描電鏡中，電子束以網格模式掃描樣品。首先，電子槍在鏡筒頂部產生電子。當電子的熱能超過源材料的功函數(shù)時，它們被釋放，并以高速向帶正電荷的陽極加速。整個電子透鏡管必須處于真空狀態(tài)。

像電子顯微鏡的所有組件一樣，電子槍被密封在一個特殊的真空室中，以防止污染、震動和噪音。除了保護電子槍免受污染，真空環(huán)境有利于獲得高分辨率的圖像。

如果不是真空環(huán)境，鏡筒中可能有其他原子和分子，與電子相互作用，使電子束發(fā)生偏轉，從而降低圖像質量。高真空環(huán)境也提高了鏡筒內探測器的電子收集效率。

樣品和電子之間的相互作用可以產生許多不同類型的電子、光子或輻射。在掃描電子顯微鏡中，用于成像的兩種電子是背散射電子和二次電子。

二次電子是核外電子，由于入射電子的“碰撞”而獲得能量，并從樣品表面逃逸。它們的主要特點是：

(1)能量小于50eV，更容易被探測器前端的電場所吸引，所以陰影效應較弱。

(2)只有樣品表面很淺（約10nm）的部分激發(fā)出的二次電子才能逃出樣品表面,因此二次電子像具有較高的分辨力。

(3)二次電子的產額主要取決于樣品表面的局部斜率，因此二次電子像主要是一個形貌像。

可以被看作是由許多細節(jié)，如凸尖，步驟，和凹坑組成的表面具有不同程度的傾斜。這些細節(jié)的不同部分發(fā)射不同數(shù)量的二次電子，從而產生對比度。

二次電子像分辨率高，無明顯陰影，景深大，立體感強。是掃描電子顯微鏡的主要成像方法，特別適用于粗糙樣品表面的形態(tài)觀察。

審核編輯 黃宇