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Semi Connect

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混合式氮化鎵VCSEL的研究

在混合式氮化鎵?VCSEL?的研究,2010年本研究團(tuán)隊優(yōu)化制程達(dá)到室溫連續(xù)波操作電激發(fā)氮化鎵?VC....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 02-19 14:20 ?303次閱讀
混合式氮化鎵VCSEL的研究

電激發(fā)式藍(lán)紫光垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)

上述實驗結(jié)果為近年來局限在光激發(fā)的氮化鎵?VCSEL?的結(jié)果,一直到2008年,作者實驗室首次在77....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 02-18 11:25 ?367次閱讀
電激發(fā)式藍(lán)紫光垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)

光激發(fā)藍(lán)紫光VCSEL技術(shù)

在氮化鎵藍(lán)光?VCSEL?發(fā)展方面,1996年?Redwing?等人成功制作了第一個室溫下光激發(fā)的氮....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 02-18 09:56 ?258次閱讀
光激發(fā)藍(lán)紫光VCSEL技術(shù)

藍(lán)紫光VCSEL中的反射鏡應(yīng)用探索

在氮化鎵發(fā)光二極體的發(fā)展過程中已受到許多的阻礙,其中包含缺少晶格匹配的基板、p型氮化鎵鎂的低活化率、....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 02-14 17:06 ?242次閱讀
藍(lán)紫光VCSEL中的反射鏡應(yīng)用探索

InAs量子點面發(fā)射激光器的概述

東京大學(xué)荒川泰彥教授(Y. Arakawa)在1982年提出量子點結(jié)構(gòu)的概念,在1994年柏林工業(yè)大....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 02-13 10:54 ?290次閱讀
InAs量子點面發(fā)射激光器的概述

InGaAs量子井面射型雷射介紹

由上述 InP 系列材料面射型雷射發(fā)展可以發(fā)現(xiàn),要制作全磊晶結(jié)構(gòu)的長波長面射型雷射難度較高,因此在1....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 02-07 11:08 ?287次閱讀

InP異質(zhì)接面/量子井面射型雷射

為了應(yīng)用在光纖通訊上有效提升訊號傳輸距離,對于發(fā)光波長1310nm?與1550nm的面射型雷射需求也....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 02-07 10:20 ?251次閱讀
InP異質(zhì)接面/量子井面射型雷射

制作金屬電極的過程

在完成選擇性氧化制程后,通常會將蝕刻后殘留在磊晶片表面繼續(xù)作為氧化制程保護(hù)層的?SiO2或?SiNx....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-24 10:59 ?399次閱讀
制作金屬電極的過程

選擇性氧化知識介紹

采用氧化局限技術(shù)制作面射型雷射元件最關(guān)鍵的差異在于磊晶成長時就必須在活性層附近成長鋁含量莫耳分率高于....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-23 11:02 ?314次閱讀
選擇性氧化知識介紹

蝕刻基礎(chǔ)知識

制作氧化局限面射型雷射與蝕刻空氣柱狀結(jié)構(gòu)一樣都需要先將磊晶片進(jìn)行蝕刻,以便暴露出側(cè)向蝕刻表面(etc....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-22 14:23 ?432次閱讀
蝕刻基礎(chǔ)知識

典型的氧化局限面射型雷射結(jié)構(gòu)

為了改善上述蝕刻柱狀結(jié)構(gòu)以及離子布植法制作面射型雷射的缺點,在1994年從德州大學(xué)奧斯丁分校獲得博士....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-21 13:35 ?303次閱讀
典型的氧化局限面射型雷射結(jié)構(gòu)

面射型雷射制程技術(shù)介紹

目前市場上普遍采用的面射型雷射元件主流技術(shù)為選擇性氧化法,絕大多數(shù)面射型雷射操作特性紀(jì)錄均是由選擇性....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-21 11:38 ?297次閱讀
面射型雷射制程技術(shù)介紹

離子布植法介紹

由于蝕刻柱狀結(jié)構(gòu)有上述金屬電極制作困難且需要額外的蝕刻制程步驟等問題,因此早期業(yè)界及學(xué)術(shù)研究單位最常....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-15 14:18 ?333次閱讀
離子布植法介紹

折射率波導(dǎo)介紹

半導(dǎo)體材料被蝕刻移除后,剩余的柱狀結(jié)構(gòu)與周遭的空氣之間折射率差異也因此增加,因此在柱狀結(jié)構(gòu)中電子電洞....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-15 09:58 ?316次閱讀
折射率波導(dǎo)介紹

增益波導(dǎo)說明

其中蝕刻空氣柱法將大多數(shù)可以導(dǎo)通電流的半導(dǎo)體材料以物理性或化學(xué)方式蝕刻移除后,僅保留直徑數(shù)微米至數(shù)十....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-13 09:42 ?288次閱讀
增益波導(dǎo)說明

半導(dǎo)體雷射相對強度雜訊

從前面一小節(jié)對半導(dǎo)體雷射線寬的討論可以知道,即使半導(dǎo)體雷射操作在穩(wěn)態(tài)的狀況下,還是會有因為自發(fā)輻射所....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-09 16:00 ?266次閱讀
半導(dǎo)體雷射相對強度雜訊

半導(dǎo)體雷射之發(fā)光線寬

從前面的例子中,可以知道線寬增強因子會讓半導(dǎo)體雷射在動態(tài)操作時譜線變寬,接下來我們要討論的是半導(dǎo)體雷....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-08 09:46 ?295次閱讀
半導(dǎo)體雷射之發(fā)光線寬

大信號調(diào)制之?dāng)?shù)值解

為要了解半導(dǎo)體雷射的大信號響應(yīng),我們先針對單模雷射的速率方程式求解,我們將使用線性增益近似以及考慮到....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-07 11:42 ?286次閱讀
大信號調(diào)制之?dāng)?shù)值解

半導(dǎo)體雷射導(dǎo)通延遲時間

當(dāng)半導(dǎo)體雷射從閾值條件以下要達(dá)到雷射的操作,其主動層中的載子必須要先達(dá)到閾值載子濃度才會有雷射光輸出....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-06 14:48 ?456次閱讀
半導(dǎo)體雷射導(dǎo)通延遲時間

高速調(diào)制半導(dǎo)體雷射結(jié)構(gòu)設(shè)計

從(4-40)式我們知道,要達(dá)到高的弛豫頻率,光子生命期要小而閾值電流要低,然而這兩個因素是互相沖突....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-03 14:24 ?356次閱讀
高速調(diào)制半導(dǎo)體雷射結(jié)構(gòu)設(shè)計

弛豫頻率與截止頻率計算

(4-25) 式為我們可以量測得到的半導(dǎo)體雷射調(diào)制響應(yīng)。將之取對數(shù)乘上10之后,其單位即為?dB,如....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 01-03 11:27 ?497次閱讀
弛豫頻率與截止頻率計算

小信號響應(yīng)分析

最常見的半導(dǎo)體雷射調(diào)制是如圖4-1 的直接電流調(diào)制,半導(dǎo)體雷射偏壓操作在固定的電流值I0上,欲輸入的....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 12-31 15:06 ?474次閱讀
小信號響應(yīng)分析

典型的四種VCSEL結(jié)構(gòu)解析

典型的VCSEL 結(jié)構(gòu)主要由p型 DBR、n 型 DBR與光學(xué)共振腔所組成。上下 DBR提供縱向的光....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 12-30 14:44 ?495次閱讀
典型的四種VCSEL結(jié)構(gòu)解析

VCSEL的微共振腔效應(yīng)

由于 VCSEL 共振腔的體積非常小,可以稱之為微共振腔(micro-cavity),因為要達(dá)到閾值....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 12-29 15:20 ?539次閱讀
VCSEL的微共振腔效應(yīng)

詳解VCSEL的溫度效應(yīng)

VCSEL相較于傳統(tǒng)的邊射型雷射而言,另一項重要的區(qū)分在于VCSBL 具有很短的雷射共振腔。
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 12-26 14:10 ?831次閱讀
詳解VCSEL的溫度效應(yīng)

布拉格反射鏡結(jié)構(gòu)設(shè)計

進(jìn)一步考量到 DBR 的設(shè)計時,雖然界面平整的異質(zhì)結(jié)構(gòu)可以提供較大而明顯的折射率差異以達(dá)到較高的 D....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 12-25 10:01 ?368次閱讀
布拉格反射鏡結(jié)構(gòu)設(shè)計

VCSEL與EEL的比較

相較于傳統(tǒng)邊射型半導(dǎo)體雷射的發(fā)展,垂直共握腔面射型雷射(VCSEL)的設(shè)計概念直到1979年首先被I....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 12-20 10:10 ?792次閱讀
VCSEL與EEL的比較

半導(dǎo)體雷射震蕩條件

共振腔中雷射光來回(round trip)振蕩后保持光學(xué)自再現(xiàn)(self-consistency)的....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 12-19 10:52 ?408次閱讀
半導(dǎo)體雷射震蕩條件

半導(dǎo)體光增益與放大特性

在半導(dǎo)體中,光子的放射是由電子和電洞借由垂直躍遷所達(dá)成的,我們可以把具有相同k值的電子一電洞看成一種....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 12-18 11:41 ?803次閱讀
半導(dǎo)體光增益與放大特性

雙異質(zhì)接面介紹

一個基本的半導(dǎo)體雷射如圖2-1所示,包含了兩個平行劈裂鏡面組成的共振腔,稱為Fabry-Perot?....
的頭像 Semi Connect 發(fā)表于 12-18 10:47 ?328次閱讀
雙異質(zhì)接面介紹
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