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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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SK海力士擬將無錫C2工廠升級為第四代D-ram工藝,并引進EUV技術
Sk海力士期望通過在無錫工廠完成第四代D-RAM制造環節中的部分工藝流程,隨后將芯片運回韓國總部利川園區進行EUV處理,最后送回無錫工廠進行后續操作。盡...
近日,日本沖繩科學技術大學院大學(OIST)發布了一項重大研究報告,宣布該校成功研發出一種突破性的極紫外(EUV)光刻技術。這一創新技術超越了當前半導體...
三星投資60億美元7nm EUV工廠動工 后者驍龍芯片可能誕生于此
據報道,三星投資60億美元建設的新的半導體工廠已經破土動工,此工廠主用于擴充7nm EUV的產能,有人猜測后者的驍龍芯片將可能會在這里誕生。
盡管英特爾在距今4年前便已開始計劃10nm節點,但該公司目前正在敲定相關的制程設計規則,而EUV則遲遲未能參與此一盛晏。“EUV趕不及參與10nm節點設...
不能否認的是,摩爾定律正在逐漸走向極限。業界對于未來技術如何發展,早已有了“More Moore”(繼續推進摩爾定律)和“More than Moore...
使用13.5nm波長的光進行成像的EUV光刻技術已被簡歷。先進的邏輯產品依賴于它,DRAM制造商已經開始大批量生產。
在2012年度的國際電子元件大會上,有專家指出,半導體制程在14nm的節點上會迎來大挑戰,而不符合偶爾定律的要求。
在一場將于12月舉行的技術研討會上,晶圓代工大廠臺積電(TSMC)將與競爭對手Globalfoundries、三星(Samsung)結成的伙伴聯盟,公開...
紫光展銳ic設計很給力;紫光展銳積極布局5G,除了搭載其6納米5G芯片的手機將于明年量產,展銳還推出了一系列5G產品。 T7520很快會達到CS(商業樣...
生產2納米的利器!成本高達3億歐元,High-NA EUV***年底交付 !
ASML是歐洲最大半導體設備商,主導全球光刻機設備市場,光刻機是半導體制造關鍵步驟,但高數值孔徑(High NA)EUV,Peter Wennink指有...
據臺灣業內人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下,英特爾和三星則計...
根據資料顯示,在2012年,為了支持ASML EUV光刻機的研發與商用,并獲得EUV光刻機的優先供應,在2012年,英特爾、臺積電、三星均斥資入股了AS...
現在16/14nm節點時通常采用兩次圖形曝光技術,如果EUV成功量產,可以避免在10nm及以下時要采用三次或者四次圖形曝光技術,成本上可大幅的節省。
臺積電每年獎勵優良供應商中,幾乎以外商為主,包括美商應材、科林研發、荏原制作所、臺灣先藝科技、日立國際、日商豪雅、信越化學及信越半導體和勝高等。
據日本經濟新聞報道,日本經濟產業省和荷蘭經濟和氣候政策省于6月21日簽署了促進半導體領域等合作的合作備忘錄(MOC: Memorandum of Coo...
在這場最先進工藝產能的競爭中,隨著三星和Intel的加入,無論是哪一家獲得蘋果或高通的芯片訂單,沒有獲得這兩家大客戶訂單的半導體代工廠都會爭取大陸的芯片...
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