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標簽 > 光刻技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數(shù)量級(從毫米級到亞微米級),已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù);使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數(shù)量級范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細加工技術(shù)。
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ASML脫胎于飛利浦、成立于1984年,其唯一產(chǎn)品類型就是集成電路制造環(huán)節(jié)中最核心的設(shè)備——光刻機。光刻機設(shè)備通過光源將掩模上的電路圖曝光至涂滿光刻膠的...
光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 標簽:光刻技術(shù) 3692 0
東方晶源開啟上市輔導(dǎo),擬科創(chuàng)板IPO
據(jù)資料顯示,東方晶源成立于2014年,專注于集成電路制造收率管理領(lǐng)域,成立初期確立了電子束圖像檢測、尺寸測量及計算光刻技術(shù)為主要研究方向。經(jīng)過多年的攻關(guān)...
臺積電總市值達到2482億美元超越英特爾,成為半導(dǎo)體行業(yè)第一
據(jù)臺積電稱,采用EUV光刻技術(shù)的N7+(7nm+)工藝已經(jīng)大批量的供應(yīng)客戶,但官方?jīng)]有透露具體的合作廠商,目前唯一可完全確認的就是華為麒麟990 5G,...
軟光刻技術(shù)可通過在可變形彈性體(例如聚二甲基硅氧烷(PDMS))上使用光刻圖形化模具,實現(xiàn)具有精確特征的微流控器件快速成型(rapid prototyp...
過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準分子激光器開發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力,但主要關(guān)注點是使用 1...
設(shè)計和開發(fā)MEMS器件涉及大量的數(shù)學(xué)仿真。在制造過程中進行實驗驗證,不僅成本昂貴且非常耗時。為了精準地預(yù)測系統(tǒng)響應(yīng),需要驗證仿真模型。但是,當需要用模型...
由于無法獲得尖端光學(xué)光刻技術(shù),中國芯片的制造工程目前限制在14納米,為了獲得更小的芯片、更強的性能,突破尖端包裝技術(shù)更為重要。此前,toff micro...
一種新型激元光刻技術(shù),已成為工業(yè)制造的關(guān)鍵技術(shù)
據(jù)國內(nèi)媒體報道,來自中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所等單位的研究人員,開發(fā)了一種新型飛秒激光等離子激元光刻技術(shù)(FPL)。
日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù),并試圖靠它再次逆襲,日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱,對比EUV光刻工藝,使用納米壓印光刻工藝制造芯片,能夠降低將近四成制造成本和九成電量,...
與傳統(tǒng)組織活檢相比,檢測原發(fā)或轉(zhuǎn)移灶中脫離進入外周血循環(huán)的腫瘤細胞(CTC)具有腫瘤分子信息全、侵入性小、取樣方便等優(yōu)勢。CTC分析技術(shù)的挑戰(zhàn)在于如何從...
新型光刻技術(shù)解決硅材料脆性難題,MEMS機械性能極限有望突破
聯(lián)合小組經(jīng)過長達十年的研究,重點是采用光刻工藝替代聚焦離子束(FIB)工藝來完成在硅晶圓上的結(jié)構(gòu)制作。FIB雖然可以實現(xiàn)硅晶圓結(jié)構(gòu),但會對硅表面造成損傷...
2020-06-24 標簽:mems光刻技術(shù)半導(dǎo)體芯片 3088 0
光刻技術(shù)為中心的行業(yè)壁壘,EUV光刻機并非是是中國半導(dǎo)體行業(yè)的唯一癥結(jié)
在一顆芯片誕生的過程中,光刻是最關(guān)鍵又最復(fù)雜的一步。 說最關(guān)鍵,是因為光刻的實質(zhì)將掩膜版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移至硅片,化虛為實。說最復(fù)雜,是因為光刻工藝需要...
研究人員基于不同Pt膜厚與波長比的LGS/Pt器件的結(jié)構(gòu)開展實驗研究。科研人員采用最小二乘法對實驗數(shù)據(jù)進行擬合,得出反射系數(shù)計算公式,利用有限元方法提取...
AMD憑借其5000系列處理器再次成功進入了用戶的應(yīng)收名單
該公司最近推出了Ryzen 9 5950X,5900X,5800X和5600X型號。盡管在Ryzen 5000系列中使用了7 nm光刻技術(shù),但與前幾代產(chǎn)...
對于3nm后的節(jié)點,ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透鏡...
美國實施出口管制的六大技術(shù),都與芯片制造中最重要的設(shè)備光刻機息息相關(guān),尤其是當下5nm芯片已成為高端芯片時代的主流產(chǎn)品,EUV光刻機在半導(dǎo)體制程的重要意...
商務(wù)部長威爾伯·羅斯(Wilbur Ross)宣稱:“關(guān)鍵技術(shù)和新興技術(shù)國家戰(zhàn)略是保護美國國家安全,確保美國在軍事、情報和經(jīng)濟事務(wù)中保持技術(shù)領(lǐng)先地位的重...
光刻測量技術(shù)與感應(yīng)式測量技術(shù)解析
絕對測量法是指編碼器通電時就立即提供位置值并隨時供后續(xù)信號處理電子電路讀取。無需移動軸執(zhí)行參考點回零操作。絕對位置信息來自一系列絕對碼構(gòu)成的光柵刻線。單...
早報:三星有望獲得蘋果M1芯片部分代工訂單 因臺積電5nm工藝產(chǎn)能緊張
但外媒最新的報道顯示,5nm工藝已大規(guī)模量產(chǎn)的臺積電,目前的產(chǎn)能無法滿足再為蘋果大規(guī)模代工M1芯片,蘋果可能會將部分M1芯片的代工訂單,交由臺積電的競爭...
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