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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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荷蘭時間2019年7月17日,ASML Holding N.V.(ASML)公布了2019年第二季度財報
EUV工藝已拉響戰局 美光計劃在2021年持續加碼投資DRAM
美光計劃在 2021 年提出建設 A5 廠項目的申請,持續加碼投資 DRAM,將用于 1Znm 制程之后的微縮技術發展。 據悉,目前美光在臺灣地區布局,...
7月11日消息,知情人士表示,由于日本針對對韓國產業至關重要的半導體材料實施更嚴格的出口管制,三星電子明年初推出其最先進處理器芯片的雄心計劃可能會被推遲。
三星于去年4月向全球客戶提供7納米產品,自開始大規模生產7納米產品以來,三星僅在八個月內就推出了6納米產品。三星的微加工工藝技術升級周期正在縮短,特別是...
臺積電首款7納米芯片已經完成設計定案 預計明年4月開始5納米制程風險試產
晶圓代工龍頭臺積電持續沖刺先進制程,采用極紫外光(EUV)微影技術的首款7+納米芯片已經完成設計定案(tape-out),支援最多4層EUV光罩。臺積電...
過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術的發展。在使用 F2 準分子激光器開發基于 157 納米的光刻技術方面付出了一些努力,但主要關注點是使用 1...
2019年31日臺股封關,半導體業股價年度漲幅冠軍由設備商家登精密拿下,1年來股價大漲448.74%,而射頻IC廠立積、LED驅動IC廠凱鈺、ASIC設...
20nm節點在是否應該等待即將投產的EUV光刻法以及是否需要finFET晶體管上引起頗大爭議。本文深入探究20 nm技術的發展前景和挑戰,為大家解惑。
ASML公司Q2季度出貨4臺EUV光刻機,大陸市場營收比例達到19%
光刻機,是半導體芯片生產中最重要的設備之一,荷蘭ASML公司已經成為全球光刻機市場的一哥,壟斷了高端光科技生產,在EUV光刻機領域更是獨一份。
在芯片制造的產業鏈中,光刻機是必不可少的精密設備,是集成電路芯片制造中最復雜和關鍵的工藝步驟。“我國EUV光刻機的自主研發還有很長的路要走,基于SSMB...
三星和SK海力士都已實現,EUV DRAM 的壓力來到美光這邊?
近日,SK海力士官網發布新聞消息稱,公司已于7月初開始量產適用第四代10nm(1a)級工藝的8Gb LPDDR4 移動端DRAM產品。值得注意的是,這是...
在當前全球晶圓制造的先進制程領域中,只剩下臺積電、三星以及英特爾可以一較高下。三星雖然早在 2018 年 10 月份就已經宣布量產 7 納米 EUV 制...
盡管三星方面沒有透露具體的公司名字,但出售EUV光刻膠的應該是日本JSR公司與比利時微電子中心IMEC合作成立的公司,2016年成立,主要由JSR比利時...
去年4月,中芯國際向荷蘭ASML公司訂購了一臺EUV光刻機,用于研究7nm及以下的先進工藝。花費超過1.2億歐元(約10億人民幣),預計今年底交貨,20...
在半導體電路形成所必需的“感光材料”領域,日本東洋合成工業的市場份額居全球首位,股價正在迅速上漲。2019年初股價僅為800日元水平,2020年上漲至1...
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