概述
HMC338芯片是一款集成LO放大器的次諧波(x2) MMIC通用混頻器,可在26至33 GHz的頻率范圍中用作上變頻器或下變頻器。 該芯片利用GaAs PHEMT技術,芯片整體面積為1.28mm2。 2 LO至RF隔離性能出色,無需額外濾波。 LO放大器采用單偏置(+3V至+4V)雙級設計,僅需-5 dBm的標稱驅動。 這些數據均采用50 ohm測試夾具中的芯片測得,該夾具通過直徑為0.076 mm (3 mil)、最小長度小于0.31 mm (<12 mils)的焊線連接。
數據表:*附件:HMC338 GaAs MMIC次諧波混頻器芯片技術手冊.pdf
應用
特性
- 集成LO放大器: -5 dBm輸入
- 次諧波(x2) LO
- 高2 LO/RF隔離: 33 dB
- 裸片尺寸: 1.32 x 0.97 x 0.1 mm
框圖
電氣規格
外形圖
焊盤描述
毫米波砷化鎵單片微波集成電路(GaAs MMIC)的安裝與鍵合技術
芯片應通過共晶方式或使用導電環氧直接連接到接地層(詳見HMC通用操作、安裝、鍵合說明 )。建議使用0.127毫米(5密耳)厚的氧化鋁薄膜襯底制作50歐姆微帶傳輸線,用于芯片的射頻信號傳輸(圖1)。如果使用0.254毫米(10密耳)厚的氧化鋁薄膜襯底,芯片需凸起0.150毫米(6密耳),使芯片表面與襯底表面齊平。實現此目的的一種方法是將0.102毫米(4密耳)厚的芯片附著到0.150毫米(6密耳)厚的鉬散熱片(鉬片)上,然后再將其連接到接地層(圖2)。
為了縮短鍵合線長度,微帶襯底應盡可能靠近芯片放置。芯片與襯底的典型間距為0.076毫米(3密耳)。推薦使用寬度為0.075毫米(3密耳)、長度小于0.31毫米(12密耳)的金帶進行鍵合,以減小電感、射頻損耗和插入損耗。
應在Vdd輸入處使用射頻旁路電容。建議使用100 pF單層電容(通過共晶或導電環氧安裝),放置在距離芯片不超過0.762毫米(30密耳)處。
操作注意事項
遵循以下預防措施,以免造成永久性損壞:
- 存儲 :所有裸芯片應放置在基于醚華夫格或凝膠的靜電防護容器中,然后密封在靜電防護袋中運輸。靜電防護袋一旦打開,所有芯片應存放在干燥的氮氣環境中。
- 清潔度 :在清潔環境中操作芯片,請勿使用液體清潔系統清潔芯片。
- 靜電敏感度 :遵循靜電防護措施,防止靜電沖擊。
- 瞬態 :施加偏置時,抑制儀器和偏置電源的瞬態。使用屏蔽信號線和偏置電纜,以減少電感拾取。
- 一般操作 :使用真空吸筆或鋒利的彎頭鑷子沿芯片邊緣操作芯片。芯片表面有脆弱的空氣橋,請勿用真空吸筆、鑷子或手指觸碰。
安裝
芯片背面已金屬化,可使用金錫共晶預制件或導電環氧進行貼裝。貼裝表面應清潔平整。
- 共晶芯片貼裝 :推薦使用80/20的金錫預制件,工作表面溫度為255°C,工具溫度為265°C。使用90/10的氮氫混合氣體時,工具尖端溫度應為290°C。請勿使芯片暴露在高于320°C的溫度下超過20秒,貼裝過程中擦拭時間不得超過3秒。
- 環氧貼裝 :在貼裝表面涂抹少量環氧,確保芯片放置到位后,其周邊能形成一圈薄環氧邊。按制造商的固化時間表固化環氧。
引線鍵合
推薦使用0.003英寸×0.0005英寸的帶狀鍵合線進行射頻鍵合,熱壓超聲鍵合壓力為40 - 60克。推薦使用直徑0.001英寸(0.025毫米)的直流鍵合線,熱壓超聲鍵合。球鍵合推薦使用直徑0.0015英寸(0.038毫米)的鍵合線,壓力為18 - 22克。所有鍵合的標稱階段溫度應為150°C。應施加最小限度的超聲波能量,以實現可靠鍵合。所有鍵合線應盡可能短,長度小于12密耳(0.31毫米)。
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