美國將光刻技術(shù)納入出口限制清單

商務(wù)部長威爾伯·羅斯（Wilbur Ross）宣稱：“關(guān)鍵技術(shù)和新興技術(shù)國家戰(zhàn)略是保護(hù)美國國家安全，確保美國在軍事、情報(bào)和經(jīng)濟(jì)事務(wù)中保持技術(shù)領(lǐng)先地位的重...

2020-11-12 標(biāo)簽：芯片光刻技術(shù)EUV 2321 0

AMD憑借其5000系列處理器再次成功進(jìn)入了用戶的應(yīng)收名單

該公司最近推出了Ryzen 9 5950X，5900X，5800X和5600X型號(hào)。盡管在Ryzen 5000系列中使用了7 nm光刻技術(shù)，但與前幾代產(chǎn)...

2020-10-23 標(biāo)簽：處理器amd光刻技術(shù) 2712 0

新型高精度技術(shù)讓納米圖形“變身”二維材料

微工程研究所的研究人員采用了新型納米結(jié)構(gòu)化技術(shù)，稱為熱掃描探針光刻（thermal scanning probe lithography，t-SPL）技...

2020-07-31 標(biāo)簽：高精度納米光刻技術(shù) 1947 0

新型光刻技術(shù)解決硅材料脆性難題，MEMS機(jī)械性能極限有望突破

聯(lián)合小組經(jīng)過長達(dá)十年的研究，重點(diǎn)是采用光刻工藝替代聚焦離子束（FIB）工藝來完成在硅晶圓上的結(jié)構(gòu)制作。FIB雖然可以實(shí)現(xiàn)硅晶圓結(jié)構(gòu)，但會(huì)對(duì)硅表面造成損傷...

2020-06-24 標(biāo)簽：mems光刻技術(shù)半導(dǎo)體芯片 2903 0

DNA納米光刻構(gòu)建高度有序的微流控納米界面

與傳統(tǒng)組織活檢相比，檢測原發(fā)或轉(zhuǎn)移灶中脫離進(jìn)入外周血循環(huán)的腫瘤細(xì)胞（CTC）具有腫瘤分子信息全、侵入性小、取樣方便等優(yōu)勢。CTC分析技術(shù)的挑戰(zhàn)在于如何從...

2020-06-01 標(biāo)簽：微流控光刻技術(shù) 3111 0

一種新型激元光刻技術(shù)，已成為工業(yè)制造的關(guān)鍵技術(shù)

據(jù)國內(nèi)媒體報(bào)道，來自中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所等單位的研究人員，開發(fā)了一種新型飛秒激光等離子激元光刻技術(shù)(FPL)。

2020-05-14 標(biāo)簽：工業(yè)自動(dòng)化光刻技術(shù) 3153 0

新光刻技術(shù)將會(huì)對(duì)納米芯片的發(fā)展產(chǎn)生重大影響

該行業(yè)正在不斷刷新納米芯片的記錄，這無疑將為我們帶來更多的未來計(jì)算可能性。為此，來自世界各地的研究人員正在不斷努力。

2020-04-15 標(biāo)簽：納米芯片光刻技術(shù) 1829 0

利用激光測振技術(shù)提升MEMS器件仿真精度

設(shè)計(jì)和開發(fā)MEMS器件涉及大量的數(shù)學(xué)仿真。在制造過程中進(jìn)行實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證，不僅成本昂貴且非常耗時(shí)。為了精準(zhǔn)地預(yù)測系統(tǒng)響應(yīng)，需要驗(yàn)證仿真模型。但是，當(dāng)需要用模型...

2019-11-30 標(biāo)簽：MEMS器件光刻技術(shù)激光成像 3140 0

臺(tái)積電總市值達(dá)到2482億美元超越英特爾，成為半導(dǎo)體行業(yè)第一

據(jù)臺(tái)積電稱，采用EUV光刻技術(shù)的N7+（7nm+）工藝已經(jīng)大批量的供應(yīng)客戶，但官方?jīng)]有透露具體的合作廠商，目前唯一可完全確認(rèn)的就是華為麒麟990 5G，...

2019-10-12 標(biāo)簽：半導(dǎo)體臺(tái)積電光刻技術(shù) 3517 0

7nm節(jié)點(diǎn)后光刻技術(shù)從DUV轉(zhuǎn)至EUV，設(shè)備價(jià)值劇增

芯片行業(yè)從20世紀(jì)90年代開始就考慮使用13.5nm的EUV光刻（紫外線波長范圍是10~400nm）用以取代現(xiàn)在的193nm。EUV本身也有局限，比如容...

2019-10-01 標(biāo)簽：摩爾定律光刻技術(shù)EUV 8405 0

一文讓你深度了解光刻機(jī)

2019-05-08 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù) 1.1萬 0

2019年第一季度全球個(gè)人電腦出貨量為5850萬臺(tái)，比2018年第一季度下降4.6%

昨天，臺(tái)積電正式宣布了6nm(N6)工藝，在已有7nm(N7)工藝的基礎(chǔ)上大幅度增強(qiáng)，號(hào)稱可提供極具競爭力的高性價(jià)比，而且能加速產(chǎn)品研發(fā)、量產(chǎn)、上市速度。

2019-04-18 標(biāo)簽：臺(tái)積電聯(lián)想光刻技術(shù) 7276 0

國家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”通過驗(yàn)收

2018-12-07 標(biāo)簽：光刻技術(shù)傳感芯片 4187 0

半導(dǎo)體光刻技術(shù)及其發(fā)展歷程，一個(gè)詳盡立體的光刻世界

對(duì)于采用不同設(shè)備制造相同制程IC的制造廠來說，其技術(shù)水平差異就會(huì)很突出，例如，有的廠商用EUV設(shè)備（光刻波長為13.5nm）才能做7nm芯片，而有的廠商...

2018-11-27 標(biāo)簽：集成電路半導(dǎo)體光刻技術(shù) 1.1萬 0

三星半導(dǎo)體已經(jīng)開始使用其7LPP制造工藝生產(chǎn)芯片

三星在其位于韓國華城的Fab S3生產(chǎn)7LPP EUV芯片。該公司每天可以在其ASML Twinscan NXE：3400B EUVL步進(jìn)掃描系統(tǒng)和每個(gè)...

2018-10-22 標(biāo)簽：半導(dǎo)體三星電子光刻技術(shù) 5166 0

新思科技Fusion技術(shù)助力三星7LPP EUV工藝降低功耗、縮小面積并提高性能

新思科技設(shè)計(jì)事業(yè)部營銷與商務(wù)開發(fā)副總裁Michael Jackson表示：“我們與三星的工具和參考流程合作重點(diǎn)在于使設(shè)計(jì)人員能夠使用三星最新的EUV 7...

2018-07-05 標(biāo)簽：三星電子新思科技光刻技術(shù) 4539 0

芯片升級(jí)神助攻 光刻技術(shù)你了解多少？

光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。

2018-04-22 標(biāo)簽：光刻技術(shù) 3528 0