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標簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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光刻膠是電子領域微細圖形加工關鍵材料之一,是由感光樹脂、增感劑和溶劑等主要成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下...
光刻膠的組成:樹脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機械與化學性質(如粘附性、膠膜厚度、熱穩定性等);感光劑,感光劑...
光刻機的制造是一項復雜而精密的工藝,需要高度專業化的技術和設備。它涉及到許多關鍵的工藝步驟和組件,如光學系統、曝光光源、掩模制作等。
國內光刻膠領頭企業:北京科華微電子材料有限公司獲得1.7億元投資
近日,沃衍資本攜手江蘇盛世投資、紫荊資本、深圳市投控通產新材料創業投資企業、四川潤資、北京高盟新材料等投資機構完成了對國內光刻膠領頭企業—北京科華微電子...
近日,上海新陽發布公告稱,公司自主研發的KrF(248nm)厚膜光刻膠產品已經通過客戶認證,并成功取得第一筆訂單,取得不錯進展。 ? 光刻膠用于半導體光...
2021-07-03 標簽:光刻膠 2.6萬 0
在北京化工大學理學院院長聶俊眼里,我國雖然已成為世界半導體生產大國,但面板產業整體產業鏈仍較為落后。目前,上游高端電子化學品(LCD用光刻膠)幾乎全部依...
2018-06-25 標簽:光刻膠 2.3萬 0
光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產業的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發劑和成膜樹脂三種主要成分組成,是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化...
從晶圓到芯片,有哪些工藝流程?晶圓制造工藝流程步驟如下: 1.表面清洗 2.初次氧化 3.CVD 4.涂敷光刻膠 5.用干法氧化法將氮化硅去除 6.去除...
這是一種老式的旋轉涂膠機,將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊,可以通過機器的旋轉的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面,光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面,才能保...
來源:浙商證券研究院 光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括:光引發劑(包括光增感劑、光致產酸劑)、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他...
芯片流片是什么意思 芯片流片流程介紹 芯片流片是芯片制造中的一個重要環節。它是指把原來設計好的芯片電路圖轉化為實際的芯片模型。在這個過程中,設計好的芯片...
光刻膠是光刻機研發的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網硅片上涂一層光刻膠。
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