最近因?yàn)橹信d被美國(guó)政府制裁禁用美國(guó)電子芯片一事，全國(guó)上上下下普及了一遍半導(dǎo)體技術(shù)，也讓很多人明白了國(guó)產(chǎn)廠商在半導(dǎo)體領(lǐng)域原來(lái)這么落后，不僅下游的芯片研發(fā)、設(shè)計(jì)不行，上游的半導(dǎo)體裝備、材料更是嚴(yán)重依賴進(jìn)口。

好在這種局面正在改變，芯片生產(chǎn)所需要的光刻機(jī)技術(shù)現(xiàn)在已經(jīng)國(guó)產(chǎn)化了，國(guó)內(nèi)公司攻克了另一項(xiàng)中國(guó)芯關(guān)鍵技術(shù)。

大家聽(tīng)多了光刻機(jī)、蝕刻機(jī)以及nm工藝這樣的術(shù)語(yǔ)，對(duì)光刻膠還是十分陌生的。

買(mǎi)回來(lái)的硅圓片經(jīng)過(guò)檢查無(wú)破損后即可投入生產(chǎn)線上，前期可能還有各種成膜工藝，然后就進(jìn)入到涂抹光刻膠環(huán)節(jié)。微影光刻工藝是一種圖形影印技術(shù)，也是集成電路制造工藝中一項(xiàng)關(guān)鍵工藝。

首先將光刻膠（感光性樹(shù)脂）滴在硅晶圓片上，通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)均勻涂抹成光刻膠薄膜，并施加以適當(dāng)?shù)臏囟裙袒饪棠z薄膜。

涂好了光刻膠才能進(jìn)入光刻機(jī)進(jìn)行曝光，讓紫外線在光刻膠上生成掩膜中的電路圖，必要的時(shí)候還要多重曝光，反復(fù)使用光刻膠，因此沒(méi)有這一步電路是造不出來(lái)的。

光刻膠是一種對(duì)光線、溫度、濕度十分敏感的材料，可以在光照后發(fā)生化學(xué)性質(zhì)的改變，這是整個(gè)工藝的基礎(chǔ)。

光刻膠有不同的類型，PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）、聚甲基戊二酰亞胺（PMGI）以及DNQ（酚醛樹(shù)脂）等材料都可以做光刻膠。據(jù)有關(guān)資料顯示，到2022年全球光刻膠市場(chǎng)市場(chǎng)價(jià)值將達(dá)到415億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率5.5%——算起來(lái)這個(gè)市場(chǎng)比光刻機(jī)產(chǎn)值還要大得多，畢竟光刻膠是耗材。

目前光刻膠市場(chǎng)上的參與者多是來(lái)自于美國(guó)、日本、韓國(guó)等國(guó)家，包括陶氏化學(xué)、杜邦、富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)、LG化學(xué)等等，中國(guó)公司在光刻膠領(lǐng)域也缺少核心技術(shù)。

今天科技日?qǐng)?bào)報(bào)道稱，圣泉公司歷時(shí)26年研發(fā)的國(guó)產(chǎn)光刻膠——“光刻膠用線性酚醛樹(shù)脂”國(guó)產(chǎn)化成功，打破了美國(guó)日本韓國(guó)等公司的壟斷。

圣泉公司現(xiàn)在已經(jīng)是亞洲最大的酚醛樹(shù)脂公司，技術(shù)來(lái)源于1997年圣泉與英國(guó)海沃斯礦物及化學(xué)品有限公司達(dá)成的合作，引進(jìn)了英國(guó)最先進(jìn)的酚醛樹(shù)脂生產(chǎn)技術(shù)，此后又引進(jìn)了以原天津樹(shù)脂廠總工李乃寧高工為首的一系列研發(fā)骨干。

2007年，與中科院化學(xué)所合作成立了“酚醛樹(shù)脂技術(shù)研究中心”，引進(jìn)并開(kāi)發(fā)了包括火箭耐燒蝕材料在內(nèi)的多個(gè)航天及軍工項(xiàng)目；之后，建成了博士工作站，與多個(gè)院校開(kāi)展了產(chǎn)學(xué)研合作；2011年，又引進(jìn)了日本先進(jìn)的環(huán)氧樹(shù)脂生產(chǎn)技術(shù)，建成了國(guó)內(nèi)最大的電子級(jí)特種環(huán)氧樹(shù)脂車間。

只是這篇報(bào)道除了明確國(guó)產(chǎn)光刻膠是酚醛樹(shù)脂類型之外，具體的性能還不得而知。不過(guò)從無(wú)到有實(shí)現(xiàn)突破之后，未來(lái)就有了發(fā)展的本錢(qián)了，國(guó)內(nèi)很多企業(yè)都是這么做起來(lái)的，技術(shù)突破了就有參與競(jìng)爭(zhēng)的機(jī)會(huì)，不然連同臺(tái)競(jìng)技的資格都沒(méi)有，何談追趕甚至超越呢。