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標(biāo)簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔,以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。
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用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻...
TFT-LCD 顯示屏光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在 TFT-LCD 顯示屏制造工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵工序之一,其效果直接影響顯示屏的質(zhì)量與性能。隨著 TFT-LCD 技術(shù)向高分辨率、窄邊框方向...
納米壓印制備硅基 OLED 微型顯示器的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 硅基 OLED 微型顯示器憑借高分辨率、高對比度等優(yōu)勢,在虛擬現(xiàn)實(shí)、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。納米壓印技術(shù)為其制備提供了新方向,而精確測量光刻圖形是...
清華大學(xué)在激光干涉光刻全局對準(zhǔn)領(lǐng)域取得新進(jìn)展
圖1.拼接曝光加工系統(tǒng) 衍射光柵廣泛應(yīng)用于精密測量、激光脈沖壓縮、光譜分析等領(lǐng)域。干涉光刻作為一種無掩膜曝光光刻方法,在衍射光柵加工制造方面具有高效率、...
引言 隨著半導(dǎo)體技術(shù)向高密度、高性能方向發(fā)展,疊層晶圓技術(shù)成為關(guān)鍵。在疊層晶圓制造過程中,光刻膠剝離液的性能對工藝質(zhì)量和器件可靠性影響重大。同時(shí),精確測...
Micro OLED 陽極像素定義層制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
? 引言 ? Micro OLED 作為新型顯示技術(shù),在微型顯示領(lǐng)域極具潛力。其中,陽極像素定義層的制備直接影響器件性能與顯示效果,而光刻圖形的精準(zhǔn)測量...
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