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編輯：黃飛
光刻技術介紹 幾種常見的光刻方法
- mems(188308)
- 光刻(29860)
相關推薦
一文看懂：光刻膠的創新應用與國產替代機會
，而光刻工藝又是精密電子元器件制造的關鍵流程，這使得光刻膠在整個電子元器件加工產業，都有著至關重要的地位。 本文簡要介紹幾種代表性光刻膠的成分和機理，重點是光刻膠的新技術應用，以及國產化機會。 ? 光刻膠主要成分 ?
2022-04-25 17:35:22
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微氣泡對光刻膠層的影響
關鍵詞：氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環保光刻膠去除方法的候選方法。已經證明，臭氧微氣泡可以去除硅片上的光刻劑，即使被高劑量的離子注入破壞
2022-01-10 11:37:131396
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半導體光刻的基礎知識
光刻是在基板表面形成復雜設計或結構的過程。光刻技術已經作為一種制造技術使用了數百年。它最初是為印刷機開發的，現在已經成功了作為一種被稱為光刻的微細制造技術而被應用。
2022-07-21 16:12:481466
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光刻工藝的基本步驟
傳統的光刻工藝是相對目前已經或尚未應用于集成電路產業的先進光刻工藝而言的，普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺（見下表）。這是因為 193nm 的光刻依靠浸沒式和多重曝光技術的支撐，可以滿足從 0.13um至7nm 共9個技術節點的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2913995
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光刻技術原理及應用
隨著半導體技術的發展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數量級（從毫米級到亞微米級），已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
光刻及資料分享—Optical Lithography
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 編輯
先分享光刻的參考資料。============================2014-10-17========光刻分類
2014-09-26 10:35:02
光刻機工藝的原理及設備
關于光刻工藝的原理，大家可以想象一下膠片照片的沖洗，掩膜版就相當于膠片，而光刻機就是沖洗臺，它把掩膜版上的芯片電路一個個的復制到光刻膠薄膜上，然后通過刻蝕技術把電路“畫”在晶圓上。 當然
2020-07-07 14:22:55
光刻機是干什么用的
芯片制造流程其實是多道工序將各種特性的材料打磨成形，經循環往復百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區域，最后形成數十億個晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個流程中的一個重要步驟，其實并沒有
2020-09-02 17:38:07
光刻膠
MEMS、芯片封裝和微加工等領域。目前，直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結構與微零件已經成為微加工領域的一項新技術。在微流控芯片加工中，SU-8主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。運用
2018-07-12 11:57:08
光刻膠在集成電路制造中的應用
（電子科技大學 微電子與固體電子學院，成都 610054）摘 要：光刻膠技術是曝光技術中重要的組成部分,高性能的曝光工具需要有與之相配套的高性能的光刻膠才能真正獲得高分辨率的加工能力。主要圍繞光刻
2018-08-23 11:56:31
光刻膠有什么分類？生產流程是什么？
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
光刻膠殘留要怎么解決？
這是我的版圖一部分，然后生成了圖案是這樣的： 感覺間距小的地方全都有殘留，間距大的地方沒有殘留；工藝參數：s9920光刻膠， evg 620‘未進行蒸汽底漆層涂覆，前烘：100攝氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
Futurrex高端光刻膠
Futurrex,成立于1985年，位總部設在美國新澤西州，富蘭克林市。 公司業務范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發最高端產品方面已經有很長的歷史，尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46
Microchem SU-8光刻膠 2000系列
、芯片封裝和微加工等領域。目前，直接采用 SU- 8 光刻膠來制備深寬比高的微結構與微零件已經成為微加工領域的一項新技術。SU 8光刻膠光刻前清洗工藝：為了獲得更好的光刻效果，在進行光刻膠旋涂之前，需要
2018-07-04 14:42:34
lithography平板印刷技術
lithography是一種平板印刷技術，在平面光波回路的制作中一直發揮著重要的作用。具體過程如下：首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面，淀積一層光刻膠；使用掩模版對光刻膠曝光固化，并在
2018-08-24 16:39:21
《炬豐科技-半導體工藝》光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學蝕刻過程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓
的實驗結果。確定了幾個可能影響粘附的因素，并使用實驗設計 (DOE) 方法來研究所選因素的影響和相互作用。確定的最顯著的附著力改進是在光刻膠涂層之前立即加入天然氧化物蝕刻。除了提高附著力外，這種預涂層處理
2021-07-06 09:39:22
三種常見的光刻技術方法
三種常見的光刻技術方法根據暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術。 ◆投影式暴光是利用透鏡或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
半導體光刻技術基本原理
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協同通信的方式有哪些？ 4大數據及認知無線電（名詞解釋） 4半導體工藝的4個主要步驟： 4簡敘半導體光刻技術基本原理 4給出4個全球著名的半導體設備制造商并指出其生產的設備核心技術： 5衛
2021-07-26 08:31:09
國科大《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》課程分享之二：浸沒式光刻工藝缺陷種類、特征及自識別方法
的韋亞一研究員及其團隊具有多年的學術界及工業界的光刻技術經驗積累，并出版有多本專著，其中《計算光刻與版圖優化》一書更是列入中國科學院大學研究生教學輔導書系列。本號獲授權將陸續介紹《集成電路先進光刻技術
2021-10-14 09:58:07
求助 哪位達人有在玻璃上光刻的經驗
本人是菜鳥 需要在玻璃上光刻普通的差值電極 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻膠是AZ5214E 正膠 同樣的工藝和參數在玻璃上附著力差了很多 懇請哪位高人指點一下PS 插值電極的距離為25微米 小女子這廂謝過了
2010-12-02 20:40:41
解析LED晶圓激光刻劃技術
`一、照明用LED光源照亮未來 隨著市場的持續增長，LED制造業對于產能和成品率的要求變得越來越高。激光加工技術迅速成為LED制造業普遍的工具，甚者成為了高亮度LED晶圓加工的工業標準。 激光刻
2011-12-01 11:48:46
魂遷光刻，夢繞芯片，中芯國際終獲ASML大型光刻機 精選資料分享
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關鍵的設備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術皇冠上的明珠”，根據之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
成門極換流晶閘管(IGCT)的光刻技術的設計工藝研究
主要介紹了集成門極換流晶閘管(IGCT)的光刻技術。IGCT器件的光刻次數多，精度要求高，如何保證光刻質量是關鍵。根據IGCT光刻的特點，從光刻機的性能、光刻膠的選用以及刻
2010-06-24 16:48:43
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14光學光刻中的離軸照明技術
提要：本文討論了光學光刻中的離軸照明技術。主要從改善光刻分辨率、增大焦深、提高空間像對比度等方面對離軸照明與傳統照明作了比較，并用 仿真軟件進行了模擬分析。研
2010-11-11 15:45:020
0光刻膠與光刻工藝技術
光刻膠與光刻工藝技術 微電路的制造需要把在數量上精確控制的雜質引入到硅襯底上的微小 區域內,然后把這些區域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:210
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光刻技術工藝及應用
簡單的說用一定波長的波刻蝕材料就是光刻技術,集成電路制造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，形成有效圖形窗口或功能圖形
2011-09-05 11:25:085368
5368光刻技術常見方法
光刻(photoetching)是通過一系列生產步驟將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝在此之后，晶圓表面會留下帶有微圖形結構的薄膜。被除去的部分可能形狀是薄膜內的孔或是殘留的島狀部
2011-09-05 11:38:423712
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集成電路加工光致抗蝕劑概念與光刻技術的介紹
本文主要介紹集成電路加工-光刻技術與光刻膠。集成電路加工主要設備和材料：光刻設備，半導體材料：單晶硅等，掩膜，化學品：光刻膠（光致抗蝕劑），超高純試劑，封裝材料及光刻機的介紹
2017-09-29 16:59:0218
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光刻技術概述及光刻技術的原理
光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得
2018-04-17 16:07:4133630
33630芯片升級神助攻 光刻技術你了解多少？
光刻技術是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003147
3147光刻技術的原理和EUV光刻技術前景
光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得
2018-06-27 15:43:5011776
11776光刻技術的基本原理!光刻技術的種類光學光刻
光刻技術是包含光刻機、掩模、光刻材料等一系列技術，涉及光、機、電、物理、化學、材料等多個研究方向。目前科學家正在探索更短波長的F2激光（波長為157納米）光刻技術。由于大量的光吸收，獲得用于光刻系統
2019-01-02 16:32:2323711
23711淺析光刻技術的原理和EUV光刻技術前景
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-02-25 10:07:535812
5812干貨！光刻技術的原理和EUV光刻技術前景
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。
2019-03-02 09:41:2911136
11136深度探究光刻技術的原理和EUV光刻技術前景
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-03-03 10:00:314088
4088一份關于國產光刻機龍頭——上海微電子的介紹
光刻機應用廣泛，包括IC前道光刻機、用于封裝的后道光刻機以及用于LED領域及面板領域的光刻機等等。封裝光刻機對于光刻的精度要求低于前道光刻要求，面板光刻機與IC前道光刻機工藝相比技術精度也更低，一般為微米級。
2019-04-28 13:55:52228194
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關于EUV光刻機的分析介紹
格芯首席技術官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產工具，未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關鍵。
2019-09-03 17:18:1812845
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光刻技術的原理詳細說明
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-12-21 09:58:4020182
20182光刻機能干什么_英特爾用的什么光刻機_光刻機在芯片生產有何作用
光刻機是芯片制造的核心設備之一，作為目前世界上最復雜的精密設備之一，其實光刻機除了能用于生產芯片之外，還有用于封裝的光刻機，或者是用于LED制造領域的投影光刻機。目前，我國高端的光刻機，基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:0244388
44388音圈電機在光刻機掩模臺系統中的應用
光刻機是中國在半導體設備制造上的大短板。 生產芯片的光刻機又根據工藝分為High End光刻機和Medium and low end光刻機，雖然在High End光刻機上被荷蘭的阿斯麥所壟斷，但在Medium and low end光刻機方面中國的技術已經較為成熟，且不斷在向High End光刻機突破。
2020-06-15 08:05:54999
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提高光刻機性能的關鍵技術及光刻機的發展情況
作為光刻工藝中最重要設備之一，光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術飛速向前發展。了解提高光刻機性能的關鍵技術以及了解下一代光刻技術的發展情況是十分重要的。 光刻機 光刻機（Mask
2020-08-28 14:39:0411746
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一文詳解光刻機技術
最近光刻機十分火，我們經常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機，但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機，5納米光刻機，我為什么會這樣說呢？
2020-10-19 11:42:5120305
20305芯片光刻技術的基本原理及主要步驟
幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。 光刻技術的基本原理 光刻的基本原理是利用光致抗蝕劑（或稱光刻膠）感
2020-11-11 10:14:2022384
22384幾種典型的光刻機對準方式及精度
? 光刻對準技術由最初的明場和暗場對準發展到后來的干涉全息或外差干涉全息對準、混合匹配、由粗略到精細對準技術等。對準精度也由原來的微米級提高到納米級，極大促進了集成電路制造業的發展。目前的高精度光刻
2021-01-12 11:09:5326142
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中科院5nm光刻技術與ASML光刻機有何區別？
5nm光刻技術與ASML光刻機有何區別？ EUV光刻機產能如何？ 大飛_6g（聽友） 請問謝博士，EUV光刻機的產能是怎樣的？比如用最先進的光刻機，滿負荷生產手機芯片麒麟990，每天能產多少片？中芯國際有多少臺投入生產的光刻機？是1臺、5臺還是10臺呢？謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3023476
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光刻機原理介紹
光刻機，是現代光學工業之花，是半導體行業中的核心技術。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位，光刻機，是制造芯片的機器，要是沒有了光刻機，我們就沒有辦法造出芯片，自然也就
2021-07-07 14:31:18125772
125772光刻機原理怎么做芯片
光刻機原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝，光刻機是制造芯片的核心裝備，在芯片的制作中，幾乎每個工藝的實施，都需要用到光刻技術?？梢哉f，光刻機是半導體界的一顆明珠。那么光刻機原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869
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關于光刻的原理、光刻設備等知識點集合
最近光博會上看到一本關于光刻的小冊子，里面有一點內容，分享給大家。 關于光刻的原理、光刻設備、光刻膠的種類和選擇等。 開篇 光刻的原理 表面處理：一般的晶圓光刻前都需要清潔干凈，特別是有有機物
2021-10-13 10:59:423893
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光刻膠和光刻機的關系
光刻膠是光刻機研發的重要材料，換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕跡，就需要網硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281
11281光刻機干啥用的
光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前有用于生產的光刻機，有用于LED制造領域的光刻機，還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術，然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813
85813印刷電子制造中的厚膜光刻技術
“厚膜光刻”工藝是一種通過厚膜金屬化技術（簡稱“厚膜技術”）與光刻技術相結合，達到高精度、低成本、高效率、高靈活性，并已開始成熟商用化的新型微納量產制造技術。
2022-01-17 16:51:091400
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改善去除負光刻膠效果的方法報告
摘要 我們華林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑，選擇負光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數量的影響。實驗表明，低粘度正光刻
2022-01-26 11:43:22687
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半導體光刻是什么
平版印刷術被定義為“一種從已經準備好的平坦表面(如光滑的石頭或金屬板)印刷的方法，以便油墨僅粘附在將要印刷的設計上”。在半導體器件制造中，石頭是硅片，而墨水是沉積、光刻和蝕刻工藝的綜合效果，從而產生
2022-03-14 15:20:531940
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一種半導體制造用光刻膠去除方法
本發明涉及一種去除光刻膠的方法，更詳細地說，是一種半導體制造用光刻膠去除方法，該方法適合于在半導體裝置的制造過程中進行吹掃以去除光刻膠。在半導體裝置的制造工藝中，將殘留在晶片上的光刻膠，在H2O
2022-04-13 13:56:42872
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euv光刻機是哪個國家的
機是哪個國家的呢？ euv光刻機許多國家都有，理論上來說，芯片強國的光刻機也應該很強，但是最強的光刻機制造強國，不是美國、韓國等芯片強國，而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:276977
6977duv光刻機和euv光刻機區別是什么
目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127
78127euv光刻機原理是什么
euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機，是大規模集成電路生產的核心設備，對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099
15099EUV光刻技術相關的材料
與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰，更少的隨機效應、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統的正膠和負膠肯定是沒法用了，DUV光刻機上常用的化學放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現瓶頸
2022-07-22 10:40:082010
2010光刻工藝中使用的曝光技術
根據所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學光刻技術中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:533169
3169
沉浸式光刻技術是什么 原理是什么
沉浸式光刻技術是在傳統的光刻技術中，其鏡頭與光刻膠之間的介質是空氣，而所謂浸入式技術是將空氣介質換成液體。實際上，浸入式技術利用光通過液體介質后光源波長縮短來提高分辨率，其縮短的倍率即為液體介質的折射率。
2022-10-13 16:51:383044
3044光刻膠的原理和正負光刻膠的主要組分是什么
光刻膠的組成：樹脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機械與化學性質（如粘附性、膠膜厚度、熱穩定性等）；感光劑，感光劑對光能發生光化學反應；溶劑（Solvent
2022-10-21 16:40:0415831
15831計算光刻技術的發展
計算光刻 (Computational Lithography)技術是指利用計算機輔助技術來增強光刻工藝中圖形轉移保真度的一種方法，它是分辦率增強技術(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:222274
2274半導體光刻技術的起源與發展
光刻是半導體工業的核心技術。自1960年Fairchild Semiconductor的羅伯特·諾伊斯發明單片集成電路以來，光刻一直是主要的光刻技術。
2022-11-14 11:36:462288
2288華為最新消息 EUV光刻技術新專利面市
號為 CN202110524685.X。這能解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，這個也是 EUV 光刻常見問題。 從介紹中可以看出，該專利提供了一種光刻裝置，通過不斷改變相干光形成的干涉圖樣，使得照明視場在曝光時間內的積累光強均勻化，從而達到勻光的目的，繼而
2022-11-21 15:10:072616
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GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導體光刻 計算光刻技術提速40倍
GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導體光刻 計算光刻技術提速40倍 NVIDIA cuLitho的計算光刻庫可以將計算光刻技術提速40倍。這對于半導體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說
2023-03-23 18:55:377489
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什么是光刻技術
光刻技術簡單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規模集成電路的基礎。目前市場上主流技術是193nm沉浸式光刻技術，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261
2261
光刻技術的種類介紹
根據維基百科的定義，光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。
2023-04-25 11:11:331244
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劃片機：晶圓加工第三篇—光刻技術分為三個步驟
光刻光刻是通過光線將電路圖案“印刷”到晶圓上，我們可以將其理解為在晶圓表面繪制半導體制造所需的平面圖。電路圖案的精細度越高，成品芯片的集成度就越高，必須通過先進的光刻技術才能實現。具體來說，光刻
2022-07-11 11:04:121124
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基于機器學習的逆向光刻技術
中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》研討課。在授課過程中，除教師系統地講授
2023-06-29 10:02:17329
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光刻技術概述及其分類
光刻是一種圖像復制技術，是集成電路工藝中至關重要的一項工藝。簡單地說，光刻類似照相復制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面，然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:531482
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光學光刻技術有哪些分類 光刻技術的原理
光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得的分辨率直接相關，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271
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光刻膠黏度如何測量？光刻膠需要稀釋嗎？
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11571
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關于光刻膠的關鍵參數介紹
與正光刻膠相比，電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來，從而形成負像。
2024-03-20 11:36:50200
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工商網監
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