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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
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據上海證券交易所上市審查委員會公告,艾森股票將于8月14日在科創股票市場上市。艾森股份有限公司從事電子化學品的研究,開發,生產和銷售。電子電鍍、光刻2個...
VCSEL激光在蝕刻和光刻中應用廣泛,提高精度和效率。銀月光科技提供多波長VCSEL激光器,定制化服務,助力工業生產高效高質量。未來,更多種類VCSEL...
分析:450mm,EUV,TSV都將延遲 現在不用再期待了,根據IC insights公司的數據,看起來兩個兩個正在顯現的重要的IC制造技術都將延遲,...
2010-01-26 標簽:光刻 857 0
材料來源:化合物半導體 本刊記者 日前,旗下擁有生命科學、醫藥健康和電子科技三大業務板塊的科技公司默克重磅亮相第五屆中國國際進口博覽會(進博會),并宣布...
與常規紅外材料不同,富硫聚合物可溶解在有機溶劑中,這意味著其可應用于基于溶液的旋涂方法。此外,富硫聚合物擁有的粘滯彈性和動態共價二硫鍵使其可被熱納米壓印...
應對先進工藝碳排放挑戰,Imec開發晶圓廠可持續發展評估模型
隨著技術的發展,與ic制造相關的排放量也增加了,特別是光刻和蝕刻能耗較大,例如n3工程中光刻工序產生的二氧化碳排放量約占45%。imec的工程師們半導體...
龍圖光罩擁有130nm及以上節點的半導體掩模版制備頂尖技術,覆蓋 CAM、光刻、檢測全流程。在功率半導體掩模版領域,其工藝節點已能充分滿足全球主流制程的需求。
SK海力士聯手TEMC開發氖氣回收技術,年度節省400億韓元
SK海力士聯合 TEMC 研發出一套氖氣回收裝置,用以收集及分類處理光刻工藝環境中的氖氣,然后交予 TEMC 進行純化處理,最后回流至 SK 海力士使用。
在本文中,首先論述半導體業界中存在著怎樣的“傻瓜的圍墻”。接下來,由于半導體行業內到處都有壁壘,所以行業內外之間存在著巨大的差異。然后進一步說明汽車與半...
光刻掩膜(也稱為光罩)和模具在微納加工技術中都起著重要的作用,但它們的功能和應用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術中常用的光刻工藝所使用的...
針對HBC太陽電池圖形化技術高成本的瓶頸,隆基綠能持續自主創新研發,放棄了高成本的光刻工藝,采用全激光圖形化技術實現了27.09%的轉換效率。
IBM、美光、應用材料、東京電子宣布合作建設 High-NA EUV 研發中心
12 月 12 日消息,今天早些時候,紐約州長凱西?霍楚爾(Kathy Hochul )宣布與 IBM、美光、應用材料、東京電子(東京威力科創)等半導體...
光刻掩模是光的一種掩蔽模片,其作用有類似于照相的通過它,可以使它“底下“的光劑部分成光,難溶于有機藥品,一部分不感光,易溶于有機藥品,以而制得選擇擴散所...
在正性光刻過程中,掩膜版(Photomask)作為圖形轉移的關鍵工具,其性能直接影響到最終圖形的精確度和質量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求: 圖案準...
英特爾推進面向未來節點的技術創新,在2025年后鞏固制程領先性
英特爾正在按計劃實現其“四年五個制程節點”的目標,目前,Intel 7,采用EUV(極紫外光刻)技術的Intel 4和Intel 3均已實現大規模量產。...
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