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      標簽　>　光刻

      光刻

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      光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。

      文章：288個 瀏覽：30685次 帖子：5個

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      半導體設備，日本不行了？

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      2023-06-25 標簽：半導體制造設備光刻 1104 0

      俄羅斯政府預計2030年開發出28納米制程技術

      ，俄羅斯政府推出了一項國家計劃，到2030年開發出自己的28納米制程技術，并盡可能利用外國芯片進行逆向工程取得技術，同時也要培養本土人才從事國產芯片的生產工作。

      2022-11-08 標簽：光刻7nm 1093 0

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      什么是光刻掩膜版保護膜？

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      2024-08-16 標簽：芯片光刻保護膜 1083 0

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      2023-11-09 標簽：樹脂光刻電子材料 1049 0

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      這個復合體由兩種設施組成。第一個裝置是為“無掩模納米光刻”設計的，可以在沒有口罩的情況下將圖像投射到基板上。第二種設備位于第一種設備制造的基板圖案上，利...

      2023-10-10 標簽：傳感器光刻人工智能 1044 0

      芯片制造發展是否存在新路徑

      從技術發展的角度看，芯片線寬越來越小，各種光學效應、系統誤差和工藝條件偏差等變得越來越精細。計算光刻可以通過算法建模、仿真計算、數據分析和結果優化等手段...

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      光掩膜基版在光刻中的作用

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      替代EUV光刻，新方案公布！

      來源：半導體行業觀察，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著英特爾、三星、臺積電以及日本即將落成的先進晶圓代工廠 Rapidus盡管各家公司都各自準備將...

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