文章
-
9.4.14 化合物量子阱材料∈《集成電路產業全書》2022-01-26 01:41
點擊上方藍字關注我們CompoundQuantumWellMaterials撰稿人:北京大學王茂俊https://www.pku.edu.cn/審稿人:北京大學康寧9.4化合物半導體第9章集成電路專用材料《集成電路產業全書》下冊ADT12寸全自動雙軸晶圓切割機詳情:切割機(劃片機).ADT.823012寸全自動雙軸晶圓切割機成倍提高生產率日本集成電路 429瀏覽量 -
6.4.2.2 n型SiC的歐姆接觸∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》2022-01-25 01:38
6.4.2.2n型SiC的歐姆接觸6.4.2n型和p型SiC的歐姆接觸6.4金屬化第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.4.2.1基本原理∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.4.1.2SiC上的肖特基接觸∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.4.1.1基本原理∈《碳化硅技術基本原理SiC 1157瀏覽量 -
9.4.13 碳化硅薄膜∈《集成電路產業全書》2022-01-25 01:37
9.4化合物半導體第9章集成電路專用材料《集成電路產業全書》下冊ADT12寸全自動雙軸晶圓切割機詳情:切割機(劃片機).ADT.823012寸全自動雙軸晶圓切割機成倍提高生產率日本晶圓集成電路 440瀏覽量 -
6.4.2.1 基本原理∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》2022-01-24 01:19
6.4.2.1基本原理6.4.2n型和p型SiC的歐姆接觸6.4金屬化第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.4.1.2SiC上的肖特基接觸∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.4.1.1基本原理∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.3.7遷移率限制因素∈《碳化硅技術基本原理——生長、SiC 1758瀏覽量 -
9.4.12 碳化硅單晶∈《集成電路產業全書》2022-01-24 01:18
9.4化合物半導體第9章集成電路專用材料《集成電路產業全書》下冊ADT12寸全自動雙軸晶圓切割機詳情:切割機(劃片機).ADT.823012寸全自動雙軸集成電路 573瀏覽量 -
6.4.1.2 SiC上的肖特基接觸∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》2022-01-23 01:25
6.4.1.2SiC上的肖特基接觸6.4.1n型和p型SiC的肖特基接觸6.4金屬化第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.4.1.1基本原理∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.3.7遷移率限制因素∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.3.6不同晶面上的氧化硅/SiC界面特性∈《碳化SiC 788瀏覽量 -
9.4.11 藍寶石晶體與襯底材料∈《集成電路產業全書》2022-01-23 01:24
9.4化合物半導體第9章集成電路專用材料《集成電路產業全書》下冊ADT12寸全自動雙軸晶圓切割機詳情:切割機(劃片機).ADT.823012寸全自動雙軸晶圓切割機成倍提高生產率日本晶圓清洗設備,大量裝集成電路 343瀏覽量 -
6.4.1.1 基本原理∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》2022-01-22 01:32
6.1.1.1基本原理6.4.1n型和p型SiC的肖特基接觸6.4金屬化第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.3.7遷移率限制因素∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.3.6不同晶面上的氧化硅/SiC界面特性∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.3.5.5界面的不穩定性∈《碳化硅技術SiC 1241瀏覽量 -
9.4.10 氮化鎵薄膜∈《集成電路產業全書》2022-01-22 01:31
9.4化合物半導體第9章集成電路專用材料《集成電路產業全書》下冊ADT12寸全自動雙軸晶圓切割機詳情:切割機(劃片機).ADT.823012寸全自動雙軸晶圓切割機成倍提高生產率日本晶圓清洗設備,大集成電路 472瀏覽量 -
6.3.6 不同晶面上的氧化硅/SiC 界面特性∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》2022-01-21 01:24
6.3.6不同晶面上的氧化硅/SiC界面特性6.3氧化及氧化硅/SiC界面特性第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》往期內容:6.3.5.5界面的不穩定性∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.3.5.4其他方法∈《碳化硅技術基本原理——生長、表征、器件和應用》6.3.5.3界面氮化∈《碳化硅技術基本原理——生長、SiC 1169瀏覽量