摘要

為了滿足更嚴格的晶圓清潔度要求、新出現(xiàn)的環(huán)境問題和更嚴格的成本效益標準，晶圓清潔技術正慢慢遠離傳統(tǒng)的基于RCA的工藝。本文比較了在同一個濕式臺架上進行的不同先進預澆口清洗工藝的清洗效率。稀釋RCA、稀釋動態(tài)清潔(基于HF/臭氧的工藝)和AFEOL(稀釋SC1、HF和臭氧化學的組合)根據(jù)金屬和顆粒去除性能和主要表面特性(表面粗糙度和少數(shù)載流子壽命)進行評估。還研究了硅和氧化物的消耗。對圖案化的柵極氧化物結構進行電評估，并且將使用優(yōu)化配方的分割批次的電結果與使用常規(guī)RCA工藝獲得的電結果進行比較。這三種先進清潔工藝的穩(wěn)健性已得到明確確立，我們證明它們的性能至少與標準RCA相同。

介紹

柵極前清洗被一致認為是控制薄柵極氧化物完整性的關鍵參數(shù)之一，因此也是最終器件性能和產(chǎn)量的關鍵參數(shù)之一。然而，盡管工藝要求越來越嚴格，多種形式的RCA清洗]仍然是全球集成電路制造中FEOL清洗順序的首選。原因很簡單:濃縮的NH4OH/ H2O2/ H2O混合物(SC1)在去除顆粒方面表現(xiàn)很好，HCl/ H2O2/ H2O混合物(SC2)在去除金屬污染物方面也表現(xiàn)很好。

華林科納提出了一種稀RCA，并討論了它在濕式臺架上的實現(xiàn)。我們介紹了DDC的最新技術進展。我們還引入了一種新的先進的生產(chǎn)線前端清洗技術，即AFEOL，它由氟化氫-臭氧和稀釋SC1化學組成(人們可以稱之為dRCA和DDC工藝之間的中間方法)。

結果和討論

顆粒污染物去除

在SC1化學中，顆粒通過NH4OH/ H2O2混合物的連續(xù)氧化和蝕刻作用被去除，這些化學物質的比例是關鍵參數(shù)，因為它決定了顆粒所附著的表面層的化學溶解速率(欠蝕刻機理)。在優(yōu)化稀SC1溶液的同時，NH4OH/ H2O2的比例保持不變，這已被證明導致硅和二氧化硅的類似蝕刻行為高達0.25/1/500。在0，25/1/20的最佳工作點被明確地建立，用于去除我們研究的所有顆粒類型。

金屬污染物去除

試實驗報告了SCP和-PCD測量的表面壽命數(shù)據(jù)(τscp對應于表面復合壽命，τ pcd對應于少數(shù)載流子壽命)。用RCA/ dRCA清洗或DDC/AFOEL清洗處理的晶圓之間出現(xiàn)了明顯的差異。對于最初被污染的晶片，這種區(qū)別更加明顯。這表明這兩組工藝的殘留金屬污染物略有不同。然而，應該記住，在一階近似下，τ pcd與鐵濃度成反比:[Fe] = (τ pcd)-1X5.1011。因此，通過-PCD測量的50 s的差異僅代表從2.5到3.3X109cm2.如上所述，在這個范圍內，分析技術很難檢測到變化。

硅表面粗糙度

當獲得硅表面的“不切實際的粗糙化”時(通過在BHF或在熱去離子水或在堿溶液中的長時間處理)，檢測到產(chǎn)量損失。另一方面，當涉及相對光滑的表面(低均方根粗糙度)時，均方根粗糙度和固有氧化物性能之間的相關性并不十分清楚。AFEOL清洗也能夠減少高峰的數(shù)量，但RCA和dRCA工藝并非如此。

最終結論

在整片晶圓上，華林科納通過這些先進工藝獲得的顆粒去除效率、金屬去除效率和“表面特性”至少與RCA工藝一樣好(通常更好)。通過測試幾個批次的70柵氧化層結構，它們的堅固性已在圖案化晶圓上得到統(tǒng)計證明。電學結果證實，dRCA、DDC或AFEOL清洗工藝可以作為傳統(tǒng)RCA清洗的成本有效的替代品，具有化學消耗低得多、占地面積小和產(chǎn)量高的優(yōu)點。

新的AFEOL序列累積了SC1化學去除粒子的可靠性(實際上是優(yōu)化的稀釋SC1)和臭氧化學確保最終硅表面完美鈍化的可靠性。由于金屬污染也得到很好的控制，這個過程可能代表著向更先進的清潔策略。

　　審核編輯：湯梓紅