在线观看www成人影院-在线观看www日本免费网站-在线观看www视频-在线观看操-欧美18在线-欧美1级

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

上海新陽再次轉(zhuǎn)換戰(zhàn)場 選擇研發(fā)3D NAND用的KrF 光刻膠

NSFb_gh_eb0fee5 ? 來源:yxw ? 2019-05-21 09:24 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

合作不一定會共贏,還可能“鬧掰”。

2018年,南大光電和上海新陽先后宣布,投入ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化,立志打破集成電路制造最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料之一——高檔光刻膠材料幾乎完全依賴于進口的局面,填補國內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。

顯然,南大光電和上海新陽初入光刻膠領(lǐng)域,無法以一己之力打破技術(shù)壁壘。于是,南大光電選擇與北京科華合作,上海新陽與鄧海博士技術(shù)團隊合作,力求共贏。

入股三年,共贏成了“雙輸”

彼時,南大光電是國內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體用光刻膠供應(yīng)商北京科華的二股東。2015年9月,南大光電入股北京科華并對外宣稱,雙方將共同開展193nm光刻膠的研究與產(chǎn)品開發(fā)。

不過,雙方的合作遲遲沒有進展,直到2018年12月,南大光電宣布使用部分超募資金投資“ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化”項目。項目風(fēng)風(fēng)火火地進行,南大光電組建了自身的技術(shù)團隊,并沒有北京科華的身影。

據(jù)知情人士稱,南大光電收購北京科華后一直存在后續(xù)有效管理問題,根本無法控制北京科華。

2019年1月,南大光電對外宣布轉(zhuǎn)讓北京科華全部股權(quán)。入股三年,南大光電獲得了不錯的投資收益,但雙方并未能合力發(fā)展193nm光刻膠。

2015至2019年,國內(nèi)面板產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)獲得到了飛速發(fā)展,但南大光電、北京科華在光刻膠方面卻顯得有些停滯不前,雙方在其中付出的時間成本,對本身都是一種傷害。

上海新陽光刻膠技術(shù)從何而來?

無獨有偶,上海新陽在發(fā)力光刻膠之路也屢屢受挫。

早在2017年8月,上海新陽就曾宣布以自有資金在韓國設(shè)立全資子公司,企圖通過韓國子公司組織技術(shù)團隊開展黑色光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)和測試,待產(chǎn)品成熟后轉(zhuǎn)移至上海生產(chǎn)。

項目開展前往往是雄心壯志的,上海新陽決心為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的長遠發(fā)展做出貢獻,而項目結(jié)束也令人猝不及防。

半年之后,上海新陽就終止了對外投資設(shè)立韓國全資子公司。上海新陽表示,受多種因素影響,公司現(xiàn)階段無法完成在韓國設(shè)立子公司的注冊工作,公司未來考慮采取其它方式進行平板顯示產(chǎn)業(yè)用的黑色光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn)。

通過在韓國設(shè)立子公司組織技術(shù)團隊的路已然是走不通了,但上海新陽卻更加“堅定”的朝著光刻膠的道路走。

2018年3月,上海新陽宣布與鄧海博士技術(shù)團隊共同投資設(shè)立子公司開展 193nm(ArF)干法光刻膠研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目。子公司原定注冊資本為 1億元人民幣,上海新陽出資 8000 萬元人民幣,占目標(biāo)公司股權(quán)的 80%;鄧海博士技術(shù)團隊出資 2000 萬元人民幣,占目標(biāo)公司股權(quán)的 20%。

2018年5月,上海芯刻微材料技術(shù)有限責(zé)任公司(以下簡稱“芯刻微”)正式設(shè)立。不過,鄧海博士技術(shù)團隊并未實際出資,故此,上海新陽在2018年報中寫道,其對芯刻微的認(rèn)繳比例80%,出資比例為100%,對芯刻微的直接持股比例為100%。

早有知情人士透露,上海新陽與鄧海博士技術(shù)團隊在2018年底就出現(xiàn)了矛盾,2019年初已經(jīng)徹底“鬧掰”了。

果然,2019年5月10日,上海新陽發(fā)布公告稱,經(jīng)公司與合作方充分溝通并達成一致,公司擬以 0 元受讓合作方持有的上海芯刻微公司20%股權(quán),并解除雙方簽訂的《193光刻膠項目合作開發(fā)協(xié)議》及基于“開發(fā)協(xié)議”達成的一切合作。

值得注意的是,鄧海先生為上海新陽193nm光刻膠項目的負(fù)責(zé)人,負(fù)責(zé)光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn)。此外,本次項目的技術(shù)服務(wù)和配套原料服務(wù)也是由鄧海博士控制下珠海雅天提供的。也就是說,鄧海博士技術(shù)團隊是上海新陽193nm光刻膠產(chǎn)品的技術(shù)來源。

不知為何,上海新陽并未對外宣布新的技術(shù)來源和負(fù)責(zé)人。目前,上海新陽193nm光刻膠產(chǎn)品處于實驗室研發(fā)階段,在此情況下,該項目顯得有些“岌岌可危”。

據(jù)知情人士透露,上海新陽已經(jīng)再次轉(zhuǎn)換戰(zhàn)場,選擇研發(fā)3D NAND用的KrF 光刻膠。

從黑色光刻膠到ArF光刻膠再到3D NAND用的KrF 光刻膠,上海新陽在光刻膠的門前來來去去,走走停停。光刻膠本就是一個技術(shù)壁壘非常高的產(chǎn)品,而上海新陽并不是第一個宣稱要向高端光刻膠進軍的廠商,一再轉(zhuǎn)換賽道使其發(fā)展進程更為落后,留給上海新陽的時間,或許不多了。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    335

    文章

    28871

    瀏覽量

    237177
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    339

    瀏覽量

    30932

原文標(biāo)題:進軍光刻膠屢屢受阻,上海新陽路向何方?

文章出處:【微信號:gh_eb0fee55925b,微信公眾號:半導(dǎo)體投資聯(lián)盟】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業(yè)對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠依賴進口。不過近期,國產(chǎn)光刻膠領(lǐng)域捷報頻
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?884次閱讀

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?168次閱讀
    針對晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準(zhǔn)測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?187次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用。 ? 減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法 ? 優(yōu)化光刻膠材料選擇 ? 選擇與半導(dǎo)體襯底兼容性良好的
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?270次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準(zhǔn)測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?192次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?2154次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增感劑有助于提高
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?954次閱讀

    三星減少NAND生產(chǎn)光刻膠使用量

    近日,據(jù)相關(guān)報道,三星電子在3D NAND閃存生產(chǎn)領(lǐng)域取得了重要技術(shù)突破,成功大幅減少了光刻工藝中光刻膠的使用量。 據(jù)悉,三星已經(jīng)制定了未來NAND
    的頭像 發(fā)表于 11-27 11:00 ?630次閱讀

    光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)

    分辨率(resolution)。區(qū)別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般關(guān)鍵尺寸(CD,Critical Dimension)來衡量分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸越小,光刻膠的分辨率越好。
    的頭像 發(fā)表于 11-15 10:10 ?2918次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的主要技術(shù)參數(shù)

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?1648次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強,光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?1836次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場前景展望

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2447次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1513次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?774次閱讀

    如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過程中,需要把PDMS或SU-8光刻膠根據(jù)所需要的厚度來選擇合適的旋涂轉(zhuǎn)速并且使PDMS或SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-26 14:16 ?818次閱讀
    主站蜘蛛池模板: 天天干影院 | 免费网站成人亚洲 | 日韩一级欧美一级一级国产 | 福利观看 | 五月婷婷色 | 主人扒开腿揉捏花蒂调教cfh | 国模龙园园私拍337p | yy6080三级理论韩国日本 | aaa特级毛片| 亚洲精品第一 | 三级电影在线观看视频 | 国产婷婷色一区二区三区 | 免费国产午夜高清在线视频 | 欧美一级别 | 午夜在线播放 | 2018国产一级天天弄 | 狠狠狠色丁香婷婷综合激情 | 中文字幕二区三区 | 色视频在线观看完整免费版 | 美女黄网站 | 日本免费色视频 | 亚洲性天堂 | 四虎国产精品永久在线播放 | 国产91久久最新观看地址 | 久久欧洲视频 | 狠狠色丁香久久婷婷综 | 制服丝袜中文字幕第一页 | 99热网址 | 四虎hu | 色偷偷中文字幕 | 亚洲va久久久噜噜噜久久男同 | 丁香亚洲综合五月天婷婷 | 亚洲视频四区 | 波多野结衣在线观看一区二区三区 | 黄黄网址 | 人人草人人爱 | 欧美一级视频在线高清观看 | 亚洲色五月 | 欧美黄色片视频 | 国产理论最新国产精品视频 | 激情五月婷婷久久 |