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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。

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euv資訊

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Litho路障威脅到40納米以下的芯片生產

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日本首次批準向韓國出口EUV光刻膠

7月1日,日本政府宣布將韓國移除對外貿易白名單,韓國進口日本公司的三種原材料——光刻膠、氟化聚酰亞胺和氟化氫需要提前90天申請,這些材料是生產柔性屏面板...

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2019-09-05 標簽:芯片半導體EUV 9697 0

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2019-09-04 標簽:臺積電晶圓EUV 2952 0

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2019-09-03 標簽:晶圓晶體管EUV 7220 0

關于ASML EUV工藝的最新信息進展

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三星痛下決心,自研極紫外光(EUV)光阻劑

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2019-07-26 標簽:三星電子EUV 3328 0

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