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微納(香港)科技專注半導(dǎo)體高端設(shè)備,推動(dòng)半導(dǎo)體事業(yè)聚勢(shì)共贏

SEMIEXPO半導(dǎo)體 ? 來(lái)源:SEMIE半導(dǎo)體 ? 2024-03-05 11:42 ? 次閱讀
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半導(dǎo)體設(shè)備是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要支撐。超過(guò)傳統(tǒng)的鋼鐵等行業(yè),成為21世紀(jì)的高附加值、高科技產(chǎn)業(yè)。半導(dǎo)體一般有四個(gè)主要組成部分:集成電路光電子器材、分立器材和傳感器。集成電路是半導(dǎo)體工業(yè)的核心,占到了80%以上。集成電路包括邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片、模擬芯片和mpu等,在性能、集成度、速度等方面的快速發(fā)展是以半導(dǎo)體物理、半導(dǎo)體器件、半導(dǎo)體制造工藝的發(fā)展為基礎(chǔ)的。

毫無(wú)疑問,半導(dǎo)體業(yè)如此巨大的市場(chǎng),半導(dǎo)體設(shè)備為半導(dǎo)體大規(guī)模制造提供制造基礎(chǔ)。未來(lái)半導(dǎo)體器件的集成化、微型化程度必將更高,功能更強(qiáng)大。

微納(香港)科技有限公司

微納(香港)科技有限公司(MNT)成立于2014年,總部設(shè)在中國(guó)香港,是一家專門從事半導(dǎo)體設(shè)備與科研設(shè)備代理的高科技公司,致力于為中國(guó)半導(dǎo)體,材料,機(jī)械,醫(yī)學(xué),汽車,航天等領(lǐng)域提供國(guó)際尖端的制造設(shè)備,檢測(cè)設(shè)備及技術(shù)解決方案。

目前,微納(香港)科技有限公司(MNT)是多家歐美日韓儀器供應(yīng)商在中國(guó)的代理商,主要負(fù)責(zé)相關(guān)設(shè)備在中國(guó)的銷售,技術(shù)支持與售后服務(wù),產(chǎn)品涵蓋多種晶圓減薄機(jī)、CMP化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)、CMP后清洗機(jī)、晶圓顆粒度測(cè)量系統(tǒng)、磁控濺射鍍膜系統(tǒng)、熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng),電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng),納米壓印系統(tǒng)、衍射器件光學(xué)參數(shù)測(cè)量系統(tǒng),光學(xué)散射儀,晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng)、晶圓翹曲度測(cè)量系統(tǒng)、晶圓平整度測(cè)量系統(tǒng)、膜厚測(cè)量?jī)x,勻膠機(jī)、噴膠機(jī)、濕法臺(tái)、臨時(shí)鍵合/解鍵合機(jī)、熱板、晶圓貼膜機(jī)、晶圓貼片機(jī)、掃描超聲顯微鏡,共聚焦拉曼顯微鏡,原子力顯微鏡、光學(xué)輪廓儀、納米壓痕儀、微米壓痕儀、納米劃痕儀、微米劃痕儀、摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)、快速退火爐、棱鏡耦合儀等諸多產(chǎn)品,客戶遍及中國(guó)各大高校、科研院所及著名半導(dǎo)體企業(yè)。

SEMI-e第六屆深圳國(guó)際半導(dǎo)體展于2024年6月26-28日在深圳國(guó)際會(huì)展中心盛大開啟,匯集國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體領(lǐng)域優(yōu)秀企業(yè),微納(香港)科技有限公司將出席此次盛會(huì),依托半導(dǎo)體設(shè)備高端創(chuàng)新力優(yōu)勢(shì),與行業(yè)先鋒們進(jìn)一步構(gòu)建產(chǎn)業(yè)鏈新格局,推動(dòng)半導(dǎo)體發(fā)展事業(yè)聚勢(shì)共贏。

展品推薦

1.德國(guó)SENTRONICS 晶圓厚度測(cè)試系統(tǒng)

● 樣品尺寸:4寸,6寸,8寸,12寸;

● 采用紅外光譜技術(shù),要用于測(cè)量晶圓的厚度、TTV、Bow、Warp以及wafer上各層薄膜厚度;

● 采用白光干涉技術(shù),可得到wafer表面的3D形貌,表面粗糙度,TSV等關(guān)鍵尺寸,測(cè)量范圍為0-100um,分辨率為亞納米水平

2.韓國(guó)CTS CMP化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)

● 樣品尺寸:4寸,6寸,8寸,12寸;

● 采用氣囊加載模式,分區(qū)壓力控制(8寸以下分3區(qū),12寸分5區(qū));

● 拋光墊修整器分區(qū)控制修整(8寸以下分10區(qū),12寸分13區(qū));

● 采用直驅(qū)線性電機(jī),性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)的伺服電機(jī);

● 片內(nèi)非均勻性WIWNU 1sigma,去邊5mm< 5%;

● 片間非均勻性WTWNU 1sigma,去邊5mm< 3%

3.德國(guó)OSIRIS濕法臺(tái)、CMP后清洗機(jī)、勻膠機(jī)、噴膠機(jī)、顯影機(jī)、刻蝕機(jī)、熱板

● 兼容2/4/6/8/12寸晶圓;

手動(dòng)/全自動(dòng)(帶機(jī)械臂/Cassette)可選;

● 極高的均勻性及穩(wěn)定性(勻膠設(shè)備均勻性<1%,濕法刻蝕設(shè)備均勻性<3%);

● 濕法刻蝕/清洗設(shè)備集成自動(dòng)混液系統(tǒng)

半導(dǎo)體行業(yè)要實(shí)現(xiàn)全方位的跨越發(fā)展,半導(dǎo)體設(shè)備是必不可少的環(huán)節(jié)。




審核編輯:劉清

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原文標(biāo)題:微納(香港)科技專注半導(dǎo)體高端設(shè)備,推動(dòng)半導(dǎo)體事業(yè)聚勢(shì)共贏

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