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標(biāo)簽 > 光刻

光刻

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光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開(kāi)孔,以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。

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光刻資訊

幾種典型的光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)方式及精度

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? 光刻對(duì)準(zhǔn)技術(shù)由最初的明場(chǎng)和暗場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)發(fā)展到后來(lái)的干涉全息或外差干涉全息對(duì)準(zhǔn)、混合匹配、由粗略到精細(xì)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)等。對(duì)準(zhǔn)精度也由原來(lái)的微米級(jí)提高到納米級(jí),極...

2021-01-12 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻 3.6萬(wàn) 0

什么是納米壓印光刻技術(shù)

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2021-01-03 標(biāo)簽:納米光刻 2.7萬(wàn) 0

芯片光刻技術(shù)的基本原理及主要步驟

在集成電路的制造過(guò)程中,有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)光刻,正因?yàn)橛辛怂覀儾拍茉谖⑿〉男酒蠈?shí)現(xiàn)功能。 根據(jù)維基百科的定義,光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步...

2020-11-11 標(biāo)簽:芯片集成電路光刻 2.5萬(wàn) 1

光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀、趨勢(shì)及挑戰(zhàn)分析

近兩年來(lái),芯片制造成為了半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的焦點(diǎn)。芯片制造離不開(kāi)光刻機(jī),而光刻技術(shù)則是光刻機(jī)發(fā)展的重要推動(dòng)力。在過(guò)去數(shù)十載的發(fā)展中,光刻技術(shù)也衍生了多個(gè)分支...

2020-11-27 標(biāo)簽:芯片集成電路半導(dǎo)體 2.1萬(wàn) 0

揭秘半導(dǎo)體制造全流程(下篇)

我們已經(jīng)從前兩篇的文章中了解了半導(dǎo)體制造的前幾大步驟,包括晶圓加工、氧化、光刻、刻蝕和薄膜沉積。 ? 在今天的推文中,我們將繼續(xù)介紹最后三個(gè)步驟:互連、...

2021-08-02 標(biāo)簽:光刻半導(dǎo)體制造 1.8萬(wàn) 1

芯片是如何被制造出來(lái)的?芯片光刻流程詳解

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來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀(guān)察在集成電路的制造過(guò)程中,有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因?yàn)橛辛怂覀儾拍茉谖⑿〉男酒蠈?shí)

2019-04-26 標(biāo)簽:芯片硅晶圓光刻 1.5萬(wàn) 0

上海博康光刻設(shè)備及光刻材料項(xiàng)目投資13億落戶(hù)高陵

(綜合自瀟湘晨報(bào) 西安網(wǎng) 財(cái)聯(lián)社)日前,總投資13億元的上海博康項(xiàng)目正式簽約落戶(hù)高陵,標(biāo)志著該區(qū)引進(jìn)國(guó)家戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)、推動(dòng)高質(zhì)量發(fā)展取得新突破。記者了解...

2020-06-09 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻光刻膠 1.4萬(wàn) 0

我國(guó)光刻技術(shù)到底達(dá)到何種水平?

在芯片的生產(chǎn)過(guò)程中,光刻機(jī)是關(guān)鍵設(shè)備,而光刻則是必不可少的核心環(huán)節(jié)。光刻技術(shù)的精度水平?jīng)Q定了芯片的性能強(qiáng)弱,也代表了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的完善程度。我們國(guó)內(nèi)一直希...

2020-12-09 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體晶圓 9523 0

關(guān)于京東方的發(fā)展分析介紹

蒸鍍機(jī)外加金屬鍍罩的雙重門(mén)檻,不僅限制了同業(yè)的生產(chǎn)良率,也為其他品牌的手機(jī)屏設(shè)置了一道分辨率的上限。使其擁有了對(duì)其他手機(jī)品牌的牽制,最好的案例便是曾經(jīng)如...

2019-09-04 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體光刻 9054 0

光刻到底是什么 又有哪幾個(gè)部分

經(jīng)常聽(tīng)說(shuō),高端光刻機(jī)不僅昂貴而且還都是國(guó)外的,那么什么是光刻機(jī)呢?上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過(guò)程,今天我們就來(lái)聊聊什么是光刻~

2020-01-19 標(biāo)簽:光刻 8911 0

探究芯片制作的全過(guò)程

有人說(shuō)芯片是人類(lèi)最高智慧的代表,很多人都無(wú)法理解,接下來(lái)跟隨小編一起了解芯片的制作全過(guò)程,看完你就懂了。 芯片的制造過(guò)程:芯片的原料晶圓→晶圓涂膜→晶圓...

2022-01-01 標(biāo)簽:處理器晶圓光刻 8800 0

什么是光刻

經(jīng)常聽(tīng)說(shuō),高端光刻機(jī)不僅昂貴而且還都是國(guó)外的,那么什么是光刻機(jī)呢?上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過(guò)程,今天我們就來(lái)聊聊什么是光刻~

2020-01-24 標(biāo)簽:集成電路光刻 8689 0

GTC 2023 NVIDIA將加速計(jì)算引入半導(dǎo)體光刻 計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍

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芯片晶圓代工和封測(cè)工藝流程

晶圓清洗是指通過(guò)將晶圓沉浸在不同的清洗藥劑內(nèi)或通過(guò)噴頭將調(diào)配好的清洗液藥劑噴射于晶圓表面進(jìn)行清洗,再通過(guò)超純水進(jìn)行二次清洗,以去除晶圓表面的雜質(zhì)顆粒和殘...

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臺(tái)積電首個(gè)EUV工藝的N7+開(kāi)始向客戶(hù)交付產(chǎn)品

10月7日,臺(tái)積電宣布,其業(yè)界首款可商用的極紫外(EUV)光刻技術(shù)七納米plus(N7+)將向客戶(hù)交付產(chǎn)品。采用EUV技術(shù)的N7+工藝建立在臺(tái)積電成功的...

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MEMS是什么,MEMS的技術(shù)簡(jiǎn)介

MEMS全稱(chēng)Micro Electromechanical System(微機(jī)電系統(tǒng)),是一種通常在硅晶圓上以IC工藝制備的微機(jī)電系統(tǒng),微機(jī)械結(jié)構(gòu)的制備...

2020-12-25 標(biāo)簽:mems光刻晶片鍵合 6736 0

華為哈勃投資入股了長(zhǎng)光華芯,有望進(jìn)入華為激光雷達(dá)產(chǎn)業(yè)鏈

在近日發(fā)布的長(zhǎng)光華芯招股說(shuō)明書(shū)中,我們可以發(fā)現(xiàn)華為哈勃投資入股了長(zhǎng)光華芯,持有其4.98%股份。華為布局激光雷達(dá)產(chǎn)業(yè)鏈的目的不言而喻,也使得長(zhǎng)光華芯有望...

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IC設(shè)計(jì)工程師必須要知道光刻的原因

在30多年的半導(dǎo)體制造歷史上,最大的一個(gè)挑戰(zhàn)就是跟上1965年摩爾做出的預(yù)測(cè),即集成電路中的晶體管數(shù)目每?jī)赡攴环?為了實(shí)現(xiàn)這個(gè)目的,IC尺寸越來(lái)越大...

2018-03-29 標(biāo)簽:ic設(shè)計(jì)工程師光刻 6365 0

光刻技術(shù)是什么,有哪些作用

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光刻是在掩模中轉(zhuǎn)移幾何形狀圖案的過(guò)程,是覆蓋在表面的一層薄薄的輻射敏感材料(稱(chēng)為抗輻射劑) ,也是一種半導(dǎo)體晶片。 圖5.1簡(jiǎn)要說(shuō)明了光刻用于集成電路制...

2022-03-09 標(biāo)簽:晶圓工藝光刻 6068 0

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    德州儀器(TI)MSP430系列超低功耗微控制器包含多種器件,它們特有面向多種應(yīng)用的不同外設(shè)集。這種架構(gòu)與5種低功耗模式相組合,專(zhuān)為在便攜式測(cè)量應(yīng)用中延長(zhǎng)電池使用壽命而優(yōu)化。該器件具有一個(gè)強(qiáng)大的16位 RISCCPU,16位寄存器和有助于獲得最大編碼效率的常數(shù)發(fā)生器。
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松玥a jf_92148107 jf_02593861 jf_55870080 jf_85333630 jf_07556477 jf_44990220 夜漠寒

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