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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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7納米、5納米先進工藝能突破嗎?高端光刻機裝備可以“中國造”嗎?卡脖子技術體現在哪些方面?未來幾年“中國芯”最有可能在哪些方向突破?
近期三星為爭搶EUV設備,高層頻頻傳出密訪ASML,EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV,大家首先想到的就是ASML,ASML并不是一個家喻戶曉的名字...
電子發燒友網報道(文/周凱揚)到了3nm這個工藝節點之后,單靠現有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。為了實現2nm乃至未來的埃米級工藝,將晶...
繼臺積電、三星晶圓代工、英特爾等國際大廠在先進邏輯制程導入極紫外光(EUV)微影技術后,同樣面臨制程微縮難度不斷增高的DRAM廠也開始評估采用EUV技術...
中國的半導體行業面臨著來自美國的巨大阻力。隨著中美貿易爭端的加劇,越來越多的美國廠商無法獲得許可證將技術和產品出口到中國。另外,美國還開始限制向中國出口...
據報道,業內觀察人士稱,在新任副董事長蔣尚義的幫助下,中國芯片巨頭中芯國際將尋求與荷蘭半導體設備公司阿斯麥(ASML)就 EUV 光刻設備進行談判。 報...
2020年ASML對外銷售了31臺EUV光刻機,帶來了45億歐元的收入
2020年ASML對外銷售了31臺EUV光刻機,帶來了45億歐元(折合352.52億元)的收入,占全年銷售額的32.14%。每臺折合11.37億元的EU...
在日前于美國舉行的西部光電展(Photonics West)上,業界多家廠商探討了極紫外光(EUV)微影所需的250W光源、具有發展前景的紅外線與近紅外...
臺積電時程規劃領先業界并積極備妥產能 三星加速時程緊咬臺積電
臺積電、Samsung與Intel在先進制程發展的競爭關系備受市場矚目。過去先進制程發展除了解決微縮閘極寬度上的困難外,EUV光刻機設備性能也是關鍵影響...
從出貨量的不斷增多,再到產品的更新換代。ASML嘗到了EUV帶給他的紅利,但是ASML的首席技術官透露EUV即將走到盡頭,之后的技術可能根本實現不了。
清華團隊實驗演示穩態微聚束成功, 有望為EUV光刻光源提供新技術路線
實驗展示了如何結合現有兩類主要加速器光源——同步輻射光源及自由電子激光——的特性。同步輻射設備發射的光子具有高重復率,但由于它們的時間不相干性,功率相對...
2018年7月18日,ASML公布了2018年第二季度業績報告。報告指出,第二季度銷售額為27.4億歐元,凈利潤為5.84億歐元,毛利率達到43.3%。
DNP 通過自身在印刷技術、信息處理技術方面的優勢,為 Society5.0 所追求的先進信息社會提供各種解決方案。其中,要生產先進信息社會所必須的高性...
相比于2009年今年全球半導體業的態勢好了許多,但是仍有少部分人提出質疑,2010年有那么好嗎?即具備條件了嗎? 在今年1月由SEMI主辦的工業策略年會...
曝Intel已從今年8月份開始訂購用于7nmEUV工藝節點的材料和設備 數據中心GPU或首發
Intel 10nm處理器已經量產發售,明年預計會在市場上井噴,推出桌面CPU等產品。
在半導體工藝進入7nm之后,EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了,全球也只有ASML公司能生產,單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上,ASML還真...
AI、5G應用推動芯片微縮化,要實現5nm、3nm等先進制程,意味著需要更新穎的技術支援以進行加工制造,半導體設備商遂陸續推出新一代方案。AI、5G應用...
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