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標(biāo)簽 > 制造工藝
制造工藝指制造CPU或GPU的制程,或指晶體管門電路的尺寸,單位為納米(nm)。主流的CPU制程已經(jīng)達(dá)到了7-14納米(AMD三代銳龍已全面采用7nm工藝,intel第9代全面采用14nm),更高的在研發(fā)制程甚至已經(jīng)達(dá)到了4nm或更高,已經(jīng)正式商用的高通855已采用7nm制程。
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PCB(印制電路板)使用樹脂膜產(chǎn)品的制造工藝具有獨(dú)特的技術(shù)特點(diǎn)和優(yōu)勢,值得深入探討。樹脂膜是一種功能性材料,通常由聚酰亞胺(PI)、聚酯(PET)或其他...
電路板(PCB)用蓋板和墊板(簡稱為蓋/墊板)是PCB機(jī)械鉆孔加工必備的重要材料之一。它在PCB孔加工中,無論是確保產(chǎn)品品質(zhì)、工藝的實(shí)施,還是經(jīng)濟(jì)效益,...
隨著半導(dǎo)體器件特征尺寸不斷微縮,對高質(zhì)量薄膜材料的需求愈發(fā)迫切。外延技術(shù)作為一種在半導(dǎo)體工藝制造中常用的單晶薄膜生長方法,能夠在單晶襯底上按襯底晶向生長...
曾經(jīng)的自動化工廠,在生產(chǎn)過程中,還需要大量硬件工程師的協(xié)助,需要工人24小時倒班盯生產(chǎn)線,是否會出現(xiàn)機(jī)器故障。有了智能工廠,及時的預(yù)警及糾錯功能,讓工人...
2023-06-29 標(biāo)簽:機(jī)器人制造工藝數(shù)據(jù)庫 758 0
中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對先進(jìn)光刻技術(shù)的理解,本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)...
CMOS超大規(guī)模集成電路制造工藝流程的基礎(chǔ)知識
本節(jié)將介紹 CMOS 超大規(guī)模集成電路制造工藝流程的基礎(chǔ)知識,重點(diǎn)將放在工藝流程的概要和不同工藝步驟對器件及電路性能的影響上。
化合物半導(dǎo)體器件以Ⅲ-Ⅴ族、Ⅱ-Ⅵ族元素通過共價鍵形成的材料為基礎(chǔ),展現(xiàn)出獨(dú)特的電學(xué)與光學(xué)特性。以砷化鎵(GaAs)為例,其電子遷移率高達(dá)8500cm2...
在集成電路制造工藝中,氧化工藝也是很關(guān)鍵的一環(huán)。通過在硅晶圓表面形成二氧化硅(SiO?)薄膜,不僅可以實(shí)現(xiàn)對硅表面的保護(hù)和鈍化,還能為后續(xù)的摻雜、絕緣、...
光纖的質(zhì)量 光纖是數(shù)據(jù)光端機(jī)傳輸數(shù)據(jù)的媒介,其質(zhì)量直接影響到傳輸距離。光纖的質(zhì)量包括其材料、制造工藝、以及光纖的類型(如單模光纖和多模光纖)。 1.1 ...
模內(nèi)轉(zhuǎn)印的概念與應(yīng)用 模內(nèi)轉(zhuǎn)印是一個在成型過程中與裝飾同步的過程。通過在成型過程中對塑料零件進(jìn)行裝飾,可以減少傳統(tǒng)成型后的裝飾、在線生產(chǎn)庫存和額外的操作...
Plating(電鍍)是一種電化學(xué)過程,通過此過程在基片(wafer)表面沉積金屬層。在微電子領(lǐng)域,特別是在Bump連接技術(shù)中,電鍍起到至關(guān)重要的作用,...
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