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標(biāo)簽 > 芯片制造
《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書(shū),作者是(美國(guó))贊特。本書(shū)介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。
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電子信息與科學(xué)技術(shù)的迅猛進(jìn)展, 極大地提升了國(guó)民經(jīng)濟(jì)生活水平、引領(lǐng)者科技進(jìn)步和社會(huì)前進(jìn), 關(guān)乎國(guó)家發(fā)展命運(yùn). 電子信息與科學(xué)技術(shù)的核心在于集成電路的設(shè)計(jì)...
未來(lái),集成電路的發(fā)展到底會(huì)是什么樣子?
晶體管雖然很神奇,但比較脆弱,需要保護(hù),因此在晶體管發(fā)明的同一年,電子封裝也出現(xiàn)了,其首要任務(wù)就是對(duì)晶體管進(jìn)行保護(hù),并通過(guò)引線進(jìn)行晶體管內(nèi)部和外部的電氣...
淺談芯片設(shè)計(jì)的5個(gè)難關(guān)
對(duì)于芯片來(lái)說(shuō)設(shè)計(jì)和工藝同樣復(fù)雜,八十年代EDA技術(shù)誕生——芯片自動(dòng)化設(shè)計(jì),使得芯片設(shè)計(jì)以及超大規(guī)模集成電路的難度大為降低。
2023-05-17 標(biāo)簽:集成電路芯片設(shè)計(jì)eda 687 0
在芯片制造過(guò)程中,測(cè)試是非常重要的一環(huán),它確保了芯片的性能和質(zhì)量。芯片測(cè)試涉及到許多專業(yè)術(shù)語(yǔ)這其中,CP(Chip Probing),F(xiàn)T(Final ...
SiCO薄膜在實(shí)踐中表現(xiàn)如何?低介電薄膜如何解決串?dāng)_、隔離問(wèn)題
串?dāng)_問(wèn)題自電子學(xué)早期就一直存在。幸運(yùn)的是,我們有一個(gè)眾所周知的解決方式:隔離。在嘈雜的房間中,隔離需要在每個(gè)人的周?chē)挤胖酶粢舭澹欢诩呻娐飞希ǔ??..
自動(dòng)化領(lǐng)域容易被忽視的幾個(gè)系統(tǒng)架構(gòu)?
新的架構(gòu)應(yīng)當(dāng)更扁平化,數(shù)據(jù)庫(kù)層以及層級(jí)之間的接口更少。整個(gè)系統(tǒng)應(yīng)該基于一個(gè)統(tǒng)一的數(shù)字平臺(tái),該平臺(tái)具有較少的層級(jí),同時(shí)還應(yīng)具有大部分功能(圖2)。這個(gè)數(shù)字...
2023-08-09 標(biāo)簽:無(wú)線通信芯片制造數(shù)據(jù)庫(kù) 600 0
美光將獲61億美元補(bǔ)助金 加速美國(guó)本土半導(dǎo)體工廠建設(shè)
盡管該筆補(bǔ)貼尚未最終敲定,但預(yù)計(jì)將在不久的將來(lái)正式公布。
本文簡(jiǎn)單介紹了芯片制造的7個(gè)前道工藝。 ? 在探索現(xiàn)代科技的微觀奇跡中,芯片制造無(wú)疑扮演著核心角色,它不僅是信息技術(shù)飛速發(fā)展的基石,也是連接數(shù)字世界與現(xiàn)...
本文簡(jiǎn)單介紹了芯片制造過(guò)程中的兩種刻蝕方法 ? 刻蝕(Etch)是芯片制造過(guò)程中相當(dāng)重要的步驟。 刻蝕主要分為干刻蝕和濕法刻蝕。 ①干法刻蝕 利用等離子...
在集成電路(IC)制造與測(cè)試過(guò)程中,CP(ChipProbing,晶圓探針測(cè)試)和FT(FinalTest,最終測(cè)試)是兩個(gè)重要的環(huán)節(jié),它們承擔(dān)了不同的...
電信號(hào)處理工業(yè)始于上個(gè)世紀(jì)初的真空管,真空管使得收音機(jī)、電視機(jī)和其他電子產(chǎn)品成為可能。它也是世界上第一臺(tái)計(jì)算機(jī)的大腦。
華為麒麟9905G的芯片面積約113平方毫米,片12英寸硅片上大約可生產(chǎn)600顆芯片。每顆芯片上大約集成了103億只晶體管。
2023-10-10 標(biāo)簽:芯片芯片設(shè)計(jì)封裝技術(shù) 516 0
目前制作硅通孔的主要手段有濕法刻蝕,激光加工和干法刻蝕(深反應(yīng)離子刻蝕, DRIE )三種。
MEMS是Micro Electro Mechanical Systems(微機(jī)電系統(tǒng))的縮寫(xiě),具有微小的立體結(jié)構(gòu)(三維結(jié)構(gòu)),是處理各種輸入、輸出信號(hào)...
1.晶體生長(zhǎng)基本流程下圖為從原材料到拋光晶圓的基本工藝流程:2.單晶硅的生長(zhǎng)從液態(tài)的熔融硅中生長(zhǎng)單晶硅的及基本技術(shù)稱為直拉法(Czochralski)。...
選擇性沉積技術(shù)可以分為按需沉積與按需材料工藝兩種形式。 隨著芯片制造技術(shù)的不斷進(jìn)步,制造更小、更快且能效更高的芯片具很大的挑戰(zhàn),尤其是全環(huán)繞柵極(Gat...
????在半導(dǎo)體集成電路(IC)制造過(guò)程中,鋁(Aluminum)是廣泛使用的一種金屬材料,特別是在金屬互連層(metal interconnect)和...
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