根據(jù)ASML財(cái)報(bào)顯示, 2018年Q4季EUV光刻機(jī)設(shè)備完成5臺(tái)交付,全年EUV光刻機(jī)設(shè)備總銷量達(dá)到18臺(tái),并計(jì)劃2019年將完成30臺(tái)的交付量。 圖1:ASML 2014~2018財(cái)年?duì)I收對(duì)照分析
2019-01-25 14:50:50
10824 10月15日,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,目前全球頂尖的光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML正在研發(fā)第三款EUV光刻機(jī),并計(jì)劃于明年年中出貨。 從其所公布的信息來(lái)看,新款光刻機(jī)型號(hào)命名為TWINSCAN NXE:3600D
2020-10-17 05:02:00
3456 對(duì)于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言,EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在,為了在未來(lái)的工藝軍備競(jìng)賽中保持優(yōu)勢(shì),臺(tái)積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購(gòu)置EUV光刻機(jī)。 ? 然而,當(dāng)這些來(lái)自
2022-07-22 07:49:00
2403 EUV 作為現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī),是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備,因?yàn)樗l(fā)射的光線波長(zhǎng)僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一,能夠蝕刻更加精細(xì)的半導(dǎo)體電路,所以 EUV 也被成為“突破摩爾定律的救星
2018-05-17 09:22:20
10936 他們正在研發(fā)下一代極紫外光刻機(jī)的,計(jì)劃在2022年年初開(kāi)始出貨,2024/2025年大規(guī)模生產(chǎn)。 在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開(kāi)始出貨。根據(jù)
2020-03-18 09:16:39
2659 根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示,ASML在12月中完成了第100臺(tái)EUV光刻機(jī)的出貨。更加利好的消息是,業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年(2021年)的EUV光刻機(jī)產(chǎn)能將達(dá)到45~50臺(tái)的規(guī)模。
2021-01-03 00:28:00
4735 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/李彎彎)據(jù)外媒報(bào)道,SK海力士希望在中國(guó)工廠無(wú)錫使用EUV光刻機(jī),提高存儲(chǔ)芯片的生產(chǎn)效率,然而該工廠升級(jí)改造計(jì)劃卻遇到極大阻礙,因?yàn)槊绹?guó)官員不允許SK海力士將ASML 的EUV
2021-11-24 09:28:34
4520 作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無(wú)論是英特爾、臺(tái)積電還是三星,EUV光刻機(jī)的購(gòu)置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆,也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:41
10988 盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠商,憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵,主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場(chǎng)份額,但這并不代表著其他光刻機(jī)廠商也就“聽(tīng)天由命”了。以兩大國(guó)外光刻機(jī)廠商尼康和佳能為例,他們就仍在
2022-11-24 01:57:00
4865 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后,單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來(lái)的埃米級(jí)工藝,將晶體管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 01:48:00
2199 ofweek電子工程網(wǎng)訊 國(guó)際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺(tái)積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對(duì)半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)(EUV)的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
`光刻機(jī)MPA500FAb用光柵尺傳感器(掃描部位)供應(yīng)。型號(hào):SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
2020-01-31 18:04:14
,光源是ArF(氟化氬)準(zhǔn)分子激光器,從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機(jī),但是到了7nm這個(gè)節(jié)點(diǎn)已經(jīng)的DUV光刻的極限,所以Intel、三星和臺(tái)積電都會(huì)在7nm這個(gè)節(jié)點(diǎn)引入極紫外光(EUV
2020-07-07 14:22:55
!光刻機(jī)本身的原理,其實(shí)和相機(jī)非常相似,同學(xué)們可以把光刻機(jī)就想成是一臺(tái)巨大的單反相機(jī)。相機(jī)的原理,是被攝物體被光線照射所反射的光線,透過(guò)相機(jī)的鏡頭,將影像投射并聚焦在相機(jī)的底片(感光元件)上,如此便可
2020-09-02 17:38:07
`現(xiàn)在處理一批MA-1200光刻機(jī)的零件,有需要的朋友請(qǐng)直接聯(lián)系我:137-3532-3169`
2020-02-06 16:24:39
1座支持20納米12英寸廠南科Fab14第5期已全產(chǎn)能投片,第2座12英寸廠Fab14第6期將在7月正式進(jìn)入量產(chǎn),將成為臺(tái)積電第3季營(yíng)收挑戰(zhàn)2,000億元新高的重要?jiǎng)幽堋?臺(tái)積電原本計(jì)劃在今年底轉(zhuǎn)進(jìn)
2014-05-07 15:30:16
通的新一代電源管理芯片,2018年開(kāi)始批量發(fā)貨。臺(tái)積電將分配更多8英寸晶圓廠產(chǎn)能來(lái)完成高通的訂單。高通最早與特許半導(dǎo)體簽訂了生產(chǎn)電源管理芯片的合同,后來(lái)Globalfoundries收購(gòu)了特許半導(dǎo)體并接管
2017-09-27 09:13:24
%,Lam Research為10億美元,占臺(tái)積電采購(gòu)額的9%,迪恩士占5%,KLA占4%。ASML目前,全球僅有ASML一家公司掌握著EUV光刻機(jī)的核心技術(shù),這也是5nm制程必需的設(shè)備,但EUV
2020-03-09 10:13:54
的支持下,三星也開(kāi)啟了“買買買”。 在去年年底被傳向ASML下了一個(gè)15臺(tái)EUV光刻機(jī)訂單后,今年一月,又有纖細(xì)表示三星計(jì)劃斥資33.8億美元采購(gòu)20臺(tái)EUV光刻機(jī)。據(jù)報(bào)道,這批EUV設(shè)備不僅會(huì)用于7
2020-02-27 10:42:16
如果國(guó)家以兩彈一星的精神投入光刻機(jī)的研發(fā)制造,結(jié)果會(huì)怎樣?
2020-06-10 19:23:14
據(jù)羊城晚報(bào)報(bào)道,近日中芯國(guó)際從荷蘭進(jìn)口的一臺(tái)大型光刻機(jī),順利通過(guò)深圳出口加工區(qū)場(chǎng)站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū),中芯國(guó)際發(fā)表公告稱該光刻機(jī)并非此前盛傳的EUV光刻機(jī),主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴(kuò)容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
光刻機(jī)的工作臺(tái)是一個(gè)六自由度的運(yùn)動(dòng)臺(tái),其中X/Y向運(yùn)動(dòng)臺(tái)是的核心基礎(chǔ)工序。管控XY軸角度Yaw和Pitch,直線度Horizontal Straightness和Vertical
2023-02-20 15:49:07
GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀,光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù),通過(guò)將光線通過(guò)
2023-07-07 11:46:07
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后,EUV光刻機(jī)越來(lái)越重要,全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了,他們總共賣出18臺(tái)EUV光刻機(jī),總價(jià)值超過(guò)20億歐元,折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過(guò)1億歐元,可謂價(jià)值連城。
2017-01-19 18:22:59
3470 125片晶圓)的性能規(guī)格。那就意味著最初計(jì)劃在2004年推出的EUV光刻機(jī),在延誤了十三年之后,終于準(zhǔn)備好了。
2018-01-23 14:51:00
8018 
光刻機(jī),是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中最重要的設(shè)備之一,荷蘭ASML公司已經(jīng)成為全球光刻機(jī)市場(chǎng)的一哥,壟斷了高端光科技生產(chǎn),在EUV光刻機(jī)領(lǐng)域更是獨(dú)一份。
2018-07-19 16:52:00
2940 (極紫外線)光刻機(jī),價(jià)值1.2億美元。目前,業(yè)內(nèi)已達(dá)成共識(shí),必須使用EUV光刻機(jī)才能使半導(dǎo)體芯片進(jìn)入7nm,甚至5nm時(shí)代。今天,中芯國(guó)際方面對(duì)觀察者網(wǎng)表示,對(duì)此事不做評(píng)論。
2018-09-05 15:24:19
14570 將增長(zhǎng)到30臺(tái),而且明年下半年會(huì)推出新一代的NXE:3400C型光刻機(jī),生產(chǎn)能力從現(xiàn)在的每小時(shí)125晶圓提升到155片晶圓以上,意味著產(chǎn)能提升24%。 在現(xiàn)有的EUV之外,ASML與IMEC比利時(shí)微電子
2018-11-02 10:14:19
834 ASML副總裁Anthony Yen表示,ASML已開(kāi)始開(kāi)發(fā)極紫外(EUV)光刻機(jī),其公司認(rèn)為,一旦當(dāng)今的系統(tǒng)達(dá)到它們的極限,就將需要使用極紫外光刻機(jī)來(lái)繼續(xù)縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:07
7142 由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV,同時(shí)ASML(荷蘭阿斯麥)將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺(tái)提升到今年的預(yù)計(jì)30臺(tái),顯然促使臺(tái)積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:03
7913 掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML(阿斯麥)公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào),當(dāng)季營(yíng)收25.68億歐元,其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元,總計(jì)出貨了41臺(tái)光刻機(jī),其中EUV光刻機(jī)7臺(tái)。
2019-07-18 16:02:00
3147 
掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML(阿斯麥)公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào),當(dāng)季營(yíng)收25.68億歐元,其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元,總計(jì)出貨了41臺(tái)光刻機(jī),其中EUV光刻機(jī)7臺(tái)。
2019-07-23 10:47:21
3102 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示,如果在5nm的時(shí)候沒(méi)有使用EUV光刻機(jī),那么光刻的步驟將會(huì)超過(guò)100步,這會(huì)讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無(wú)疑是未來(lái)5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具,未來(lái)圍繞EUV光刻機(jī)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)將會(huì)變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來(lái)在先進(jìn)工藝市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:18
12845 
據(jù)韓媒報(bào)道稱,ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī),與現(xiàn)有光刻機(jī)相比,二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡,通過(guò)提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%,達(dá)到業(yè)界對(duì)幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:39
5849 近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽(tīng)得越來(lái)越多,三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝,蘋果的A13
2020-02-29 10:58:47
3149 據(jù)中國(guó)證券報(bào)報(bào)道,3月6日下午從中芯國(guó)際獲悉,日前中芯國(guó)際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺(tái)大型光刻機(jī),但這是設(shè)備正常導(dǎo)入,用于產(chǎn)能擴(kuò)充,并非外界所稱的EUV光刻機(jī)。
2020-03-07 10:55:14
4167 在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開(kāi)始出貨。
2020-03-17 09:13:48
2863 在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開(kāi)始出貨。
2020-03-17 09:21:19
4670 頂級(jí)光刻機(jī)有多難搞?ASML的光刻機(jī),光一個(gè)零件他就調(diào)整了10年!拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機(jī)舉例,其內(nèi)部精密零件多達(dá)10萬(wàn)個(gè),比汽車零件精細(xì)數(shù)十倍!
2020-07-02 09:38:39
11513 與此同時(shí), 他指出,EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量,迄今為止,他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機(jī)曝光了超過(guò)1100萬(wàn)個(gè)EUV晶圓,并交付了57個(gè)3400x EUV系統(tǒng)(3400平臺(tái)是EUV生產(chǎn)平臺(tái))。
2020-08-14 11:20:55
2048 
【重磅】王毅到訪荷蘭,期待放行ASML EUV光刻機(jī) 來(lái)源:中國(guó)半導(dǎo)體論壇 彭博引述知情人士消息稱,荷蘭政府極有可能不會(huì)給予ASML向中國(guó)出貨EUV光刻機(jī)的許可證。一年前的許可證到期后,在美國(guó)
2020-09-10 14:19:11
2577 荷蘭阿斯麥(ASML)公司的光刻機(jī)作為世界上最貴最精密的儀器,相信大家都有耳聞,它是加工芯片的設(shè)備。其最先進(jìn)的EUV(極紫外光)光刻機(jī)已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片,據(jù)說(shuō)一套最先進(jìn)的7納米EUV
2020-10-15 09:20:05
4438 ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元,折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:49
9647 
11月5日,世界光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進(jìn)博會(huì)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV(極紫外光)光刻機(jī)的企業(yè),由于ASML目前仍不能向中國(guó)出口EUV光刻機(jī),所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻機(jī)。據(jù)悉,該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:46
5517 ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域幾乎是巨無(wú)霸的存在,而他們對(duì)于與中國(guó)企業(yè)合作也是非常歡迎,無(wú)奈一些關(guān)鍵細(xì)節(jié)上被美國(guó)卡死。 中國(guó)需要光刻機(jī),尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī),特別是 EUV (極紫外光源)光刻機(jī)
2020-11-10 10:08:04
3056 中國(guó)需要光刻機(jī),尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來(lái)說(shuō),就是 EUV (極紫外光源)光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:30
4278 
。 EUV光刻機(jī)參與的將是SK海力士的第四代(1a nm)內(nèi)存,在內(nèi)存業(yè)內(nèi),目前的代際劃分是1x、1y、1z和1a。 EUV光刻機(jī)的參與可以減少多重曝光工藝,提供工藝精度,從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本,并提高性能。 當(dāng)然,EUV光刻機(jī)實(shí)在是香餑餑。唯一的制造商ASML(
2020-11-26 18:23:29
1761 自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后,需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備,才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品,但就在近日,又有外媒豪言:這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī),目前全球
2020-12-03 13:46:22
6379 需要明白的是,EUV光刻機(jī)不是有錢就能買,因?yàn)锳SML每年的產(chǎn)能非常有限,2019年全年才出貨了26臺(tái),今年上半年出貨了13臺(tái),截至三季度結(jié)束累計(jì)才出貨23臺(tái)。
2020-12-11 13:56:20
2186 荷蘭阿斯麥公司作為掌握光刻機(jī)系統(tǒng)集成和整體架構(gòu)的核心企業(yè),自然成了歐美自家的小棉襖,順利趕上了歐美EUV技術(shù)研究發(fā)展的風(fēng)口,投資德國(guó)卡爾蔡司,收購(gòu)美國(guó)Cymer光源。集成世界各國(guó)頂尖科技的EUV
2020-12-28 09:25:55
18165 之前有消息稱,臺(tái)積電正在籌集更多的資金,為的是向ASML購(gòu)買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī),而這些都是為了新制程做準(zhǔn)備。
2020-12-29 09:22:48
2192 Luc Van den hove表示,IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場(chǎng),目前ASML把握著全球主要的先進(jìn)光刻機(jī)產(chǎn)能,近年來(lái),IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機(jī),目前目標(biāo)是將工藝規(guī)模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:48
1673 ? ? 半導(dǎo)體晶圓代工成為全球科技競(jìng)爭(zhēng)的焦點(diǎn),先進(jìn)制程的角逐競(jìng)爭(zhēng)日趨激烈,ASML的EUV光刻機(jī)供應(yīng)成為產(chǎn)業(yè)界關(guān)心的話題。2021年臺(tái)積電和三星將需要ASML供應(yīng)多少臺(tái)EUV光刻機(jī)?臺(tái)灣和日本產(chǎn)
2020-12-30 17:53:35
4016 
而2018年中芯與ASML簽訂了一項(xiàng)EUV光刻機(jī)購(gòu)買協(xié)議,以1.2億美元購(gòu)買一臺(tái)光刻機(jī),但直到現(xiàn)在都沒(méi)有交貨,因?yàn)闆](méi)有拿到出口許可證。
2021-01-08 11:37:51
2368 EUV(極紫外光)光刻機(jī),是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來(lái),有不少消息都指出,EUV光刻機(jī)耗電量非常大,甚至它還成為困擾臺(tái)積電的一大難題。 為何EUV光刻機(jī)會(huì)這么耗電
2021-02-14 14:05:00
3915 ASML EUV光刻機(jī)的引進(jìn)方式、確切時(shí)間等。 因此業(yè)內(nèi)人士有諸多揣測(cè),包括將研究大樓R3的2臺(tái)EUV光刻機(jī)轉(zhuǎn)移至該產(chǎn)線,并計(jì)劃于今年2月開(kāi)始安裝新購(gòu)買的設(shè)備等。現(xiàn)在看來(lái),SK海力士新設(shè)備的購(gòu)買和安裝速度快于業(yè)界預(yù)期。 該報(bào)道指出,EUV光刻機(jī)的安裝時(shí)程需要3-6個(gè)月,因此SK海力士最快
2021-01-20 18:19:20
2146 目前,還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),三星、臺(tái)積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約,中國(guó)大陸沒(méi)有從ASML買來(lái)一臺(tái)EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:18
4078 在四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上,荷蘭ASML(阿斯麥)表示,預(yù)計(jì)今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī),比去年多9臺(tái)。
2021-01-21 15:16:43
1369 %,凈利潤(rùn)達(dá)到36億歐元。全球光刻機(jī)主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他們占到了全球市場(chǎng)90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先,一家壟斷了第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī),這類光刻機(jī)用于制造7nm以下先進(jìn)制程的芯片。 2020年ASML對(duì)外銷售了31臺(tái)EUV光刻機(jī),帶來(lái)了45億歐元(折合352.52億
2021-01-22 10:38:16
4677 
ASML公司前兩天發(fā)布了財(cái)報(bào),全年凈銷售額140億歐元,EUV光刻機(jī)出貨31臺(tái),帶來(lái)了45億歐元的營(yíng)收,單價(jià)差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)很亮眼,但是ASML也有隱憂,實(shí)際上EUV光刻機(jī)
2021-01-22 17:55:24
2639 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了,SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:55
1644 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了,SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)
2021-02-25 09:30:23
2047 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了,SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:09
1844 一提起ASML這家公司,就少不了對(duì)光刻機(jī)問(wèn)題的討論,因?yàn)榻刂聊壳埃珹SML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機(jī)廠商。普通的DUV光刻機(jī)就不多說(shuō)了,ASML每年都能賣出去很多臺(tái),而在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)方面,ASML更是占據(jù)了絕對(duì)壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:42
14073 光刻機(jī)是我國(guó)芯片制造業(yè)一大痛點(diǎn),目前,在EUV光刻機(jī)賽道中,僅有ASML一個(gè)玩家。
2021-03-02 15:29:13
9297 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單,另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:41
1757 中芯國(guó)際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm,若想將芯片工藝進(jìn)一步提升至7nm乃至3nm等先進(jìn)制程,EUV光刻機(jī)設(shè)備就必不可少。那么,中芯國(guó)際此次12億美元的采購(gòu)協(xié)議都有哪些類型的光刻機(jī),包含EUV光刻機(jī)嗎?
2021-03-10 14:36:55
9465 以下內(nèi)容由對(duì)話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何? ● 晶圓為什么是圓的? ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別? ● 什么是邏輯芯片,邏輯芯片又包括哪些? ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:30
23476 日前,ASML產(chǎn)品營(yíng)銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV(極紫外)光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
2021-03-19 09:39:40
4630 第二代EUV光刻機(jī)原本預(yù)計(jì)最快可以2023年問(wèn)世,但最新傳聞稱NXE:5000系列跳票,而且一下子就跳票三年,要到2025-2026年才有可能問(wèn)世了。 要知道,ASML是全球唯一一家量產(chǎn)EUV光刻機(jī)
2021-06-26 16:55:28
1203 美國(guó)媒體7月19日?qǐng)?bào)道,美國(guó)政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機(jī)(極紫外光刻機(jī))進(jìn)入中國(guó)大陸。 報(bào)道稱,中國(guó)政府此前與荷蘭政府協(xié)商,要求允許中國(guó)公司購(gòu)買ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備(極紫外光刻機(jī)
2021-07-21 16:52:25
2126 美國(guó)華爾街日?qǐng)?bào)7月19日?qǐng)?bào)道,美國(guó)政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機(jī)(極紫外光刻機(jī))進(jìn)入中國(guó)大陸。 華爾街日?qǐng)?bào)報(bào)道稱,中國(guó)政府此前與荷蘭政府協(xié)商,要求允許中國(guó)公司購(gòu)買ASML生產(chǎn)的EUV
2021-07-25 17:35:15
2919 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無(wú)論是英特爾、臺(tái)積電還是三星,EUV光刻機(jī)的購(gòu)置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆,也成了
2021-12-07 14:01:10
10742 臺(tái)積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開(kāi)始應(yīng)用EUV光刻層了,并且在隨后的工藝迭代中,逐步增加半導(dǎo)體制造過(guò)程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:20
2077 
媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機(jī)。 目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚,再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機(jī)才能打造,而本來(lái)EUV光刻機(jī)就稀少,因此先進(jìn)芯片發(fā)展頻頻受限,并且前段時(shí)間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜,因
2022-06-07 14:18:04
1176 日前,在臺(tái)積電召開(kāi)的會(huì)議上,有一名高管稱臺(tái)積電將于2024年引進(jìn)ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機(jī)。 會(huì)議中,該高管稱:為了滿足客戶所需的相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施的開(kāi)發(fā)等,臺(tái)積電將于2024
2022-06-17 16:33:27
6499 據(jù)CNBC報(bào)道稱,世界聞名的先進(jìn)光刻機(jī)智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)。
2022-06-18 08:13:03
1794 在芯片研發(fā)的過(guò)程中,光刻機(jī)是必不可少的部分,而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展,普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了,必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程,而目前臺(tái)積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:12
6676 中國(guó)芯的進(jìn)步那是有目共睹,我國(guó)在光刻機(jī),特別是在EUV光刻機(jī)方面,更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:35
16742 隨著芯片制程工藝的更新迭代,芯片已進(jìn)入納米時(shí)代,指甲蓋大小的芯片上集成的晶體管數(shù)量高達(dá)百億。然而芯片制造最大的困難是光刻機(jī)。
2022-07-05 10:57:26
5743 三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購(gòu)協(xié)議。
2022-07-05 15:26:15
5634 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:07
7000 如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),只有asml一家公司可以制造出來(lái)。
2022-07-06 11:19:38
50685 EUV光刻機(jī)是在2018年開(kāi)始出現(xiàn),并在2019年開(kāi)始大量交付,而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:44
4523 大家都知道,芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了。現(xiàn)在,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī),那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢? 到現(xiàn)在,世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:42
42766 說(shuō)到芯片,估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么,但說(shuō)到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒(méi)有光刻機(jī)的話,就無(wú)法生產(chǎn)芯片,因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對(duì)芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:27
6977 可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計(jì)在光路系統(tǒng)的幫助下,能
2022-07-10 14:35:06
6173 目前,光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:10
78127 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī),是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:10
15099 光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備,其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢?下面我們就一起來(lái)看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:40
3116 聯(lián)發(fā)科、AMD、高通、英偉達(dá)合計(jì)占臺(tái)積電營(yíng)收比重逾三成。近期,臺(tái)積電這四大客戶陸續(xù)對(duì)外釋出相對(duì)保守的信息,比如聯(lián)發(fā)科調(diào)降年度營(yíng)收增幅展望,英偉達(dá)更高喊“庫(kù)存太高,要降價(jià)出清”。
2022-09-08 15:47:47
1744 沿,正是由于設(shè)備的先進(jìn)性同樣受到美國(guó)管制,不允許最先進(jìn)的光刻機(jī)賣給我國(guó)半導(dǎo)體廠商,但是ASML為了支持中國(guó)業(yè)務(wù)的增長(zhǎng),頂住了很大的壓力,已經(jīng)明確表示會(huì)繼續(xù)深耕中國(guó)市場(chǎng),ASML的產(chǎn)能就備受關(guān)注。 同時(shí)在5月份的時(shí)候,ASML首席執(zhí)行官兼總裁 Peter Wennink
2022-11-12 17:58:12
1786 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠商,憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵,主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場(chǎng)份額,但這并不代表著其他光刻機(jī)廠商也就“聽(tīng)天由命”了。以兩大國(guó)外光刻機(jī)
2022-11-24 07:10:03
3222 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/ 周凱揚(yáng) )到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后,單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。 為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來(lái)的埃米級(jí)工藝,將晶體管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 07:25:02
952 光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒(méi)步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:41
43 
了。 ? 芯片制造離不開(kāi)光刻機(jī),特別是在先進(jìn)制程上,EUV光刻機(jī)由來(lái)自荷蘭的ASML所壟斷。同時(shí),盡管目前市面上,EUV光刻機(jī)客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對(duì)后3nm時(shí)代的芯片制造工藝,High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:00
4635
評(píng)論