概述
ADRF5474是一款具有22 dB衰減控制范圍和2 dB步長的4位數(shù)字衰減器,采用連接在砷化鎵(GaAs)載波襯底上的硅工藝制造。該襯底集成了芯片和引線裝配焊盤,且器件底部經(jīng)過金屬化處理并接地。
該器件的工作頻率范圍為10 MHz至60 GHz,在55 GHz時提供優(yōu)于2.7 dB的插入損耗和出色的衰減精度。在所有狀態(tài)下,ADRF5474具有23 dBm(平均值)和24 dBm(峰值)的RF輸入功率處理能力。
ADRF5474需要+3.3 V和?3.3 V雙電源電壓供電。該器件具有并行模式控制和互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)/低壓晶體管對晶體管邏輯(LVTTL)兼容控制特性。
ADRF5474設(shè)計(jì)用于匹配50 Ω的特征阻抗。
數(shù)據(jù)表:*附件:ADRF5474硅數(shù)字衰減器,2dB LSB,4位,10MHz至60GHz技術(shù)手冊.pdf
應(yīng)用
特性
- 超寬帶頻率范圍:10 MHz 至 60 GHz
- 衰減范圍:22 dB,步長為 2 dB
- 用于線焊和帶狀鍵合的焊盤
- 低插入損耗
- 1.3 dB 典型值,最高 20 GHz
- 2.0 dB 典型值,最高 44 GHz
- 2.7 dB 典型值,最高 55 GHz
- 衰減精度
- ±(0.3 + 1.0% 的衰減狀態(tài))通常高達(dá) 20 GHz
- ±(0.4 + 4.0% 的衰減狀態(tài))通常高達(dá) 44 GHz
- ±(0.4 + 6.0% 的衰減狀態(tài))通常高達(dá) 55 GHz
- 典型步進(jìn)誤差
- ±0.30 dB 典型值,最高 20 GHz
- ±0.65 dB 典型值,最高 44 GHz
- ±1.10 dB 典型值,最高 55 GHz
- 高輸入線性度
- P0.1dB:25.5 dBm(典型值)
- IP3:45 dBm(典型值)
- 高 RF 功率處理能力
- 23 dBm 穩(wěn)態(tài)和熱切換,平均值
- 24 dBm 穩(wěn)態(tài)和熱切換,峰值
- 在相對相位中實(shí)現(xiàn)緊密分布
- 無低頻雜散信號
- 并行模式控制,與 CMOS/LVTTL 兼容
- RF 幅度建立時間(0.1 dB 最終 RF 輸出):175 ns
- 16 焊盤、2.770 mm × 1.620 mm、載體上裸片 [CHIP]
框圖
引腳配置描述
接口示意圖
典型性能特征
應(yīng)用信息
芯片組裝
ADRF5474的組裝圖如圖25所示。
ADRF5474經(jīng)過設(shè)計(jì),采用3 mil×0.5 mil的金帶線,典型環(huán)路高度為3 mil ,可實(shí)現(xiàn)最佳的射頻輸入和輸出阻抗匹配。鍵合圖如圖26和圖27所示。此外,使用具有等效電感的多根線鍵合也能產(chǎn)生相似的性能。對于從器件引出的射頻布線,可使用共面波導(dǎo)或微帶傳輸線。傳輸線焊盤無需進(jìn)行阻抗匹配,因?yàn)槠骷堰M(jìn)行內(nèi)部設(shè)計(jì),可與推薦的帶線相匹配。建議從射頻傳輸線到器件邊緣保持3 mil的間距,以實(shí)現(xiàn)最佳性能。
直流焊盤可使用標(biāo)準(zhǔn)的1 mil直徑金線進(jìn)行連接,應(yīng)使線長盡可能短,以最小化寄生電感。如果直流焊盤足夠大,能夠容納帶線鍵合,則優(yōu)先采用帶線鍵合。
所有鍵合必須在150°C的標(biāo)稱平臺溫度下進(jìn)行熱超聲鍵合,并且必須施加足夠的超聲能量,以實(shí)現(xiàn)可靠的鍵合。
器件背面有金屬化層,接地連接可通過直接連接器件來實(shí)現(xiàn)。在這種情況下,將射頻接地層與導(dǎo)電環(huán)氧樹脂連接,連接接地焊盤雖非必需,但仍建議進(jìn)行,以確保接地牢固。
搬運(yùn)、安裝和環(huán)氧芯片粘貼
器件在運(yùn)輸時置于防靜電密封袋中,所有裸芯片應(yīng)存放在干燥氮?dú)猸h(huán)境中。
對于手動拾取,通常使用鑷子拾取砷化鎵(GaAs)器件。然而,對于芯片載體器件,建議使用真空工具,以免對器件襯底造成損壞。應(yīng)在清潔環(huán)境中操作這些器件。
粘貼芯片時,應(yīng)在安裝表面涂抹少量環(huán)氧樹脂,以便在芯片放置到位后,在其周邊形成薄的環(huán)氧樹脂溢邊。在制造商指定的固化溫度下固化環(huán)氧樹脂。設(shè)置芯片粘貼工藝和環(huán)氧樹脂固化溫度,以降低組裝后的累積應(yīng)力。
由于芯片通過焊點(diǎn)粘貼,用戶必須遵循其模塊組件的熱機(jī)械設(shè)計(jì)最佳實(shí)踐。襯底材料的熱膨脹系數(shù)必須與砷化鎵(GaAs)和硅(Si)芯片的熱膨脹系數(shù)相匹配。請勿讓襯底發(fā)生翹曲或其他機(jī)械變形。
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