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三星已成功開發(fā)16層3D DRAM芯片

CHANBAEK ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-05-29 14:44 ? 次閱讀

在近日舉行的IEEE IMW 2024活動上,三星DRAM部門的執(zhí)行副總裁Siwoo Lee宣布了一個(gè)重要里程碑:三星已與其他公司合作,成功研發(fā)出16層3D DRAM技術(shù)。同時(shí),他透露,競爭對手美光也已將其3D DRAM技術(shù)擴(kuò)展至8層。

然而,Siwoo Lee強(qiáng)調(diào),盡管取得了這一顯著成就,但三星目前并未計(jì)劃立即進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。相反,公司正專注于研究3D DRAM或垂直堆疊單元陣列晶體管(VS-CAT)技術(shù)的可行性和潛在應(yīng)用。他強(qiáng)調(diào),這項(xiàng)技術(shù)可能在未來對DRAM市場的格局產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響。

Siwoo Lee去年加入三星,此前他在美光負(fù)責(zé)未來存儲芯片的研發(fā)。他豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)和深厚的技術(shù)背景為三星在DRAM領(lǐng)域的技術(shù)創(chuàng)新和戰(zhàn)略布局提供了有力支持。隨著3D DRAM技術(shù)的不斷發(fā)展,我們有理由期待三星將在這一領(lǐng)域取得更多突破。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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