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中科院半導體所

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多晶硅錠定向凝固生長方法

鑄錠澆注法是較早出現(xiàn)的一種技術,該方法先將硅料置于熔煉坩堝中加熱熔化,隨后利用翻轉(zhuǎn)機械將其注入模具內(nèi)....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-13 14:41 ?546次閱讀

晶體管柵極結(jié)構形成

柵極(Gate)是晶體管的核心控制結(jié)構,位于源極(Source)和漏極(Drain)之間。其功能類似....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 17:33 ?1218次閱讀
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封裝基板設計的詳細步驟

封裝基板設計是集成電路封裝工程中的核心步驟之一,涉及將芯片與外部電路連接的基板(substrate)....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 17:30 ?860次閱讀

集成電路制造工藝中的High-K材料介紹

本文介紹了在集成電路制造工藝中的High-K材料的特點、重要性、優(yōu)勢,以及工藝流程和面臨的挑戰(zhàn)。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 17:00 ?1181次閱讀
集成電路制造工藝中的High-K材料介紹

集成電路制造中的劃片工藝介紹

本文概述了集成電路制造中的劃片工藝,介紹了劃片工藝的種類、步驟和面臨的挑戰(zhàn)。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 16:57 ?1618次閱讀
集成電路制造中的劃片工藝介紹

PMOS與NMOS的工作原理

此處以增強型PMOS,NMOS為例,通常說的MOS管說的都是增強型MOS管。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 15:31 ?2113次閱讀
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金絲鍵合的主要過程和關鍵參數(shù)

金絲鍵合主要依靠熱超聲鍵合技術來達成。熱超聲鍵合融合了熱壓鍵合與超聲鍵合兩者的長處。通常情況下,熱壓....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 15:28 ?1629次閱讀
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硅導熱系數(shù)的基本特性和影響因素

本文介紹了硅的導熱系數(shù)的特性與影響導熱系數(shù)的因素。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 15:27 ?1327次閱讀
硅導熱系數(shù)的基本特性和影響因素

集成電路和光子集成技術的發(fā)展歷程

本文介紹了集成電路和光子集成技術的發(fā)展歷程,并詳細介紹了鈮酸鋰光子集成技術和硅和鈮酸鋰復合薄膜技術。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 15:21 ?842次閱讀
集成電路和光子集成技術的發(fā)展歷程

淺談集成電路設計中的標準單元

本文介紹了集成電路設計中Standard Cell(標準單元)的概念、作用、優(yōu)勢和設計方法等。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 15:19 ?688次閱讀

光通信中光電二極管的工作原理

本文介紹了光通信中的光電二極管的工作原理,及其響應度和效率的概念。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 14:27 ?925次閱讀
光通信中光電二極管的工作原理

一文詳解淺溝槽隔離技術

隨著集成電路尺寸縮小至亞微米技術節(jié)點,原始的本征氧化隔離技術(LocOS)已不適應?!案綦x”是指利用....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 14:05 ?1355次閱讀
一文詳解淺溝槽隔離技術

芯片封裝中的焊點圖案設計

Bump Pattern Design(焊點圖案設計) 是集成電路封裝設計中的關鍵部分,尤其在BGA....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-06 16:44 ?925次閱讀

如何進行晶圓檢測

在關鍵尺寸的在線量測環(huán)節(jié),所運用的設備主要涵蓋 CD-SEM 以及 OCD(optical crit....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-06 16:42 ?2177次閱讀
如何進行晶圓檢測

深度解讀芯片封裝設計

封裝設計是集成電路(IC)生產(chǎn)過程中至關重要的一環(huán),它決定了芯片的功能性、可靠性和制造工藝。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-06 09:21 ?598次閱讀
深度解讀芯片封裝設計

一文詳解共晶鍵合技術

鍵合技術主要分為直接鍵合和帶有中間層的鍵合。直接鍵合如硅硅鍵合,陽極鍵合等鍵合條件高,如高溫、高壓等....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-04 17:10 ?1189次閱讀
一文詳解共晶鍵合技術

芯片封裝中的RDL(重分布層)技術

封裝中的RDL(Redistribution Layer,重分布層)是集成電路封裝設計中的一個重要層....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-04 17:08 ?2166次閱讀
芯片封裝中的RDL(重分布層)技術

半導體芯片加工工藝介紹

光刻是廣泛應用的芯片加工技術之一,下圖是常見的半導體加工工藝流程。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-04 17:07 ?972次閱讀
半導體芯片加工工藝介紹

速率可調(diào)的光傳輸和彈性光網(wǎng)絡

當前光纖系統(tǒng)已廣泛應用于從接入到核心骨干網(wǎng)的各個層級。各層級因功能需求差異采用不同技術方案:例如核心....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-04 11:17 ?934次閱讀
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芯片有源區(qū)的作用和工藝流程

在芯片制造中,有源區(qū)(Active Area)是晶體管的核心工作區(qū)域,負責電流的導通與信號處理。它如....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-04 09:49 ?1402次閱讀
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集成電路封裝設計為什么需要Design Rule

封裝設計Design Rule 是在集成電路封裝設計中,為了保證電氣、機械、熱管理等各方面性能而制定....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-04 09:45 ?463次閱讀

納米技術的發(fā)展歷程和制造方法

納米技術是一個高度跨學科的領域,涉及在納米尺度上精確控制和操縱物質(zhì)。集成電路(IC)作為已經(jīng)達到納米....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-04 09:43 ?1818次閱讀
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半導體集成電路的可靠性評價

半導體集成電路的可靠性評價是一個綜合性的過程,涉及多個關鍵技術和層面,本文分述如下:可靠性評價技術概....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-04 09:17 ?548次閱讀
半導體集成電路的可靠性評價

熱管理在芯片封裝中的重要性

如果將芯片封裝比作“房屋結(jié)構”,那么熱仿真就像在建造前做“房屋通風模擬”。在圖紙階段先預測各房間是否....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-03 11:33 ?476次閱讀

芯片制造中的淺溝道隔離工藝技術

淺溝道隔離(STI)是芯片制造中的關鍵工藝技術,用于在半導體器件中形成電學隔離區(qū)域,防止相鄰晶體管之....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-03 10:00 ?1641次閱讀
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集成電路設計與制造過程

一個復雜的處理器可能包含數(shù)億甚至數(shù)十(百)億個晶體管,這些晶體管通過細金屬線彼此互聯(lián)。芯片的制造過程....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-03 09:56 ?1852次閱讀
集成電路設計與制造過程

硅集成電路技術的優(yōu)勢與挑戰(zhàn)

硅作為半導體材料在集成電路應用中的核心地位無可爭議,然而,隨著科技的進步和器件特征尺寸的不斷縮小,硅....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-03 09:21 ?537次閱讀
硅集成電路技術的優(yōu)勢與挑戰(zhàn)

芯片架構設計的關鍵要素

芯片架構設計的目標是達到功能、性能、功耗、面積(FPA)的平衡。好的芯片架構能有效提升系統(tǒng)的整體性能....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-01 16:23 ?633次閱讀

等離子體蝕刻工藝對集成電路可靠性的影響

隨著集成電路特征尺寸的縮小,工藝窗口變小,可靠性成為更難兼顧的因素,設計上的改善對于優(yōu)化可靠性至關重....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-01 15:58 ?803次閱讀
等離子體蝕刻工藝對集成電路可靠性的影響

集成電路開發(fā)中的器件調(diào)試環(huán)節(jié)

本文介紹了集成電路開發(fā)中的器件調(diào)試環(huán)節(jié),包括其核心目標、關鍵技術與流程等內(nèi)容。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-01 14:29 ?438次閱讀
集成電路開發(fā)中的器件調(diào)試環(huán)節(jié)
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