動態(tài)
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發(fā)布了文章 2023-01-04 20:59
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發(fā)布了文章 2023-01-04 20:01
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發(fā)布了文章 2023-01-04 20:01
熱塑型聚酰亞胺---TPI(THERMOPLASTIC POLIMIDE)
關鍵詞:國產(chǎn)高端新材料,5G材料,高耐溫絕緣材料,低介電材料,導語:聚酰亞胺(Polyimide,簡寫為PI)指主鏈上含有酰亞胺環(huán)(-CO-NR-CO-)的一類聚合物,是綜合性能最佳的有機高分子材料之一。其耐高溫達400°C以上,長期使用溫度范圍-200~300°C,部分無明顯熔點,高絕緣性能,103赫茲下介電常數(shù)4.0,介電損耗僅0.004~0.007,屬1.4w瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2023-01-04 19:08
PI基材耐高溫結構粘接CBF雙面膠帶(涂膠厚度可定制)
關鍵詞:耐高溫雙面膠帶,耐酸堿耐濕雙面膠帶,高分子材料,膠粘劑,CBF引言:雙面膠是以紙、布、塑料薄膜、彈性體型壓敏膠或樹脂型壓敏膠制成的卷狀膠粘帶。面膠帶按膠性可分為溶劑型膠粘帶(油性雙面膠)、乳液型膠粘帶(水性雙面膠)、熱熔型膠粘帶、壓延型膠粘帶、反應型膠粘帶。一般廣泛用于皮革、銘板、文具、電子、汽車邊飾固定、鞋業(yè)、制紙、手工藝品粘貼定位等用途,目前在電2.4k瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2023-01-04 19:08
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發(fā)布了文章 2022-12-19 18:01
紫外光刻機(桌面型掩膜對準)
MODEL:XT-01-UVlitho-手動版一、產(chǎn)品簡介光刻技術是現(xiàn)代半導體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)的基礎,是集成電路最重要的加工工藝。光刻膠在紫外光的照射下發(fā)生化學變化,通過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設計在掩膜版上的圖形轉移到硅片上形成集成電路。本設備是專門針對企業(yè)及科研單位研發(fā)的一種精密光刻機,它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面2.2k瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2022-12-19 17:57
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發(fā)布了文章 2022-12-16 18:01
PI聚酰亞胺PLIMIDE的介紹
關鍵詞:新材料,聚酰亞胺,導熱填料,復合材料,耐高溫材料摘要:聚酰亞胺(Polyimide,簡寫為PI)指主鏈上含有酰亞胺環(huán)(-CO-NR-CO-)的一類聚合物,是綜合性能最佳的有機高分子材料之一。其耐高溫達400°C以上,長期使用溫度范圍-200~300°C,部分無明顯熔點,高絕緣性能,103赫茲下介電常數(shù)4.0,介電損耗僅0.004~0.007,屬F至H2.5k瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2022-12-16 17:57
模切加工---低介電高導熱絕緣氮化硼膜
關鍵詞:高導熱絕緣,TIM材料,氮化硼,高端材料導語:新通訊技術邁向全面普及,消費電子產(chǎn)品向高功率、高集成、輕薄化和智能化方向加速發(fā)展。由于集成度、功率密度和組裝密度等指標持續(xù)上升,5G時代電子器件在性能不斷提升的同時,工作功耗和發(fā)熱量急遽升高。時代巨大數(shù)據(jù)流量對于通訊終端的芯片、天線等部件提出了更高的要求,器件功耗大幅提升的同時,引起了這些部位發(fā)熱量的急劇1.2k瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2022-12-14 18:01
取向導熱聚合物復合材料的節(jié)能工藝(熱泳)
摘要:導熱聚合物復合材料由沿著特定方向定向的填料組成,形成熱流通道。然而,控制這些填料取向的傳統(tǒng)方法是高成本的能源密集型的,并且需要進行表面修飾,這會降低材料的質量和性能。現(xiàn)在,韓國研究人員已經(jīng)開發(fā)出一種節(jié)能的方法來控制填料的取向,且無需進行表面修飾,從而提高導熱性。由于具有質輕、柔韌和加工靈活性等優(yōu)勢,導熱聚合物復合材料常被用做熱界面材料(TIM)填充在電928瀏覽量