新一代儀器提升數(shù)據(jù)可靠性，控制圖像畸變≤1%

2021年3月17日，上海——科學服務領域的世界領導者賽默飛世爾科技（以下簡稱：賽默飛）宣布推出Talos F200E掃描透射電子顯微鏡（以下簡稱：（S）TEM），這款產品提供原子級分辨率成像和快速的能量色散X射線能譜（以下簡稱：EDS）分析，可提升數(shù)據(jù)可靠性，滿足半導體行業(yè)日益增長的需求。

隨著5G時代的到來，通信技術的快速發(fā)展將進一步激發(fā)對更高效能的半導體設備的需求。自動駕駛、人工智能、工業(yè)4.0、智慧城市和物聯(lián)網（IoT）也都在推動半導體制程向著更小、更復雜的方向發(fā)展。半導體行業(yè)的發(fā)展驅使其研發(fā)實驗室需要更高效的解決方案予以支持，以滿足在原子級分辨率上的大批量、可復現(xiàn)的 （S）TEM結果的實現(xiàn)。

Talos F200E （S）TEM 可發(fā)揮其自動校準的屬性，控制圖像畸變≤1%，使用戶能夠獲得快速、可靠和可重復的結果。可配置的Dual-X比之前的Talos F200X 提供了更強大的EDS探測器，使EDS分析速度提高了1.5倍。Talos F200E 具有成本效益，易用性高，幫助半導體實驗室實現(xiàn)快速的樣品表征，加快可以量產的速度，提高制程良率。

“隨著創(chuàng)新的步伐不斷加快，半導體企業(yè)要求其分析實驗室加快周轉時間，并在各種設備和工藝技術上提供更可靠和可復現(xiàn)的（S）TEM數(shù)據(jù)，以支持他們的業(yè)務，”賽默飛半導體事業(yè)部副總裁Glyn Davies說道，“Talos F200E通過提供高質量的圖像數(shù)據(jù)、快速的化學分析和行業(yè)領先的缺陷表征等特質，可以為客戶提供高性價比、易用的解決方案。”