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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。
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日本信越化學(xué)將斥資300億日元,把光刻膠的產(chǎn)能提高20%
根據(jù)報道,信越化學(xué)將會在日本和臺灣地區(qū)興建工廠,位于臺灣地區(qū)云林工廠將先完成,預(yù)計2020年2月開始量產(chǎn),屆時信越化學(xué)將得以在臺灣地區(qū)生產(chǎn)可與極紫外光(...
EUV工藝已拉響戰(zhàn)局 美光計劃在2021年持續(xù)加碼投資DRAM
美光計劃在 2021 年提出建設(shè) A5 廠項目的申請,持續(xù)加碼投資 DRAM,將用于 1Znm 制程之后的微縮技術(shù)發(fā)展。 據(jù)悉,目前美光在臺灣地區(qū)布局,...
EUV光刻機爭奪戰(zhàn)背后:三星為何優(yōu)勢不及臺積電?
三星電子李在镕副會長于10月13日緊急訪問了荷蘭的半導(dǎo)體設(shè)備廠家ASML,并與ASML的CEO Peter Wennink先生、CTO Martin v...
在采用了EUV的半導(dǎo)體微縮化方面,臺積電(TSMC)全球領(lǐng)先。作為存儲半導(dǎo)體的“冠軍”——三星電子計劃在2030年之前在邏輯半導(dǎo)體的生產(chǎn)方面趕上臺積電。...
三星要求ASML在一個月內(nèi)交付9臺EUV光刻設(shè)備
據(jù)韓媒報道,三星副董事長李在镕在訪問荷蘭期間,在會議上要求ASML在一個月內(nèi)交付三星已購買的9臺EUV光刻設(shè)備。 報道稱,ASML正在審查三星的要求,這...
EUV光刻機加持,SK海力士宣布明年量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存
ASML公司的EUV光刻機全球獨一份,現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上,臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了,SK海力...
韓國財經(jīng)媒體Business Korea報導(dǎo),三星電子副會長、三星集團(tuán)實際大當(dāng)家李在镕上周到荷蘭拜訪ASML談合作,最重要目的其實是親自催促對方,提前1...
爆AMD的Zen3處理器細(xì)節(jié):或?qū)⒁隕UV光刻工藝
AMD的銳龍5000系列處理器下月初就要上市了,全新的Zen3架構(gòu)IPC性能大漲,不過工藝上面依然是7nm級別的,官方稱之為更成熟的7nm工藝。
AMD的銳龍5000系列處理器下月初就要上市了,全新的Zen3架構(gòu)IPC性能大漲,不過工藝上面依然是7nm級別的,官方稱之為更成熟的7nm工藝。 最早的...
與此同時,美國的作法也給我們帶來提示,不僅要掌握自己的核心技術(shù),還要守護(hù)好核心技術(shù),作法就可以參照美國的出口管制辦法。而事實上,我國也確實是這么做的。前...
另外,該報道稱臺積電將會積極采購EUV光刻機設(shè)備,未來3~5年仍將是擁有全球最大EUV產(chǎn)能的半導(dǎo)體廠。
當(dāng)?shù)貢r間10月14日,半導(dǎo)體巨頭、全球光刻機領(lǐng)頭企業(yè)ASML首席財務(wù)官羅杰達(dá)森(Roger Dassen),對向中國出口光刻機的問題作出了表態(tài)。他表示,...
臺積電是第一家將EUV(極紫外)光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè),目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
Trumpf的業(yè)務(wù)受極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的強勁需求而振奮
“激光器技術(shù)部門的銷售業(yè)績明顯低于2019年。”Trumpf表示,“其原因除汽車行業(yè)的結(jié)構(gòu)變化以及由此產(chǎn)生的投資意愿下降外,還有歐洲和中國市場業(yè)績的下滑...
AMSL宣布:無須美國許可同意可向中國供貨DUV光刻機,但EUV受限
光刻機,在整個芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié),是最最最核心的設(shè)備,技術(shù)難度極高。在全球光刻機市場,日本的尼康、佳能,和荷蘭的ASML,就占據(jù)了市場90%以上份額。而最...
臺積電宣布5nm工藝已經(jīng)量產(chǎn),也在提升EUV工藝的效率及性能
在先進(jìn)半導(dǎo)體工藝上,臺積電已經(jīng)一騎絕塵了,其他人望不到尾燈了,今年量產(chǎn)了5nm,明年就輪到3nm了。
伴隨 5G、AIoT的發(fā)展和國際關(guān)系的日漸緊張之下,集成電路產(chǎn)業(yè)逐漸受到一致關(guān)注。 2020 年 10 月 14 日, 第三屆全球IC企業(yè)家大會暨第十八...
本土晶圓代工企業(yè)崛起之際,設(shè)備進(jìn)口議題備受關(guān)注。光刻機龍頭ASML近日表示,從荷蘭向中國出口DUV光刻機無需許可證。
此外,由于光刻加工分辨率直接關(guān)系到芯片特征尺寸大小,而光刻膠的性能關(guān)系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效應(yīng)。光刻分辨率與曝光波長、數(shù)...
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