傳中芯國際有望得到ASML的EUV光刻機
據報道，業內觀察人士稱，在新任副董事長蔣尚義的幫助下，中國芯片巨頭中芯國際將尋求與荷蘭半導體設備公司阿斯麥（ASML）就EUV光刻設備進行談判。
報道稱，中芯國際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設備，盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存顧慮。
但據業內觀察人士稱，在新任副董事長蔣尚義的幫助下，中芯國際將針對EUV光刻設備尋求與阿斯麥進行談判。
本周二晚，中芯國際發布公告稱，蔣尚義獲委任為董事會副董事長、第二類執行董事及戰略委員會成員，自2020年12月15日起生效。
EUV光刻（即極紫外光刻）利用波長非常短的光，在硅片上形成數十億個微小結構，構成一個芯片。與老式光刻機相比，EUV設備可以生產更小、更快、更強大的芯片。
報道稱，中芯國際計劃利用EUV光刻機器，來生產基于7納米以下制程技術的芯片產品。
近日有媒體報道稱，中芯國際已經從20nm工藝制程，一直攻克到了3nm工藝制程，唯一缺的就是EUV光刻機。有了EUV光刻機，中芯國際也能進行3nm芯片的量產。
昨日美國股市收盤時，阿斯麥股價收于477.30美元，上漲1.2%。今日，中芯國際股價收于55.02元，下滑1.77%。
責編AJX
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