芯片升級(jí)神助攻 光刻技術(shù)你了解多少？

光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開(kāi)光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。

2018-04-22 標(biāo)簽：光刻技術(shù) 3528 0

臺(tái)積電總市值達(dá)到2482億美元超越英特爾，成為半導(dǎo)體行業(yè)第一

據(jù)臺(tái)積電稱，采用EUV光刻技術(shù)的N7+（7nm+）工藝已經(jīng)大批量的供應(yīng)客戶，但官方?jīng)]有透露具體的合作廠商，目前唯一可完全確認(rèn)的就是華為麒麟990 5G，...

2019-10-12 標(biāo)簽：半導(dǎo)體臺(tái)積電光刻技術(shù) 3517 0

EUV光刻的兩大挑戰(zhàn)者，誰(shuí)扛大旗？

過(guò)去二十年見(jiàn)證了193 nm以下波長(zhǎng)光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準(zhǔn)分子激光器開(kāi)發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力，但主要關(guān)注點(diǎn)是使用 1...

2023-02-02 標(biāo)簽：摩爾定律光刻技術(shù)EUV 3221 0

一種新型激元光刻技術(shù)，已成為工業(yè)制造的關(guān)鍵技術(shù)

據(jù)國(guó)內(nèi)媒體報(bào)道，來(lái)自中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所等單位的研究人員，開(kāi)發(fā)了一種新型飛秒激光等離子激元光刻技術(shù)(FPL)。

2020-05-14 標(biāo)簽：工業(yè)自動(dòng)化光刻技術(shù) 3153 0

利用激光測(cè)振技術(shù)提升MEMS器件仿真精度

設(shè)計(jì)和開(kāi)發(fā)MEMS器件涉及大量的數(shù)學(xué)仿真。在制造過(guò)程中進(jìn)行實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證，不僅成本昂貴且非常耗時(shí)。為了精準(zhǔn)地預(yù)測(cè)系統(tǒng)響應(yīng)，需要驗(yàn)證仿真模型。但是，當(dāng)需要用模型...

2019-11-30 標(biāo)簽：MEMS器件光刻技術(shù)激光成像 3140 0

DNA納米光刻構(gòu)建高度有序的微流控納米界面

與傳統(tǒng)組織活檢相比，檢測(cè)原發(fā)或轉(zhuǎn)移灶中脫離進(jìn)入外周血循環(huán)的腫瘤細(xì)胞（CTC）具有腫瘤分子信息全、侵入性小、取樣方便等優(yōu)勢(shì)。CTC分析技術(shù)的挑戰(zhàn)在于如何從...

2020-06-01 標(biāo)簽：微流控光刻技術(shù) 3111 0

中國(guó)的先進(jìn)封裝技術(shù)取得突破

由于無(wú)法獲得尖端光學(xué)光刻技術(shù)，中國(guó)芯片的制造工程目前限制在14納米，為了獲得更小的芯片、更強(qiáng)的性能，突破尖端包裝技術(shù)更為重要。此前，toff micro...

2023-06-01 標(biāo)簽：芯片封裝光刻技術(shù) 3106 0

東方晶源開(kāi)啟上市輔導(dǎo)，擬科創(chuàng)板IPO

據(jù)資料顯示，東方晶源成立于2014年，專注于集成電路制造收率管理領(lǐng)域，成立初期確立了電子束圖像檢測(cè)、尺寸測(cè)量及計(jì)算光刻技術(shù)為主要研究方向。經(jīng)過(guò)多年的攻關(guān)...

2023-09-05 標(biāo)簽：集成電路圖像檢測(cè)光刻技術(shù) 3018 0

一種通過(guò)軟光刻技術(shù)制造剛性微流控器件的詳細(xì)方案

軟光刻技術(shù)可通過(guò)在可變形彈性體（例如聚二甲基硅氧烷（PDMS））上使用光刻圖形化模具，實(shí)現(xiàn)具有精確特征的微流控器件快速成型（rapid prototyp...

2023-02-14 標(biāo)簽：壓力傳感器光刻技術(shù)PDMS薄膜 2989 0

納米壓印光刻，能讓國(guó)產(chǎn)繞過(guò)ASML嗎？

日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù)，并試圖靠它再次逆襲，日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱，對(duì)比EUV光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和九成電量，...

2023-03-22 標(biāo)簽：芯片光刻技術(shù)ASML 2924 0

新型光刻技術(shù)解決硅材料脆性難題，MEMS機(jī)械性能極限有望突破

聯(lián)合小組經(jīng)過(guò)長(zhǎng)達(dá)十年的研究，重點(diǎn)是采用光刻工藝替代聚焦離子束（FIB）工藝來(lái)完成在硅晶圓上的結(jié)構(gòu)制作。FIB雖然可以實(shí)現(xiàn)硅晶圓結(jié)構(gòu)，但會(huì)對(duì)硅表面造成損傷...

2020-06-24 標(biāo)簽：mems光刻技術(shù)半導(dǎo)體芯片 2903 0

光刻技術(shù)為中心的行業(yè)壁壘，EUV光刻機(jī)并非是是中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的唯一癥結(jié)

在一顆芯片誕生的過(guò)程中，光刻是最關(guān)鍵又最復(fù)雜的一步。 說(shuō)最關(guān)鍵，是因?yàn)楣饪痰膶?shí)質(zhì)將掩膜版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移至硅片，化虛為實(shí)。說(shuō)最復(fù)雜，是因?yàn)楣饪坦に囆枰?..

2020-11-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻技術(shù)EUV光刻機(jī) 2784 0

AMD憑借其5000系列處理器再次成功進(jìn)入了用戶的應(yīng)收名單

該公司最近推出了Ryzen 9 5950X，5900X，5800X和5600X型號(hào)。盡管在Ryzen 5000系列中使用了7 nm光刻技術(shù)，但與前幾代產(chǎn)...

2020-10-23 標(biāo)簽：處理器amd光刻技術(shù) 2712 0

美國(guó)宣布將六項(xiàng)新興技術(shù)添加到《出口管理?xiàng)l例》

美國(guó)實(shí)施出口管制的六大技術(shù)，都與芯片制造中最重要的設(shè)備光刻機(jī)息息相關(guān)，尤其是當(dāng)下5nm芯片已成為高端芯片時(shí)代的主流產(chǎn)品，EUV光刻機(jī)在半導(dǎo)體制程的重要意...

2020-11-19 標(biāo)簽：晶圓芯片制造光刻技術(shù) 2448 0

ASML下一代EUV光刻機(jī)High-NA來(lái)了！

對(duì)于3nm后的節(jié)點(diǎn)，ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列，具有0.55 NA(High-NA)透鏡...

2022-08-17 標(biāo)簽：分辨率光刻技術(shù)ASML 2390 0

美國(guó)將光刻技術(shù)納入出口限制清單

商務(wù)部長(zhǎng)威爾伯·羅斯（Wilbur Ross）宣稱：“關(guān)鍵技術(shù)和新興技術(shù)國(guó)家戰(zhàn)略是保護(hù)美國(guó)國(guó)家安全，確保美國(guó)在軍事、情報(bào)和經(jīng)濟(jì)事務(wù)中保持技術(shù)領(lǐng)先地位的重...

2020-11-12 標(biāo)簽：芯片光刻技術(shù)EUV 2321 0

中芯國(guó)際已根據(jù)香港上市規(guī)則披露了與ASML的批量購(gòu)買協(xié)議

對(duì)此，ASML發(fā)布公告澄清。公告提到，中芯國(guó)際已根據(jù)香港上市規(guī)則披露了與ASML的批量購(gòu)買協(xié)議（VPA）。這與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)，該協(xié)議已于2...

2021-03-12 標(biāo)簽：中芯國(guó)際光刻技術(shù)ASML 2197 0