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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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由于行業整合和半導體短缺導致供需平衡完全失衡,內存價格和利潤率處于高位。內存行業的一個共同主題是持續的整合。我們只有3家領先的DRAM生產商,即使有新的...
來源:內容由半導體行業觀察(ID:icbank)編譯自「seekingalpha」,謝謝。 在科技行業,在硬件方面最受關注的公司是英偉達、蘋果、高通和A...
加利福尼亞州圣何塞 - 制造商設備供應商佳能公司的一位官員警告說,下一代平版印刷術(NGL)面臨著新的障礙,可能會威脅到IC產業轉向低于40納米的芯片制造業。
三星電子近期為爭搶極紫外光(EUV)設備,高層頻頻傳出密訪ASML。繼三星電子副會長李在镕(Lee Jae-yong)10月親自赴荷蘭拜會ASML執行長...
ASML光刻機擴產計劃公布:EUV 90臺/年 DUV 600臺/年
荷蘭ASML公司昨天一家總部設在荷蘭埃因霍溫(Eindhoven)的全球最大的半導體設備制造商之一,向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備光...
隨著先進制程的研發難度加大,相關企業的研發經費也是節節攀升,半導體行業中的領頭羊臺積電去年就指出了超過170億美元的研發經費,而在剛剛到來的2021年中...
盡管消息稱中芯國際14nm及以上制程的客服、備品與機臺等相關出口申請獲得許可,但10nm以下仍被卡脖子,尤其是已經技術開發完整只等EUV光刻機進場的7nm。
為了搶攻在2030年成為非記憶體半導體龍頭地位,南韓砸大錢向ASML買進EUV機臺,三星集團副會長李在镕日前也親赴ASML在荷蘭總部,希望能向該公司趕緊...
鉅亨網援引韓媒報道稱,為如期在2022 年量產 3 納米芯片,三星將在美國德州奧斯汀的半導體子公司啟動EUV專用系統 LSI 新廠投資計劃。據悉,此項投...
三星電子李在镕副會長于10月13日緊急訪問了荷蘭的半導體設備廠家ASML,并與ASML的CEO Peter Wennink先生、CTO Martin v...
臺積電5nm工藝比官方宣傳更精細 晶體管密度達10nm工藝的3.3倍
一般來說,官方宣傳數據都是最理想的狀態,有時候還會摻雜一些水分,但是你見過實測比官方數字更漂亮的嗎?
臺積電宣布5nm工藝已經量產,也在提升EUV工藝的效率及性能
在先進半導體工藝上,臺積電已經一騎絕塵了,其他人望不到尾燈了,今年量產了5nm,明年就輪到3nm了。
臺積電5納米制程將在2019年的第2季試產 并與4家合作伙伴達成協議
根據晶圓代工龍頭臺積電在日前公布的2018年9月份財報顯示,其營收達到949.22億元(新臺幣,下同)的歷史次高水準,不但將8月時因為遭到病毒感染事件所...
今天,英特爾新任首席執行官Pat Gelsinger在一場演講中概述了在對英特爾未來幾年的愿景。在題為“英特爾釋放:未來
市調機構TrendForce在最新研報指出,半導體設備又再度面臨交期延長至18~30個月不等的困境。
在三星決定7nm率先導入EUV后,讓EUV輸出率獲得快速提升,臺積電決定在7nm強化版提供客戶設計定案,5nm才決定全數導入。
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