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標簽 > 光刻技術
隨著半導體技術的發展,光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數量級(從毫米級到亞微米級),已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術;使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數量級范圍。光刻技術成為一種精密的微細加工技術。
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早報:三星有望獲得蘋果M1芯片部分代工訂單 因臺積電5nm工藝產能緊張
但外媒最新的報道顯示,5nm工藝已大規模量產的臺積電,目前的產能無法滿足再為蘋果大規模代工M1芯片,蘋果可能會將部分M1芯片的代工訂單,交由臺積電的競爭...
韓國EUV光刻技術方面取得極大進展 專利申請是國外的兩倍以上
IT之家 11 月 16 日消息 據韓國媒體 BusinessKorea 上周報道,韓國本土企業在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。但并沒有提到是哪...
可能很多網友看到這里有點蒙圈,這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普,EUV和DUV到底有啥區別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,...
芯聞精選:松下將改組為控股公司制,下設車載電池等8家業務公司
松下控股下設車載電池、電子零部件、汽車零部件等 8 家業務公司。外媒表示,這樣能夠明確責任和權限,加快公司決策。松下還公布了新的人事任命,常務執行董事楠...
微工程研究所的研究人員采用了新型納米結構化技術,稱為熱掃描探針光刻(thermal scanning probe lithography,t-SPL)技...
該行業正在不斷刷新納米芯片的記錄,這無疑將為我們帶來更多的未來計算可能性。為此,來自世界各地的研究人員正在不斷努力。
黃仁勛稱,英偉達經過與臺積電、ASML、Synopsys(新思科技)三大半導體巨頭的多年合作,終于推出了這一技術,大大降低芯片代工廠在這一工序上所消耗的...
正式獲得美國設備廠商的供應許可后,中芯國際的運營前景將進一步明朗
去年中芯國際被美國列入了實體清單,購買美國廠商的半導體設備及技術受到限制。今天業界消息稱中芯國際已經獲得了美國的許可,14nm及28nm等工藝可以恢復供應。
負性光刻膠。樹脂是聚異戊二烯,一種天然的橡膠;溶劑是二甲苯;感光劑是一種經過曝光后釋放出氮氣的光敏劑,產生的自由基在橡膠分子間形成交聯。從而變得不溶于顯...
特別是,韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術上與外國公司的差距。2019年,韓國本土提出的專利申請數量為40件,超過了國外企業的10件。這是韓國提交的...
最近,基于超分辨率熒光顯微技術這一諾貝爾獎級成果,科學家報道了一種應用于光刻膠的雙光束激光光刻技術。這里使用一道甜甜圈形狀的環形光束,來抑制寫入光束所觸...
但imec先進成像、工藝和材料高級副總裁斯蒂芬·希爾(Steven Scheer)在接受采訪時非常理性地指出,要經濟高效地引入High NA EUV光刻...
在過去的十年中,包括三星電子在內的全球公司進行了深入的研究和開發,以確保技術處于領先地位。最近,代工公司(意指三星)開始使用 5 納米 EUV 光刻技術...
現代工藝技術將晶圓廠設備要求推向極限,需要實現突破其物理極限的高分辨率,這正是計算光刻技術發揮作用的地方。計算光刻就是為芯片生產制作光掩模的技術,它結合...
總體上,三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時,口罩的數量減少了。這是因為EUV將整個行業帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需...
體上,三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時,口罩的數量減少了。這是因為EUV將整個行業帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需要...
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