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電子發燒友網>PCB設計>powerpcb>超細線蝕刻工藝技術介紹

超細線蝕刻工藝技術介紹

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引言 我們華林科納討論了一種高速率各向異性蝕刻工藝,適用于等離子體一次蝕刻一個晶片。結果表明,蝕刻速率主要取決于Cl濃度,而與用于驅動放電的rf功率無關。幾種添加劑用于控制蝕刻過程。加入BCl以開始
2022-06-13 14:33:14904

一種穿過襯底的通孔蝕刻工藝

蝕刻殘留物。開發的最終工藝產生了具有大約80度的單斜面側壁輪廓的穿過襯底的通孔,該通孔清除了蝕刻后的掩膜材料。
2022-06-23 14:26:57516

GaN的晶體濕化學蝕刻工藝詳解

目前,大多數III族氮化物的加工都是通過干法等離子體蝕刻完成的。1,2干法蝕刻有幾個缺點,包括產生離子誘導損傷3和難以獲得激光器所需的光滑蝕刻側壁。干法蝕刻產生的側壁的典型均方根(rms)粗糙度約為
2022-07-12 17:19:243454

蝕刻工藝 蝕刻過程分類的課堂素材4(上)

蝕刻工藝 蝕刻過程分類
2022-08-08 16:35:34736

用于硅片減薄的濕法蝕刻工藝控制的研究

薄晶片已成為各種新型微電子產品的基本需求。更薄的模具需要裝進更薄的包裝中。與標準的機械背磨相比,在背面使用最終的濕法蝕刻工藝而變薄的晶片的應力更小。
2022-08-26 09:21:362363

全面解讀電子封裝工藝技術

全面解讀電子封裝工藝技術
2022-10-10 11:00:51876

什么是金屬蝕刻蝕刻工藝

金屬蝕刻是一種通過化學反應或物理沖擊去除金屬材料的技術。金屬蝕刻技術可分為濕蝕刻和干蝕刻。金屬蝕刻由一系列化學過程組成。不同的蝕刻劑對不同的金屬材料具有不同的腐蝕特性和強度。
2023-03-20 12:23:433172

PCB加工的蝕刻工藝

印刷線路板從光板到顯出線路圖形的過程是一個比較復雜的物理和化學反應的過程,本文就對其最后的一步--蝕刻進行解析。目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"。即先在
2023-03-29 10:04:07886

如何在蝕刻工藝中實施控制?

蝕刻可能是濕制程階段最復雜的工藝,因為有很多因素會影響蝕刻速率。如果不保持這些因素的穩定,蝕刻率就會變化,因而影響產品質量。如果希望利用一種自動化方法來維護蝕刻化學,以下是你需要理解的基本概念。
2023-05-19 10:27:31575

淺談蝕刻工藝開發的三個階段

納米片工藝流程中最關鍵的蝕刻步驟包括虛擬柵極蝕刻、各向異性柱蝕刻、各向同性間隔蝕刻和通道釋放步驟。通過硅和 SiGe 交替層的剖面蝕刻是各向異性的,并使用氟化化學。優化內部間隔蝕刻(壓痕)和通道釋放步驟,以極低的硅損失去除 SiGe。
2023-05-30 15:14:111071

蝕刻技術蝕刻工藝蝕刻產品簡介

關鍵詞:氫能源技術材料,耐高溫耐酸堿耐濕膠帶,高分子材料,高端膠粘劑引言:蝕刻(etching)是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wetetching)和干蝕刻
2023-03-16 10:30:163504

如何實現PCB蝕刻工藝中的均勻性呢?有哪些方法?

PCB蝕刻工藝中的“水池效應”現象,通常發生在頂部,這種現象會導致大尺寸PCB整個板面具有不同的蝕刻質量。
2023-08-10 18:25:431013

2006電子元器件搪錫工藝技術要求

2006電子元器件搪錫工藝技術要求
2023-08-23 16:48:033

半導體制造工藝之光刻工藝詳解

半導體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541221

pcb蝕刻是什么意思

 在印制板外層電路的加工工藝中,還有另外一種方法,就是用感光膜代替金屬鍍層做抗蝕層。這種方法非常近似于內層蝕刻工藝,可以參閱內層制作工藝中的蝕刻
2023-09-06 09:36:57811

PCB線路板的蝕刻工藝需要注意哪些細節問題

一站式PCBA智造廠家今天為大家講講pcb打樣蝕刻工藝注意事項有哪些?PCB打樣蝕刻工藝注意事項。PCB打樣中,在銅箔部分預鍍一層鉛錫防腐層,保留在板外層,即電路的圖形部分,然后是其余的銅箔被化學方法腐蝕,稱為蝕刻
2023-09-18 11:06:30670

等離子刻蝕工藝技術基本介紹

干法蝕刻(dry etch)工藝通常由四個基本狀態構成:蝕刻前(before etch),部分蝕刻(partial etch),蝕刻到位(just etch),過度蝕刻(over etch),主要表征有蝕刻速率,選擇比,關鍵尺寸,均勻性,終點探測。
2023-10-18 09:53:19788

電子產品裝聯工藝技術詳解

電子產品裝聯工藝技術詳解
2023-10-27 15:28:22373

PCB的蝕刻工藝及過程控制

另外一種工藝方法是整個板子上都鍍銅,感光膜以外的部分僅僅是錫或鉛錫抗蝕層。這種工藝稱為“全板鍍銅工藝“。與圖形電鍍相比,全板鍍銅的缺點是板面各處都要鍍兩次銅而且蝕刻時還必須都把它們腐蝕掉。
2023-12-06 15:03:45263

MEMS封裝中的封帽工藝技術

密性等。本文介紹了五種用于MEMS封裝的封帽工藝技術,即平行縫焊、釬焊、激光焊接、超聲焊接和膠粘封帽。總結了不同封帽工藝的特點以及不同MEMS器件對封帽工藝的選擇。本文還介紹了幾種常用的吸附劑類型,針對吸附劑易于飽和問題,給出了封帽工藝解決方案,探
2024-02-25 08:39:28171

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