來(lái)源：中國(guó)海洋觀測(cè)，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 海洋是地球上最大的水體，它對(duì)人類的生存和發(fā)展具有重要的作用。然而，海洋也面臨著各種來(lái)源和類型的污染物的威脅，如重金屬、有機(jī)物、營(yíng)養(yǎng)鹽、微塑料
2024-03-15 09:56:59
176 WD4000國(guó)產(chǎn)晶圓幾何形貌量測(cè)設(shè)備通過(guò)非接觸測(cè)量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，TTV、BOW、WARP、在高效測(cè)量測(cè)同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。可實(shí)現(xiàn)砷化鎵
2024-03-15 09:22:08
有源超構(gòu)表面（metasurface）為光的快速時(shí)空調(diào)控提供了機(jī)會(huì)。在各種調(diào)諧方法中，有機(jī)電光（OEO）材料由于其速度快、非線性大以及使用基于浸潤(rùn)的制造技術(shù)的可能性而具有一些獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。
2024-03-04 09:29:58247 
晶圓表面的潔凈度對(duì)于后續(xù)半導(dǎo)體工藝以及產(chǎn)品合格率會(huì)造成一定程度的影響，最常見(jiàn)的主要污染包括金屬、有機(jī)物及顆粒狀粒子的殘留，而污染分析的結(jié)果可用以反應(yīng)某一工藝步驟、特定機(jī)臺(tái)或是整體工藝中所遭遇的污染程度與種類。
2024-02-23 17:34:23320 
WD4000無(wú)圖晶圓幾何形貌測(cè)量系統(tǒng)是通過(guò)非接觸測(cè)量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，TTV，BOW、WARP、在高效測(cè)量測(cè)同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。可兼容不同材質(zhì)
2024-02-21 13:50:34
作為一款強(qiáng)大的多物理場(chǎng)仿真軟件，為超材料和超表面的研究提供了強(qiáng)大的仿真工具。本文將重點(diǎn)介紹COMSOL Multiphysics在周期性超表面透射反射分析中的應(yīng)用，以期為相關(guān)領(lǐng)域的研究提供
2024-02-20 09:20:23
在電子行業(yè)制造進(jìn)程中，SMT貼片工藝是必不可少的一個(gè)環(huán)節(jié)！在這個(gè)進(jìn)程中，會(huì)產(chǎn)生污染物。這些污染物分為以下幾種：極性污染物焊劑活性劑（有機(jī)酸、乙醇胺等）汗液、手印焊料浮渣元器件和PCB表層氧化物非極性
2024-01-31 13:12:37170 
較高，極易吸附雜質(zhì)粒子，從而導(dǎo)致硅片表面被污染且性能變差，比如顆粒雜質(zhì)會(huì)導(dǎo)致硅片的介電強(qiáng)度降低，金屬離子會(huì)增大光伏電池P-N結(jié)的反向漏電流和降低少子的壽命等。當(dāng)前越來(lái)越多的新材料被廣泛
2024-01-11 11:29:04348 
反應(yīng)表面形貌的參數(shù)。通過(guò)非接觸測(cè)量，WD4000無(wú)圖晶圓幾何形貌測(cè)量設(shè)備將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，TTV、BOW、WARP、在
2024-01-10 11:10:39
WD4000半導(dǎo)體晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng)自動(dòng)測(cè)量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。1、使用光譜共焦對(duì)射技術(shù)測(cè)量晶圓Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR
2024-01-09 09:08:07
如何判斷有源晶振的工作電壓？從晶振的表面能看的出來(lái)嗎？
求高手幫忙
2024-01-09 06:00:34
基于頻率選擇表面（FSS）的紅外輻射調(diào)控被認(rèn)為是解決熱污染、實(shí)現(xiàn)雙碳目標(biāo)的有效途徑。
2023-12-29 16:21:15166 
為了保證PCBA的高可靠性、電器性能穩(wěn)定性和使用的壽命，提升PCBA組件質(zhì)量及成品率，避免污染物污染及因此產(chǎn)生的電遷移，電化學(xué)腐蝕而造成電路失效。需要對(duì)PCBA焊接工藝后的錫膏殘留、助焊劑殘留、油污、灰塵、焊盤氧化層、手印、有機(jī)污染物及Particle等進(jìn)行清洗。
2023-12-24 11:22:08173 
TC-Wafer是將高精度溫度傳感器鑲嵌在晶圓表面，對(duì)晶圓表面的溫度進(jìn)行實(shí)時(shí)測(cè)量。通過(guò)晶圓的測(cè)溫點(diǎn)了解特定位置晶圓的真實(shí)溫度，以及晶圓整體的溫度分布，同還可以監(jiān)控半導(dǎo)體設(shè)備控溫過(guò)程中晶圓發(fā)生的溫度
2023-12-21 08:58:53
WD4000晶圓幾何形貌測(cè)量設(shè)備采用白光光譜共焦多傳感器和白光干涉顯微測(cè)量雙向掃描技術(shù)，完成非接觸式掃描并建立表面3D層析圖像，實(shí)現(xiàn)Wafer厚度、翹曲度、平面度、線粗糙度、總體厚度變化(TTV
2023-12-20 11:22:44
中圖儀器WD4000無(wú)圖晶圓幾何形貌量測(cè)系統(tǒng)自動(dòng)測(cè)量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。它采用白光光譜共焦多傳感器和白光干涉顯微測(cè)量雙向掃描技術(shù)，完成非接觸式掃描并建立表面3D
2023-12-14 10:57:17
是平整度高，適合細(xì)間距器件，缺點(diǎn)也是保質(zhì)期短
OSP板
OSP就是在潔凈的裸銅表面上，以化學(xué)的方法長(zhǎng)出一層有機(jī)膜。使用的是一種水性有機(jī)化合物，選擇性地與銅結(jié)合，并在焊接前提供一層有機(jī)金屬層來(lái)保護(hù)銅
2023-12-12 13:35:04
半導(dǎo)體制造業(yè)依賴復(fù)雜而精確的工藝來(lái)制造我們需要的電子元件。其中一個(gè)過(guò)程是晶圓清洗，這個(gè)是去除硅晶圓表面不需要的顆粒或殘留物的過(guò)程，否則可能會(huì)損害產(chǎn)品質(zhì)量或可靠性。RCA清洗技術(shù)能有效去除硅晶圓表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物，是一項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)的晶圓清洗工藝。
2023-12-07 13:19:14235 隨著技術(shù)的不斷變化和器件尺寸的不斷縮小，清潔過(guò)程變得越來(lái)越復(fù)雜。每次清洗不僅要對(duì)晶圓進(jìn)行清洗，所使用的機(jī)器和設(shè)備也必須進(jìn)行清洗。晶圓污染物的范圍包括直徑范圍為0.1至20微米的顆粒、有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物以及雜質(zhì)。
2023-12-06 17:19:58562 
晶圓測(cè)溫系統(tǒng)tc wafer晶圓表面溫度均勻性測(cè)溫晶圓表面溫度均勻性測(cè)試的重要性及方法 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，晶圓的表面溫度均勻性是一個(gè)重要的參數(shù)
2023-12-04 11:36:42
研究表明，由污染問(wèn)題造成的產(chǎn)品失效率高達(dá)60%以上。而且，很多污染物肉眼難以察覺(jué)，這給電子產(chǎn)品的質(zhì)量帶來(lái)了很大的不確定性。其中離子污染就是造成PCB板失效問(wèn)題的一個(gè)重要原因。
2023-12-01 10:49:55844 GAG-1000VC 一立方 VOC 釋放量環(huán)境測(cè)試箱一、用途：甲醛、VOC（揮發(fā)性有機(jī)物）中的苯、甲苯等成分是世界衛(wèi)生組織認(rèn)定的強(qiáng)致癌物，長(zhǎng)期接觸超標(biāo)濃度的污染物會(huì)嚴(yán)重危害人們健康
2023-11-25 11:41:30
環(huán)境中芳香族污染物對(duì)人身安全及環(huán)境等都造成嚴(yán)重危害，而常規(guī)探測(cè)方式存在探測(cè)效率低、作業(yè)安全性差、易受干擾等瓶頸問(wèn)題。
2023-11-25 10:13:44532 
分析標(biāo)準(zhǔn)/參考：
GB 39731-2020電子產(chǎn)品水污染物排放標(biāo)準(zhǔn)
HJ 700-2014 水質(zhì) 65種元素的測(cè)定 電感耦合等離子體質(zhì)譜法
2023-11-22 10:01:54172 
請(qǐng)問(wèn)像AD8233一樣的晶圓封裝在PCB中如何布線，芯片太小，過(guò)孔和線路都無(wú)法布入，或者有沒(méi)有其他封裝的AD8233
2023-11-14 07:01:48
機(jī)械真空吸附通過(guò)真空泵創(chuàng)建負(fù)壓環(huán)境，真空泵用于從吸附區(qū)域抽氣，從而降低壓力，在晶圓與吸附盤之間產(chǎn)生真空區(qū)域。通常需要密封圈來(lái)確保吸附區(qū)域的密封，防止外界空氣進(jìn)入。這樣可以產(chǎn)生足夠的吸力來(lái)穩(wěn)定地吸附晶圓。
2023-11-12 09:56:51464 
組裝行業(yè)所重視，成為行業(yè)內(nèi)技術(shù)交流研討的主要內(nèi)容之一。因此，本篇文章從PCBA污染物的分類入手，分享了PCBA清潔工藝的一些相關(guān)知識(shí)。
2023-11-10 15:00:14346 
WD4000晶圓幾何形貌測(cè)量及參數(shù)自動(dòng)檢測(cè)機(jī)通過(guò)非接觸測(cè)量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，TTV，BOW、WARP、在高效測(cè)量測(cè)同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷
2023-11-06 10:49:18
、SORI、等反應(yīng)表面形貌的參數(shù)。WD4000自動(dòng)測(cè)量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。1、使用光譜共焦對(duì)射技術(shù)測(cè)量晶圓Thickness、TT
2023-11-06 10:47:07
高效硅太陽(yáng)能電池的加工在很大程度上取決于高幾何質(zhì)量和較低污染的硅晶片的可用性。在晶圓加工結(jié)束時(shí)，有必要去除晶圓表面的潛在污染物，例如有機(jī)物、金屬和顆粒。當(dāng)前的工業(yè)晶圓加工過(guò)程包括兩個(gè)清潔步驟。第一個(gè)
2023-11-01 17:05:58135 
氧化污水處理設(shè)備是一種用于處理污水的設(shè)備，主要用于將有機(jī)污染物轉(zhuǎn)化為無(wú)害物質(zhì)，以減少環(huán)境污染和資源浪費(fèi)。氧化污水處理設(shè)備通常采用生物膜反應(yīng)器技術(shù)，通過(guò)生物膜對(duì)有機(jī)污染物進(jìn)行吸附、降解和轉(zhuǎn)化，達(dá)到
2023-10-30 17:34:15330 
WD4000半導(dǎo)體晶圓表面三維形貌測(cè)量設(shè)備自動(dòng)測(cè)量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。可廣泛應(yīng)用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、顯示
2023-10-23 11:05:50
意味著物聯(lián)網(wǎng)專業(yè)人才可以在不同行業(yè)中找到工作機(jī)會(huì)，并且有機(jī)會(huì)參與創(chuàng)新和改變。3.技術(shù)復(fù)合性：物聯(lián)網(wǎng)專業(yè)需要掌握多個(gè)技術(shù)領(lǐng)域的知識(shí)，如傳感器技術(shù)、通信技術(shù)、大數(shù)據(jù)分析和云計(jì)算等。這種綜合性的技術(shù)背景使得物
2023-10-20 09:48:41
為什么51單片機(jī)不把晶振電路里面的電容內(nèi)置？?
2023-10-20 06:17:00
WD4000半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)設(shè)備自動(dòng)測(cè)量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。1、使用光譜共焦對(duì)射技術(shù)測(cè)量晶圓Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI
2023-10-19 11:08:24
WD4000無(wú)圖晶圓幾何量測(cè)系統(tǒng)自動(dòng)測(cè)量 Wafer 厚度 、表面粗糙度 、三維形貌 、單層膜厚 、多層膜厚 。使用光譜共焦對(duì)射技術(shù)測(cè)量晶圓 Thickness 、TTV 、LTV 、BOW
2023-10-18 09:09:00
的可持續(xù)性均衡發(fā)展。 水污染來(lái)源主要包括生活污水、工業(yè)污水、農(nóng)業(yè)污水、天然污水等。污染物涵蓋有機(jī)物、無(wú)機(jī)物、放射性物質(zhì)、重金屬離子、病原體等，水污染對(duì)于人類生
2023-10-17 17:39:55
FPC電鍍的前處理 柔性印制板FPC經(jīng)過(guò)涂覆蓋層工藝后露出的銅導(dǎo)體表面可能會(huì)有膠黏劑或油墨污染，也還會(huì)有因高溫工藝產(chǎn)生的氧化、變色，要想獲得附著力良好的緊密鍍層必須把導(dǎo)體表面的污染和氧化層去除，使導(dǎo)體表面清潔。
2023-10-12 15:18:24342 吸附，顧名思義，是一個(gè)節(jié)點(diǎn)
吸附到另一個(gè)節(jié)點(diǎn)上。就像船底的貝類一樣，通過(guò)
吸附到船身，在船移動(dòng)的時(shí)候自己也會(huì)跟著移動(dòng)；而錨點(diǎn)，則決定了哪個(gè)位置是該節(jié)點(diǎn)的坐標(biāo)點(diǎn)位置。這里繼續(xù)以船舶為例，錨點(diǎn)就是船舶拋錨后船錨所在點(diǎn)，只不過(guò)船的錨點(diǎn)在船外面，而 HT 節(jié)點(diǎn)的錨點(diǎn)通常在其中心。并且這里的錨鏈?zhǔn)莿傂缘牟荒軓澢?/div>
2023-10-12 10:44:41677 
幾乎所有進(jìn)入晶圓廠的物質(zhì)，包括液體、氣體和環(huán)境空氣，都有可能攜帶污染物，會(huì)對(duì)晶圓和器件的性能造成不利影響。每個(gè)制程區(qū)域?qū)γ糠N污染物的敏感度各不相同。在不破壞成分的情況下，定向去除微污染物需要格外謹(jǐn)慎。定向去除模型可以識(shí)別各種微污染物的威脅，從而保持材料原有的平衡狀態(tài)。示例如下：
2023-09-25 16:50:24208 
;激光除銹機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn) 高效性：激光除銹機(jī)可以快速、高效地去除各種金屬表面的氧化層、銹蝕層、油污等污染物。精度高：激光除銹機(jī)可以精確控制激光束的能量和焦點(diǎn)
2023-09-15 09:56:53
? ? ? ? 摘要：光學(xué)表面的光散射測(cè)量方法為目前測(cè)量光學(xué)元件表面散射特性的一種主要技術(shù)，主要包括角分辨測(cè)量法和總積分測(cè)量法。本文對(duì)上述兩種測(cè)量方法的基本原理和實(shí)驗(yàn)裝置進(jìn)行了系統(tǒng)的闡述，并對(duì)兩種
2023-09-08 09:31:43828 
中，訊維模擬矩陣可以用來(lái)做以下幾方面的模擬和預(yù)測(cè)： 消費(fèi)行為研究：通過(guò)模擬消費(fèi)者的購(gòu)買行為和決策過(guò)程，研究消費(fèi)者的購(gòu)買偏好、購(gòu)買決策影響因素等，為企業(yè)提供更好的產(chǎn)品和服務(wù)。 社交行為研究：通過(guò)模擬人們?cè)谏缃粓?chǎng)合中的行為
2023-09-04 14:23:52230 
PFA花籃（PFA wafer Cassette） 又名 清洗花藍(lán) ，鐵氟龍卡匣 ， 鐵氟龍晶舟盒 ，鐵氟龍晶圓盒為承載半導(dǎo)體晶圓片/硅片
2023-08-29 08:57:51
光學(xué)3D表面輪廓儀是基于白光干涉技術(shù)，結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等快速、準(zhǔn)確測(cè)量物體表面的形狀和輪廓的檢測(cè)儀器。它利用光學(xué)投射原理，通過(guò)光學(xué)傳感器對(duì)物體表面進(jìn)行掃描，并根據(jù)反射光的信息來(lái)
2023-08-21 13:41:46
爬壁機(jī)器人常用的吸附方式有以下幾種：真空吸附、磁性吸附、靜電吸附、粘附吸附。
2023-08-09 15:24:212539 等。爬壁機(jī)器人具有各種各樣的形狀和尺寸，可以適應(yīng)不同的工作場(chǎng)景和表面。爬壁機(jī)器人通常具有以下特點(diǎn)和功能：1.吸附能力：爬壁機(jī)器人能夠通過(guò)吸附或粘附方式將自身固定在墻壁或表面上
2023-08-01 00:27:02889 
目前我國(guó)部分省市已開(kāi)展城市交通路邊站的建設(shè)工作，但數(shù)量相對(duì)較少，且多數(shù)交通污染監(jiān)測(cè)點(diǎn)位于市區(qū)主要代表路段，難以實(shí)現(xiàn)對(duì)港口、機(jī)場(chǎng)、重要交通物流通道等場(chǎng)所的全面監(jiān)測(cè)。為掌握交通環(huán)境污染狀況和環(huán)境
2023-07-17 09:50:37362 
未來(lái)，表面——無(wú)論是廚房電器、汽車內(nèi)飾、醫(yī)療設(shè)備，甚至家具，都將變得越來(lái)越智能。嵌入式照明、觸摸敏感度、加熱，甚至觸覺(jué)反饋，將使無(wú)生命且經(jīng)常被忽略的表面成為無(wú)縫集成用戶控件的顯著設(shè)計(jì)特征。如今，人們正在探索制造這些智能表面的最佳方法。
2023-07-12 18:16:07438 
新材料表面檢測(cè)，多會(huì)面臨表面缺陷檢測(cè)、表面瑕疵檢測(cè)、表面污染物成分分析、表面粗糙度測(cè)試、表面失效分析等需求，以下為常備實(shí)驗(yàn)室資源這是Amanda王莉的第57篇文章,點(diǎn)這里關(guān)注我,記得標(biāo)星01表面檢測(cè)
2023-07-07 10:02:45567 
表面活性劑的復(fù)配可以產(chǎn)生加和效應(yīng)，已經(jīng)應(yīng)用到了實(shí)際的生產(chǎn)中，但其基礎(chǔ)理論方面的研究仍只是近幾年的事，其結(jié)果可以為預(yù)測(cè)表面活性劑的加和增效行為提供指導(dǎo)，以便得到最佳復(fù)配效果。但其研究仍處于初級(jí)階段，主要集中在雙組分復(fù)配體系。
2023-07-04 14:38:10583 晶圓測(cè)溫系統(tǒng)，晶圓測(cè)溫?zé)犭娕迹?b class="flag-6" style="color: red">晶圓測(cè)溫裝置一、引言隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，晶圓制造工藝對(duì)溫度控制的要求越來(lái)越高。熱電偶作為一種常用的溫度測(cè)量設(shè)備，在晶圓制造中具有重要的應(yīng)用價(jià)值。本文
2023-06-30 14:57:40
符合用戶對(duì)產(chǎn)品清潔度的標(biāo)準(zhǔn)。因此，對(duì)PCBA板進(jìn)行清洗是很有必要的。 PCBA生產(chǎn)加工污染物有哪些 污染物的界定為所有使PCBA的化學(xué)、物理或電氣性能減少到不達(dá)標(biāo)水準(zhǔn)表面堆積物、雜物、夾渣及其被吸附物。主要有以下幾個(gè)方面： 1、組成PCBA的電子
2023-06-13 15:30:281689 
焊接是組裝工藝中的關(guān)鍵工藝流程之一。pcba電路板上面的污染物質(zhì)來(lái)源于：焊接后助焊劑殘余物的殘留；組裝中引進(jìn)的導(dǎo)熱硅脂、硅油；以及手出汗、大氣浮塵、纖維、金屬顆粒等等這些。 污染物的不良影響及危害性
2023-06-09 13:43:45847 
VT6000系列共聚焦3D圖像顯微鏡具有優(yōu)異的光學(xué)分辨率，通過(guò)清晰的成像系統(tǒng)能夠細(xì)致觀察到晶圓表面的特征情況，例如：觀察晶圓表面是否出現(xiàn)崩邊、刮痕等缺陷。電動(dòng)塔臺(tái)可以自動(dòng)切換不同的物鏡倍率，軟件自動(dòng)
2023-06-08 14:39:01
近年來(lái)，空氣污染成為威脅我們生活健康的主要因素之一，越來(lái)越多的人開(kāi)始關(guān)注空氣污染的問(wèn)題，空氣染毒監(jiān)測(cè)儀可以幫助我們解決空氣污染危機(jī)。 一、空氣染毒監(jiān)測(cè)儀的功能 空氣染毒監(jiān)測(cè)儀可以檢測(cè)空氣中的污染物
2023-06-07 11:46:54239 晶圓表面的潔凈度對(duì)于后續(xù)半導(dǎo)體工藝以及產(chǎn)品合格率會(huì)造成一定程度的影響，最常見(jiàn)的主要污染包括金屬、有機(jī)物及顆粒狀粒子的殘留，而污染分析的結(jié)果可用以反應(yīng)某一工藝步驟、特定機(jī)臺(tái)或是整體工藝中所遭遇的污染
2023-06-06 10:29:151093 
隨著半導(dǎo)體科技的發(fā)展，在固態(tài)微電子器件制造中，人們對(duì)清潔基底表面越來(lái)越重視。濕法清洗一般使用無(wú)機(jī)酸、堿和氧化劑，以達(dá)到去除光阻劑、顆粒、輕有機(jī)物、金屬污染物以及硅片表面上的天然氧化物的目的。然而，隨著硅電路和器件結(jié)構(gòu)規(guī)模的不斷減小，英思特仍在專注于探索有效可靠的清潔方法以實(shí)現(xiàn)更好的清潔晶圓表面。
2023-06-05 17:18:50437 
有時(shí)候，化學(xué)物質(zhì)會(huì)吸附在表面上，這種現(xiàn)象可能發(fā)生在氣相中的固體表面以及浸沒(méi)在液體溶液中的固體表面。
2023-06-05 11:25:291228 
我是 MSP430 微控制器的新手，盡管我正在使用類似于 Arduino IDE 的 Energia IDE 對(duì) MSP430 進(jìn)行編碼。
我的項(xiàng)目是建立一個(gè)“基于物聯(lián)網(wǎng)的空氣污染監(jiān)測(cè)系統(tǒng)”
我正在
2023-06-05 07:02:18
本項(xiàng)目通過(guò)密度泛函理論結(jié)合非平衡格林函數(shù)方法研究了Cl原子吸附黑磷的自旋輸運(yùn)性質(zhì)，拓展了鹵素原子吸附黑磷的研究。研究結(jié)果表明由于Cl原子的吸附，黑磷的帶隙從1.3 eV的直接帶隙變?yōu)?.26 eV的間接帶隙。
2023-06-02 15:10:31450 
的水污染問(wèn)題則日益緊迫。據(jù)報(bào)道，全球只有不到0.5%的供水可以用作淡水資源，而生活在這些地區(qū)的80%以上的人口面臨水安全威脅。因此，迫切需要高效的方法來(lái)解決廢水處理、去離子和污染物去除問(wèn)題。一種先進(jìn)的電化學(xué)技術(shù)——電吸
2023-05-31 08:41:14655 
在新能源行業(yè)中應(yīng)用起來(lái)。表面清潔度檢測(cè)儀是一種常用于檢測(cè)各種材料表面污染及清洗效果的儀器。它可以測(cè)量并分析物體表面的粒徑、形狀、顏色和表面勢(shì)能等數(shù)據(jù)，從而確定其表面的清
2023-05-30 10:54:17336 
上海伯東代理美國(guó) KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進(jìn)行預(yù)清潔 Pre-clean 的工藝, 對(duì)基材表面有機(jī)物
2023-05-25 10:10:31
BDD適用范圍：研究表明，BDD電極能有效降解各類有機(jī)廢水的污染物，例如醫(yī)藥/農(nóng)藥化工、石化、焦化、冶煉、印染、造紙、制革、炸藥、制酒、垃圾滲濾液等領(lǐng)域的有機(jī)廢水。
2023-05-24 14:30:261292 
半導(dǎo)體大規(guī)模生產(chǎn)過(guò)程中需要在晶圓上沉積集成電路芯片，然后再分割成各個(gè)單元，最后再進(jìn)行封裝和焊接，因此對(duì)晶圓切割槽尺寸進(jìn)行精準(zhǔn)控制和測(cè)量，是生產(chǎn)工藝中至關(guān)重要的環(huán)節(jié)。
2023-05-09 14:12:38
激光清洗不僅可用于清洗有機(jī)污染物質(zhì)，還可以用來(lái)清洗無(wú)機(jī)化合物。激光清洗的原理是利用激光束的高能量密度，使污垢或涂層等物質(zhì)發(fā)生蒸發(fā)或剝離，從而清洗表面。這個(gè)過(guò)程并不依賴于物質(zhì)的化學(xué)性質(zhì)，因此激光清洗
2023-05-08 17:11:07571 
脈沖，在適度的主要參數(shù)下不容易損害金屬材料板材。 ? ? 激光清洗不僅可用于清洗有機(jī)污染物質(zhì)，還可以用來(lái)清洗無(wú)機(jī)化合物，包含金屬生銹、金屬材料顆粒、塵土等。 1、非接觸式清洗，不損傷零件基體; 2、精準(zhǔn)清洗，可實(shí)現(xiàn)精確
2023-05-08 17:08:46422 
通過(guò)金徠等離子體處理，可以提高金屬表面的活性，改善金屬表面的結(jié)合力、增強(qiáng)涂層附著力等性質(zhì)，使得金屬制品的質(zhì)量和性能得到明顯的改善和提升。此外，等離子體處理還可以改善金屬表面的光潔度，使得金屬表面更加平整光滑。
2023-05-05 10:51:23526 
半導(dǎo)體大規(guī)模生產(chǎn)過(guò)程中需要在晶圓上沉積集成電路芯片，然后再分割成各個(gè)單元，最后再進(jìn)行封裝和焊接，因此對(duì)晶圓切割槽尺寸進(jìn)行精準(zhǔn)控制和測(cè)量，是生產(chǎn)工藝中至關(guān)重要的環(huán)節(jié)。
2023-04-28 17:41:49
污染物，從而阻止了活化反應(yīng)的發(fā)生。在熱的化學(xué)鎳溶液中，會(huì)產(chǎn)生氫氣釋放出焊料掩膜單體。然后，它禁止化學(xué)鎳的反應(yīng)并破壞化學(xué)平衡。
原因2：阻焊層不良的表面會(huì)導(dǎo)致焊盤表面劣化。
原因3：填充在微通孔中
2023-04-24 16:07:02
污染物的問(wèn)題正日益突出。盡管傳統(tǒng)表面貼裝技術(shù)（SMT）很好地利用了低殘留和免清洗的焊接工藝，在具有高可靠性的產(chǎn)品中，產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)致密化和部件的小型化裝配使得越來(lái)越難以達(dá)到合適的清潔等級(jí)，同時(shí)由于清潔問(wèn)題導(dǎo)致
2023-04-21 16:03:02
5.1 介紹 在前一章中考慮了不同的PCB和器件配置對(duì)熱行為的影響。通過(guò)對(duì)多種情況的分析和比較，可以得出許多關(guān)于提供LFPAK MOSFETs散熱片冷卻的最佳方式的結(jié)論。 在第4章中考
2023-04-21 15:19:53
）?化學(xué)沉銀?化學(xué)沉錫?無(wú)鉛噴錫（LFHASL）?有機(jī)保焊膜（OSP）?電解硬金?電解可鍵合軟金1、化學(xué)鎳金（ENIG）ENIG也稱為化學(xué)鎳金工藝，是廣泛用于PCB板導(dǎo)體的表面處理。這是一種相對(duì)簡(jiǎn)單
2023-04-19 11:53:15
。外部光反射隨著防眩光和抗反射頂表面的增強(qiáng)而減少，而無(wú)需額外的功耗。02阻絕灰塵、濕氣和冷凝氣隙也容易受到污垢、灰塵、濕氣和冷凝等污染物的影響。污染物的存在會(huì)增加周邊粘合中使用的膠帶或其他材料失效
2023-04-19 11:21:00
PCB墊表面的銅在空氣中容易氧化污染，所以必須對(duì)PCB進(jìn)行表面處理。那么pcb線路板表面常見(jiàn)的處理方法有哪幾種呢？
2023-04-14 14:34:15
有機(jī)污染物是引起水體污染的主要原因，對(duì)水質(zhì)、水中生物及生態(tài)平衡影響極為嚴(yán)重。由于有機(jī)污染物種類復(fù)雜，在水質(zhì)評(píng)價(jià)中多采用綜合性指標(biāo)來(lái)表征有機(jī)污染的程度。化學(xué)需氧量（ＣＯＤ）便是評(píng)價(jià)水體受有機(jī)物污染程度
2023-04-12 10:40:26901 
為多通道信息傳輸提供了新的設(shè)計(jì)思路。陣列天線共形可以很容易地集成在飛機(jī)、導(dǎo)彈、衛(wèi)星等載體平臺(tái)的表面，而不會(huì)破壞載體的形狀、結(jié)構(gòu)和空氣動(dòng)力學(xué)。報(bào)告主要研究共形可重構(gòu)超表面的遠(yuǎn)場(chǎng)波束掃描及多波束產(chǎn)生。
2023-04-10 14:15:04907 ：結(jié)構(gòu)件或PCBA會(huì)有凝露產(chǎn)生。 粉塵 大氣中存在粉塵，粉塵吸附離子污染物沉降于電子設(shè)備的內(nèi)部而造成故障。這是野外電子設(shè)備失效的共同之處。 粉塵分為兩種：粗粉塵是直徑在2.5~15微米的不規(guī)則
2023-04-07 14:59:01
wafer晶圓GDP703202DG恒流1mA表壓2Mpa裸片壓力傳感器die產(chǎn)品概述：GDP0703 型壓阻式壓力傳感器晶圓采用 6 寸 MEMS 產(chǎn)線加工完成，該壓力晶圓的芯片由一個(gè)彈性膜及集成
2023-04-06 14:48:12
容易，但隨著紫外激光的發(fā)展，在絕大多數(shù)情況下，可以優(yōu)先考慮紫外激光。下面是瑞豐恒紫外激光在陶瓷表面的打黑實(shí)例，文字清晰，色差明顯，效率極高。使用瑞豐恒紫外激光打標(biāo)，屬于非接觸加工，可以保證加工精度。不同于傳統(tǒng)
2023-04-04 16:40:21
半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)預(yù)計(jì)將達(dá)到129\.1億美元。到 2029 年。晶圓清洗是在不影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的情況下去除顆粒或污染物的過(guò)程。器件表面晶圓上的污染物和顆粒雜質(zhì)對(duì)器件的性能和可靠性有重大影響。本報(bào)告?zhèn)戎赜诎雽?dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)的不同部分（產(chǎn)品、晶圓尺寸、技術(shù)、操作模式、應(yīng)用和區(qū)域）。
2023-04-03 09:47:511643 
晶錠（ingot）是否存在表面冗余物（顆粒污染物/有機(jī)污染物等）、機(jī)械損傷（劃痕/裂痕/狹縫等）、晶格缺陷（位錯(cuò)等）、應(yīng)力分布不均等方面的缺陷。是否存在雜質(zhì)、機(jī)械損傷、晶格缺陷、應(yīng)力不均勻。 濱松生產(chǎn)的銦鎵砷（InGaAs）材料的紅外相機(jī)工作在900nm-1700n
2023-03-31 07:44:34396 
在整個(gè)晶圓加工過(guò)程中，仔細(xì)維護(hù)清潔的晶圓表面對(duì)于在半導(dǎo)體器件制造中獲得高產(chǎn)量至關(guān)重要。因此，濕式化學(xué)清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中應(yīng)用最重復(fù)的處理步驟。
2023-03-30 10:00:091940 
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