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標簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機的技術(shù)、市場問題,國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。
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ASML的主要產(chǎn)品是光刻機,而光刻機的客戶相當有限,其中最先進的EUV光刻機客戶如今更是剩下臺積電、三星和Intel三家,如此情況下決定ASML業(yè)績的...
14億人的戰(zhàn)爭: 中國人用了30年望見計算力的珠峰文 | 史中 日本是一個喜歡畫面感的民族。 從浮世繪、歌舞伎,到茶道、花道,到活著就是為了打籃球的《灌...
據(jù)說三星將從8月開始大規(guī)模生產(chǎn)5nm芯片,預(yù)計首款SoC將是Exynos 992。DigiTimes的一份報告指出,該技術(shù)龐然大物在保持令人滿意的良率方...
三星 SAFE計劃現(xiàn)在已可提供與Synopsys的Lynx設(shè)計系統(tǒng)兼容的經(jīng)認證
Synopsys宣布,Synopsys Design Platform已通過全球領(lǐng)先半導(dǎo)體技術(shù)企業(yè)三星電子的工藝認證,支持三星代工部門的8nm LPP(...
新一期《光學(xué)學(xué)報》發(fā)表特邀綜述,透露我國EUV光刻物鏡系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計進展
論文介紹說,2002年,中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械及物理研究所研制出國內(nèi)最早由Schwarzschild物鏡組成的euv光角原理實驗裝置,實現(xiàn)了0.75...
2023-08-18 標簽:光學(xué)系統(tǒng)EUV精密機械 1692 0
當?shù)貢r間10月14日,半導(dǎo)體巨頭、全球光刻機領(lǐng)頭企業(yè)ASML首席財務(wù)官羅杰達森(Roger Dassen),對向中國出口光刻機的問題作出了表態(tài)。他表示,...
三星計劃基于GAA技術(shù)批量生產(chǎn)業(yè)界首批半導(dǎo)體
EUV是一種具有13.5納米短波長的光源。與其他光源相比,其波長短十倍。這表明EUV能夠在半導(dǎo)體晶圓上創(chuàng)建更精細,更詳細的圖案。同樣,它能夠減少工藝數(shù)量...
在本周召開的臺積電技術(shù)研討會上,最重要的中心信息之一是,該公司在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域處于世界領(lǐng)先地位,特別是在領(lǐng)先的工藝技術(shù)領(lǐng)域。
消息稱美光或開發(fā)EUV應(yīng)用技術(shù)
根據(jù)韓國媒體《Etnews》報導(dǎo)指出,目前全球3大DRAM存儲器中尚未明確表示采用EUV極紫外光刻機的美商美光(Micron),因日前招聘網(wǎng)站開始征求E...
臺積電是第一家將EUV(極紫外)光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè),目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
奮斗不息! ? 美國芯片法案-2022 1 對華限制 關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的小伙伴們都知道,前不久美國商務(wù)部工業(yè)安全局(BIS)對中國實施了芯片出口管制措施,...
Intel 4 工藝對于英特爾來說是一個重要的里程碑,因為它是英特爾第一個集成 EUV 的工藝,也是第一個跨越陷入困境的 10nm 節(jié)點的工藝。對于英特...
韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國公司的差距
特別是,韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國公司的差距。2019年,韓國本土提出的專利申請數(shù)量為40件,超過了國外企業(yè)的10件。這是韓國提交的...
具有13.5nm波長源的高數(shù)值孔徑系統(tǒng)將提高亞13nm半間距曝光所需的分辨率,以及更大的圖像對比度以實現(xiàn)更好的印刷線均勻性。High-NA EUV光刻的...
三星與當?shù)卣炗嗛_發(fā)協(xié)議,要求政府指定資源,并建立與場地開發(fā)和建筑施工活動審查、批準和檢查快速流程。三星暫時未公布新建計劃,有人猜測可能只是存儲材料庫...
臺積電正在使用具有EUV層的制造技術(shù)來提高產(chǎn)量
在今年早些時候,臺積電表示,公司已在全球范圍內(nèi)部署并運行了大約50%的所有極紫外(EUV)光刻工具,這意味著該公司使用的EUV機器比業(yè)內(nèi)任何其他公司都要...
大家知道,RISC-V已經(jīng)成為繼x86、ARM之后冉冉升起的第三大CPU架構(gòu),盡管此前試圖收購RISC-V內(nèi)核公司SiFive的努力失敗,但Intel找...
“7納米是很重要的節(jié)點,是生產(chǎn)工藝第一次轉(zhuǎn)向EUV的轉(zhuǎn)折點。三星和臺積電都宣布了將采用EUV(極紫外光微影)技術(shù)在7納米,而EUV是摩爾定律能夠進一步延...
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