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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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美光表示,隨著從1Xnm到1Yn和1Znm的轉變,位密度的增長速度減慢了。但是,該公司加快了增長率,從1Znm到1αnm工藝節點尺寸增加了40%。
電子發燒友網報道(文/程文智)1月20日,ASML發布了其第四季度的財報,銷售額達到了43億歐元,全年凈銷售額140億歐元,毛利率48.6%,凈利潤金額...
美國泛林宣布與ASML、IMEC合作開發出新的EUV光刻技術 成本大幅降低
2月28日,美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發了新的EUV光刻技術,不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產能,還將光刻膠...
據路透社報道,知情人士指出,美國政府正竭力阻止荷蘭向中國出售芯片制造技術(EUV設備),美國國務卿邁克·龐培曾多次游說荷蘭政府,而白宮官員則向荷蘭國防部...
臺積電2021 年12,000 種產品,其中采用了300 多種制程,這些都是生態系合作的結果,沒有生態系的支持,臺積電就沒辦法進步。
盡管日韓貿易沖突持續延燒,三星電子原定9月在日本東京的晶圓代工論壇將如期舉行。三星屆時預料將展示自家先進制程技術,并提供用于生產3納米以下芯片,名為「環...
SK 海力士 M16 新廠已竣工:首次使用極紫外輻射(EUV)光刻機在生產存儲芯片
存儲芯片廠商 SK 海力士 2 月 1 日宣布,其公司位于韓國首爾南部利川市的 M16 新廠已經竣工,SK 海力士將首次使用極紫外輻射(EUV)光刻機在...
近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多,三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺積電的7nm+也...
英特爾預計其制造工藝節點技術將保持2年一飛躍的節奏,從2019年的10納米工藝開始,到2021年轉向7納米EUV(極紫外光刻),然后在2023年采用5納...
比利時的獨立半導體高科技研究機構——imec每年都會在東京舉辦“imec Technology Forum(ITF) Japan”,并介紹他們的年度研發...
先進制程微縮變得越來越困難 IC設計與品牌商同樣面對的成本高墻
晶圓代工廠商的先進制程競賽如火如荼來到7nm,但也有晶圓代工廠商就此打住,聯電將止于12nm制程研發,GlobalFoundries宣告無限期停止7nm...
6月18日,臺積電在上海舉辦了2019中國技術論壇(TSMC2019 Technology Symposium)。臺積電總裁魏家哲介紹了先進工藝的發展規...
尋找光阻劑替代供應商難度很高,就算找到新供應來源,所有制程和設計須重新測試,至少得花1年時間才能運作。
4月16日,三星官網發布新聞稿,宣布已經完成5納米FinFET工藝技術開發,現已準備好向客戶提供樣品。
臺積電宣布7納米強效版制程已大量進入市場 2020年第一季將試產6納米制程技術
臺積電宣布,其領先業界導入極紫外光(EUV)微影技術的7納米強效版(N7+)制程已協助客戶產品大量進入市場。導入EUV微影技術的N7+奠基于臺積電成功的...
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