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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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臺積電預計到2019年底會有100多款客戶產品基于其7nm工藝
半導體工藝越來越復雜,不過憑借強大的實力、不斷的投入,再加上技術上的一些“偷懶”,臺積電還是相繼征服了10nm、7nm、5nm,其中7nm工藝已經迅速普...
英特爾和臺積電都在技術上投入資金。三星和其他內存制造商必須跟上技術節點的轉變,即使同時保持產能遠離市場。他們需要跟上技術的步伐,以在摩爾定律的基礎上保持...
全球光刻機大廠ASML(艾司摩爾)在日前的2020 年第4 季與全年財務電話會議上透露,2020年全年ASML營收達到140億歐元,其中有45 億歐元的...
實際上,浙商電子的研究報告指出,美方此次出口管制的核心轉變在于加強了對EUV掩模基板的管控,明晰了集成電路的性能關鍵參數定義及計算方法,強化了對集成電路...
在時間方面,IAP 可能有點過于樂觀。對于 32nm 以下的一切,芯片制造商使用所謂的浸沒式光刻技術(本質上是 DUV 工具的助推器)生產。
盡管EUV的生產力還沒有達到客戶的預期,但幾年來,EUV 已經成為世界上最先進芯片的生產過程中不可或缺的一部分。
ASML創下新的EUV芯片制造密度記錄,提出Hyper-NA的激進方案
ASML在imec的ITF World 2024大會上宣布,其首臺High-NA(高數值孔徑)設備已經打破了之前創下的記錄,再次刷新了芯片制造密度的標準。
泛林集團、Entegris 和 Gelest 攜手推進 EUV 干膜光刻膠技術生態系統
這一使用突破性技術的合作將為全球芯片制造商提供強大的化學品供應鏈,并支持下一代 EUV 應用的研發 北京時間2022年7月15日——泛林集團 (NASD...
知情人士透露,由于ASML高數值孔徑EUV設備產能有限,每年僅能產出5至6臺,因此英特爾將獨享初始庫存,而競爭對手三星和SK海力士預計需等到明年下半年...
尹錫悅代表方面表示:“asml允許韓國總統訪問無塵室,作為外國首腦,他將首次訪問無塵室。”他表示:“韓國政府希望將荷蘭的尖端設備和韓國的尖端制造能力相融...
臺媒稱,翔名切入臺積電5nm極紫外光(EUV)光罩盒表面處理業務,與EUV光罩盒大廠接洽合作機會,以獨家專利無電鍍鎳(ENP)表面處理技術來提升產品良率...
今日看點丨英特爾完成首臺商用高數值孔徑 EUV 光刻機組裝;聯發科發布天璣 6300 處理器
1. 臺積電估將在第 2 季認列相關地震損失 30 億元新臺幣 ? 403地震讓臺灣半導體產業受創,臺積電稍早公告,臺灣廠區在地震后的第三日結束前完全復...
美光預測AI需求將大幅增長,計劃2025年投產EUV DRAM
隨著人工智能技術日益普及,從云端服務器拓展至消費級設備,對高級內存的需求持續攀升。鑒于此趨勢,美光科技已將其高帶寬內存(HBM)的全部產能規劃至2025...
EUV掩膜,也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜,對于極紫外光刻(EUVL)這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術,用于制造具有更小特征尺寸和增...
Imec 與三井化學公司簽署戰略合作協議,將用于 EUV 光刻技術的 CNT 薄膜技術商業化
來源:半導體芯科技 SiSC編譯 魯汶(比利時),2023 年 12 月 14 日 — 世界領先的納米電子和數字技術研究和創新中心 Imec 與日本領先...
根據 ASML 的說明,盡管目前整體環境呈現短期的不確定性,仍見長期在晶圓需求與產能上的健康增長。ASML 提到,各個市場的強勁增長、持續創新、更多晶圓...
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